技術(shù)編號(hào)：2451224
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型公開了一種多層結(jié)構(gòu)的阻隔真空膜，包括基材層，還包括設(shè)于基材層一側(cè)或兩側(cè)的至少一層阻隔層，阻隔層為由無機(jī)物構(gòu)成的阻隔層。本實(shí)用新型通過采用磁增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)在基材層的表面沉積一層由無機(jī)物構(gòu)成的阻隔層時(shí)，形成的阻隔真空膜的阻隔層上層有一層約11nm的粗糙層，其中空氣成分體積比達(dá)到30%，極大地增強(qiáng)了基材的阻氧性以上的阻隔層；當(dāng)沉積兩層以上的阻隔層時(shí)，可以有效地延長水蒸氣在材料表面或?qū)娱g透過的時(shí)間，降低水蒸氣透過率，同時(shí)提高材料的阻氧性，使內(nèi)包裝物...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。