技術(shù)編號：2697257
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。一種投影曝光設(shè)備，具有掩模、投影物鏡、工件臺、硅片、光源、投影單元、探測單元、信號處理單元、主控制器，投影物鏡用于將掩模的圖案投影到位于工件臺上的硅片的上表面，光源發(fā)出的光線經(jīng)投影單元入射到硅片上，經(jīng)由硅片的上表面反射后，被探測單元接收，信號處理單元對接收到的光信號進行處理并獲得硅片上表面在當前測量區(qū)域的位姿信息，并將該信息傳送給主控制器，其中，投影曝光設(shè)備在硅片上布置有多個測量光斑，有多個測量點布置在曝光場外部，在曝光場外部周圍布置有若干測量光斑。專利說...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。