技術(shù)編號(hào):3404345
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及利用長(zhǎng)直層流電弧等離子體進(jìn)行噴涂的方法與裝置。這種方法與裝置可以在低輸入功率的條件下噴涂高熔點(diǎn)物質(zhì)的涂層,有效控制涂層組織,提高沉積率。與其不同,長(zhǎng)弧層流等離子體射流的出口溫度與湍流射流相當(dāng),但氣流流速約為湍流射流的一半。射流長(zhǎng)度可根據(jù)氣壓、氣流量、氣體種類(lèi)和輸入功率等產(chǎn)生條件的改變,在8~100cm寬的范圍內(nèi)明顯變化,弧長(zhǎng)與其直徑之比超過(guò)70。因此,粉體顆粒供入層流等離子體射流,在其高溫區(qū)的滯留和被加熱時(shí)間均比湍流射流條件下提高一個(gè)數(shù)量級(jí)。然而...
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