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一種提高靶材濺射均勻性的旋轉(zhuǎn)平面磁控濺射靶的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3273888

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一種提高靶材濺射均勻性的旋轉(zhuǎn)平面磁控濺射靶[0001]本實(shí)用新型一種提高靶材濺射均勻性的旋轉(zhuǎn)平面磁控濺射靶,屬于真空鍍膜。背景技術(shù)[0002]真空鍍膜技術(shù)屬于一種物理氣相沉積成膜方法,在光學(xué)領(lǐng)域常用于光學(xué)鏡片膜層制備。磁控濺射方法具有沉積溫度低、濺射速率高、膜層致密、操作簡(jiǎn)單等優(yōu)點(diǎn),在科研及工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。目前真空鍍膜設(shè)備中常用的是平面磁控濺射靶,其中的磁鐵和靶是靜止不動(dòng)的,如圖1所示。圖1 (A)所示的磁場(chǎng)的分布特性導(dǎo)致靶材各個(gè)地方的濺射速率不一...
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