技術(shù)編號(hào)：3305463
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于非晶硒薄膜的蒸發(fā)鍍膜機(jī)，包括真空密封的鍍膜室，所述鍍膜室內(nèi)設(shè)有蒸發(fā)源和基片，其中，所述鍍膜室的中間區(qū)域?yàn)殄兡^(qū)，左右兩側(cè)為控溫區(qū)，所述蒸發(fā)源設(shè)置在鍍膜區(qū)內(nèi)，所述鍍膜區(qū)和控溫區(qū)內(nèi)設(shè)有導(dǎo)軌，所述基片的背面貼有銅背板并通過(guò)基片架固定在導(dǎo)軌上。本實(shí)用新型提供的用于非晶硒薄膜的蒸發(fā)鍍膜機(jī)，當(dāng)基片溫度由于蒸鍍后升高且接近臨界安全溫度時(shí)，基片沿著導(dǎo)軌移動(dòng)并停留在左端或右端控溫區(qū)降溫，在溫度降至安全溫度后再返回鍍膜區(qū)繼續(xù)鍍膜，直至厚度達(dá)到要求且溫度...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。