技術(shù)編號(hào)：2743806
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明關(guān)于透過(guò)液體^J4反曝光的。 背景技術(shù)半導(dǎo)體元件或液晶顯示元件，是通過(guò)將形成于掩膜版上的圖案轉(zhuǎn)印于感光 性基板上、即所謂的光刻方法來(lái)制造。此光刻步驟所使用的曝光裝置，具有支 撐掩膜版的掩膜版載臺(tái)與支撐基板的基板載臺(tái)，使掩膜版載臺(tái)與基板載臺(tái) 一邊 逐次移動(dòng)一邊透過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)將掩膜版的圖案轉(zhuǎn)印于基板。近年來(lái)，為對(duì)應(yīng) 元件圖案的更高集成化，而期待投影光學(xué)系統(tǒng)具有更高分辨率。投影光學(xué)系統(tǒng) 的分辨率，是所使用的曝光波長(zhǎng)越短、或投影光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑越大則會(huì)越...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。