技術(shù)編號：2793663
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種集成電路制造裝備，尤其涉及一種用于掩模對準(zhǔn)的探測器系統(tǒng)及探測方法。背景技術(shù)光刻設(shè)備是一種應(yīng)用于集成電路制造的裝備，利用該裝備包括但不限于集成電路制造光刻裝置、液晶面板光刻裝置、光掩?？逃⊙b置、MEMS(微電子機(jī)械系統(tǒng))/MOMS(微光機(jī)系統(tǒng))光刻裝置、先進(jìn)封裝光刻裝置、印刷電路板光刻裝置及印刷電路板加工裝置等。利用光刻設(shè)備實現(xiàn)曝光的過程中，掩模版與曝光對象(例如硅片、印刷電路板等)的位置必須對準(zhǔn)，通常掩模版上方與曝光對象上方均配置一定的位置對...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。