技術(shù)編號：2794302
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造，具體地，涉及一種應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻裝置的大視場折反射投影物鏡。 背景技術(shù)目前在半導(dǎo)體或液晶平板(FPDs)加工領(lǐng)域，折反射或全反射系統(tǒng)由于其在色差校正方面的優(yōu)勢，有著多種不同形式的應(yīng)用。且多數(shù)以大的曝光視場，寬光譜帶寬為考慮的主要設(shè)計(jì)目標(biāo)，同時為了配合掩模尺寸，很多光學(xué)系統(tǒng)采用大于I倍甚至接近2倍放大倍率的投影物鏡。美國專利US2004/0263429A1介紹了一種平板顯示(FPDs)用投影物鏡，曝光光譜為ghi線，主要由一片反射主鏡(...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。