技術(shù)編號(hào)：3252114
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種過濾器，特別是涉及一種自由開放式線圈過濾器，用于對陰極電弧離子源進(jìn)行電磁場過濾以達(dá)到部分或者完全去除液態(tài)大顆粒，屬于鍍膜和材料表面改性。背景技術(shù) 利用陰極電弧離子源進(jìn)行的離子鍍(工業(yè)上常常稱之為多弧離子鍍，或者電弧離子鍍)是目前應(yīng)用最為廣泛的鍍膜工藝之一，相對于蒸鍍、濺射等鍍膜工藝來說，它具有離化率高(70％～90％)、膜基結(jié)合力好、沉積速率高的優(yōu)點(diǎn)。但是它具有一個(gè)非常大的缺點(diǎn)液態(tài)大顆粒的產(chǎn)生。這些液態(tài)大顆粒通常直徑在0.1μm到10μm左右...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。