技術(shù)編號(hào)：2750523
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明的實(shí)施例涉及用于通過使用自組裝嵌段共聚物來使襯底圖案化的方法、印 模和系統(tǒng)，和由所述方法產(chǎn)生的裝置。背景技術(shù)平板印刷術(shù)(Lithography)為制造半導(dǎo)體集成電路中的關(guān)鍵方法。光刻術(shù) (Photolithography)通常涉及透過光罩(reticle)或掩模(mask)將影像投射至覆蓋半導(dǎo) 體晶片或其它襯底的光致抗蝕劑或其它材料的薄膜上，和在后續(xù)處理步驟中使膜顯影以去 除抗蝕劑的暴露或未暴露部分以產(chǎn)生圖案。在半導(dǎo)體處理中，特征尺寸的不斷縮減和納米...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。