技術(shù)編號：2772670
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明一般涉及光刻系統(tǒng)，具體涉及光刻系統(tǒng)中的膠片和標(biāo)線片框架。背景技術(shù) 在制造集成電路時，利用光刻和投影曬印技術(shù)。在光刻術(shù)中，標(biāo)線片上包含的圖像投影到有光敏抗蝕劑的晶片上。標(biāo)線片或掩模用于轉(zhuǎn)移所需圖像到硅晶片。半導(dǎo)體晶片表面涂敷光敏抗蝕劑，因此，圖像可以蝕刻在其上面。膠片可以與標(biāo)線片結(jié)合使用以保護(hù)標(biāo)線片表面免遭損傷。膠片通常安裝到標(biāo)線片的堅實(shí)框架。光刻術(shù)中使用的一些光波長對于大氣中氧的吸收很敏感。因此，當(dāng)這種氧敏感的光波長用于光刻術(shù)時，這些光波長必須傳輸通...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。