技術(shù)編號(hào)：12839664
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體處理裝置，特別是涉及半導(dǎo)體處理裝置的均勻加熱技術(shù)領(lǐng)域。背景技術(shù)半導(dǎo)體處理裝置在現(xiàn)有技術(shù)中是公知的，并廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路、平板顯示器，發(fā)光二極管(LED)，太陽(yáng)能電池等的制造工業(yè)內(nèi)。其中一類等離子體處理裝置是半導(dǎo)體處理裝置中的重要組成部分，在等離子體處理裝置中通常會(huì)施加至少一個(gè)射頻電源以產(chǎn)生并維持等離子體于反應(yīng)腔中。其中，有許多不同的方式施加射頻功率，每個(gè)不同方式的設(shè)計(jì)都將導(dǎo)致不同的特性，比如效率、等離子解離、均一性等等。其中，一種設(shè)計(jì)是電感耦合(ICP)等離子腔。在電感耦合...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路，無(wú)完整電路圖，適合研究學(xué)習(xí)。