技術(shù)編號(hào):2783770
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。屬彩色數(shù)碼沖印。背景技術(shù)光學(xué)微移早先國(guó)外有兩種位移方案,一種是壓電陶瓷位移方案,其優(yōu)點(diǎn)是體積小,易于安裝;缺點(diǎn)是有滯后現(xiàn)象,不能快速精確定位,且有高壓電,不安全。第二種是光學(xué)位移方案,優(yōu)點(diǎn)是能夠快速實(shí)現(xiàn)光學(xué)位移;缺點(diǎn)是因X方向位移旋轉(zhuǎn)電機(jī)固定在Y方向位移旋轉(zhuǎn)支架上,X電機(jī)控制線路隨Y電機(jī)旋轉(zhuǎn)而運(yùn)動(dòng),使Y電機(jī)負(fù)載加大,阻力增大,影響了Y位移精度。發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型提供能快速定位,不增加電機(jī)阻力和負(fù)載,位移精度高的一種光學(xué)微移裝置。本實(shí)用新型采取的技術(shù)方案采用...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。