技術(shù)編號(hào)：2818224
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體工藝，特別涉及一種半導(dǎo)體制造工藝中的曝光機(jī)的曝光焦 點(diǎn)的監(jiān)控方法。背景技術(shù)半導(dǎo)體工藝中常利用曝光的程序在半導(dǎo)體材料上形成相應(yīng)的線路圖案。曝光技術(shù) 的進(jìn)步及所用光的波長(zhǎng)變小使得形成精細(xì)的線路圖案成為可能，由此可以使得單位面積上 可形成的圖案密度變大，線寬變小。由于特征圖案越來越小，甚至到亞波長(zhǎng)量級(jí)，因此光臨近效應(yīng)會(huì)變得比較嚴(yán)重而 導(dǎo)致印刷轉(zhuǎn)移圖像不清晰、扭曲。此時(shí)若離焦較多，更會(huì)由于非焦點(diǎn)的衍射特性而產(chǎn)生印刷 轉(zhuǎn)移圖像的形變與模糊。因此，...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。