技術(shù)編號：2743825
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本申請是分案申請，原案的申請?zhí)枮?00510108595.3，申請日為2005年10月11日，發(fā)明名稱為"用于曝光襯底的裝置、該裝置的光掩模和改進照明系統(tǒng)、以及利用該裝置在襯底上形成圖形的方法"。背景技術(shù)本發(fā)明涉及在半導(dǎo)體器件等制造中使用的光刻設(shè)備的曝光裝置。更為具體地，本發(fā)明涉及該曝光裝置的光掩模和照明系統(tǒng)。半導(dǎo)體器件的集成電路的制造包括光刻工藝，在該工藝中，將光掩模轉(zhuǎn)錄到晶片的光致抗蝕劑層(WPR) ， §卩，涂敷晶片的光致抗蝕劑層。更為具體地，利用光...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。