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在粉末表面均勻鍍膜的原子層沉積裝置及其方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:10645785

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微納米尺寸的粉末材料,因為表現(xiàn)出諸多優(yōu)異的物化性能而在諸如電池電極材料、催化劑等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,如果能在其表面均勻鍍上一層納米級薄膜,將會帶來更多積極的效果。目前主要是利用固相法、液相法和氣相法在微納米粉末表面鍍膜,但這些方法都無法同時解決均勻鍍膜、膜厚精確控制等問題。原子層沉積技術(shù)是一種利用反應(yīng)氣體在材料表面交替飽和自吸附并發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成目標(biāo)物質(zhì)的氣相化學(xué)氣相沉積技術(shù)。到目前為止,原子層沉積方法是唯一可以在大的比表面積材料表面均勻鍍膜且精確控制膜厚的技術(shù)...
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