技術(shù)編號：3265823

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本實用新型涉及磁控濺射，尤其涉及一種磁控濺射靶與磁控濺射設(shè)備。背景技術(shù)磁控濺射是一種應(yīng)用廣泛的物理鍍膜工藝，在過去的幾十年里發(fā)展快速，如今它已經(jīng)成為在工業(yè)上進行廣泛的沉積覆層的重要技術(shù)。磁控濺射技術(shù)在許多應(yīng)用領(lǐng)域包括制造硬的、抗磨損的、低摩擦的、抗腐蝕的、裝潢的以及光電學薄膜等方面具有重要的影響。磁控濺射系統(tǒng)的原理異常輝光放電將充入真空室的氬氣電離，大量電子在磁場的束縛下沿著磁力線方向做螺旋線運動，不斷的撞擊氬氣分子，使之不斷電離出大量的氬正離子和電子，氬...
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