技術(shù)編號：2787928
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種步進式曝光機技術(shù)，尤其是指用于提高步進式曝光機的對準精確度及曝光速率的一種。背景技術(shù) 曝光制程為微影制程(photo-lithography)中的一部份，微影制程廣泛地應(yīng)用于例如半導(dǎo)體(Semiconductor)、液晶顯示面板(Liquid crystal display)、以及印刷電路板(Printedcircuit board)等產(chǎn)業(yè)。曝光方法通常運用一曝光機，將一光罩上的圖案轉(zhuǎn)移至一感旋光性基板上?；宄?jīng)曝光外，還需經(jīng)烘烤、去光阻、...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。