技術編號：3284767
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。，屬于濕法化學腐蝕制備三維結構領域，特點是在較低溫度下采用化學腐蝕的方法制備硅垂直三維結構，與傳統(tǒng)濕法化學方法制備三維結構相比，實用性強，很好地解決了各種形狀三維結構的陡直性問題，不受圖形形狀和晶向的限制。在微傳感器和集成電路制造等領域具有很大的應用前景。專利說明[0001]本發(fā)明涉及材料和化學領域，特別是涉及硅基垂直三維結構化學刻蝕的方法。背景技術[0002]濕法化學刻蝕技術是硅微細加工技術中常用的技術，與干法刻蝕相比較，化學刻蝕技術的加工成本更為低廉，...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。