技術(shù)編號：2739234
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻的曝光系統(tǒng)及其光刻機，具體涉及一種平面反射 式復(fù)眼冷光源曝光系統(tǒng)及其光刻機。背景技術(shù)集成電路制造過程中的重要部分是光刻技術(shù)，至今為止，光學(xué)光刻技術(shù)仍 然在集成電路制造中占有絕對的主導(dǎo)地位，曝光波長向深紫外發(fā)展，已經(jīng)采用 了 196納米的深紫外光譜，光刻線寬也已達(dá)到納米級。在中國國內(nèi)，接近接觸式光刻機仍然占據(jù)著主導(dǎo)地位，曝光技術(shù)的優(yōu)劣將 直接影響到光刻線條的質(zhì)量。目前，在國內(nèi)外通常所采用的曝光技術(shù)有(1) 多透鏡復(fù)眼曝光系統(tǒng)。平行光通過多透鏡形...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。