技術編號:11376968
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及半導體激光器領域,尤其涉及一種新型的用于冷卻介質以及半導體激光器的制冷系統(tǒng)。背景技術半導體激光器常用的冷卻方式有風冷和水冷兩種。風冷裝置簡單,體積小,但是散熱效率不高,常用于百瓦級以下的激光系統(tǒng)制冷。水冷方式多用于需要大功率散熱的場合,其散熱效率高,但是往往需要引入壓縮機、半導體制冷片等制冷裝置,同時為了確保水路的循環(huán),還需引入水泵、水箱等輔助裝置,造成整體系統(tǒng)龐大,很難適用于要求體積小、重量輕、電力供應緊張的場合。對于緊湊型脈沖高能量半導體激光發(fā)射系統(tǒng)來說,其發(fā)射特點兼具間歇性與...
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