技術(shù)編號(hào)：2851538
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及安裝在電極的周緣部的聚焦環(huán)以及具備安裝有該聚焦 環(huán)的電極的等離子體處理裝置。背景技術(shù)為了對(duì)平板等離子體用基板(以下稱為FPD用玻璃基板)等的被 處理體實(shí)施蝕刻等處理而使用等離子體處理裝置。對(duì)于等離子體裝置而言，例如，如專利文獻(xiàn)l中所述，具有對(duì)被 處理體實(shí)施等離子體處理的處理室，在該處理室內(nèi)，配置有互相相對(duì) 的上部電極和兼做載置被處理體的載置臺(tái)的下部電極。向上部電極和 下部電極之間施加高頻電力從而在上部電極和下部電極之間的處理空 間產(chǎn)生等離子體。在...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。