一種多晶制絨設(shè)備藥液冷卻系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及太陽(yáng)能技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種多晶制絨設(shè)備藥液冷卻系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著太陽(yáng)能技術(shù)的高速發(fā)展及分布式屋頂?shù)男枨?，市?chǎng)對(duì)太陽(yáng)能電池片的外觀要求也越來(lái)越高，特別是色差要求越來(lái)越嚴(yán)，而造成多晶電池片單片色差的主要原因?yàn)橹平q后絨面大小均勻性的問(wèn)題。
[0003]目前行業(yè)內(nèi)多晶制絨大多采用HF/HN03的混酸體系，由于反應(yīng)劇烈放熱，常溫下反應(yīng)速率很難控制，故業(yè)內(nèi)制絨設(shè)備均采用兩個(gè)槽的設(shè)計(jì)，即一個(gè)儲(chǔ)液槽和一個(gè)反應(yīng)槽，并且在儲(chǔ)液槽中設(shè)置冷卻盤(pán)管，達(dá)到冷卻反應(yīng)藥液的目的，再通過(guò)栗浦將冷卻后的藥液打入反應(yīng)槽進(jìn)行反應(yīng)，如此循環(huán)。
[0004]經(jīng)過(guò)大量實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證，反應(yīng)槽內(nèi)藥液的溫度均勻性不佳，而反應(yīng)速率又與藥液溫度關(guān)系密切，所以現(xiàn)有技術(shù)會(huì)造成單片電池片內(nèi)各不同區(qū)域的反應(yīng)速率不一致，從而絨面大小不一致，造成色差。
[0005]現(xiàn)有技術(shù)會(huì)造成反應(yīng)區(qū)溫度均勻性不佳的主要原因是現(xiàn)有技術(shù)將冷卻裝置放置于儲(chǔ)液槽中，且排布不規(guī)則，致使冷卻藥液的均勻性不好，另外，冷卻后的藥液還要通過(guò)管路輸送到反應(yīng)槽，使到達(dá)反應(yīng)槽的藥液溫度均勻性更差。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]發(fā)明目的:針對(duì)現(xiàn)有多晶太陽(yáng)能電池片制絨設(shè)備通冷卻藥液均勻性不好的問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種多晶制絨設(shè)備藥液冷卻系統(tǒng)。
[0007]技術(shù)方案:一種多晶制絨設(shè)備藥液冷卻系統(tǒng)，包括制絨槽體，以及設(shè)置在制絨槽體內(nèi)的滾輪和冷卻盤(pán)管，所述冷卻盤(pán)管位于滾輪下方，包括盤(pán)管主體、冷卻液進(jìn)口和冷卻液回流口，所述冷卻盤(pán)管的軸向與制絨槽體底部平行，且與滾輪傳輸方向垂直。
[0008]所述制絨槽體的每個(gè)反應(yīng)池內(nèi)均勻排布有多根冷卻盤(pán)管，所述冷卻盤(pán)管之間相平行。
[0009]所述冷卻盤(pán)管靠近滾輪排列。
[0010]所述冷卻盤(pán)管頂端與滾輪中心的距離為25mm。
[0011 ] 所述冷卻液進(jìn)口和冷卻液回流口均與盤(pán)管主體垂直。
[0012]有益效果:本實(shí)用新型提供的多晶制絨設(shè)備藥液冷卻系統(tǒng)，能有效改善反應(yīng)區(qū)藥液溫度的均勻性，確保硅片在反應(yīng)時(shí)各區(qū)域的溫度趨于一致，保證硅片絨面的一致性，從而解決批量生產(chǎn)時(shí)的色差問(wèn)題。
【附圖說(shuō)明】
[0013]圖1為現(xiàn)有的制絨槽反應(yīng)區(qū)的俯視圖；
[0014]圖2為現(xiàn)有的制絨槽反應(yīng)區(qū)的正視圖；
[0015]圖3為本實(shí)用新型的制絨槽反應(yīng)區(qū)的俯視圖；
[0016]圖4為本實(shí)用新型的冷卻盤(pán)管的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0017]下面結(jié)合具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡明本實(shí)用新型，應(yīng)理解這些實(shí)施例僅用于說(shuō)明本實(shí)用新型而不用于限制本實(shí)用新型的范圍，在閱讀了本實(shí)用新型之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員對(duì)本實(shí)用新型的各種等同變換均落于本申請(qǐng)所附權(quán)利要求所限定的范圍。
[0018]如圖3-4所示的多晶制絨設(shè)備藥液冷卻系統(tǒng)，包括制絨槽體2、設(shè)置在制絨槽體2內(nèi)的滾輪I和均勻排布在每個(gè)反應(yīng)池內(nèi)的多根冷卻盤(pán)管3，所述冷卻盤(pán)管3位于滾輪I下方且冷卻盤(pán)管3頂端與滾輪I中心的距離為25mm，冷卻盤(pán)管3包括盤(pán)管主體、冷卻液進(jìn)口 4和冷卻液回流口 5，所述盤(pán)管主體的軸向與制絨槽體底部平行，且與滾輪I的傳輸方向垂直，所述冷卻液進(jìn)口 4和冷卻液回流口 5均與盤(pán)管主體垂直。
[0019]本實(shí)用新型提出的多晶制絨設(shè)備藥液冷卻系統(tǒng)，滾輪I輸送硅片在制絨槽體2的每個(gè)反應(yīng)池內(nèi)進(jìn)行反應(yīng)，反應(yīng)池內(nèi)的冷卻盤(pán)管3規(guī)則地靠近硅片排列，冷卻盤(pán)管3中冷卻液通過(guò)冷卻液進(jìn)口和冷卻液回流口不停地進(jìn)行循環(huán)，實(shí)現(xiàn)快速、均勻冷卻反應(yīng)液的目的。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種多晶制絨設(shè)備藥液冷卻系統(tǒng)，其特征在于:包括制絨槽體，以及設(shè)置在制絨槽體內(nèi)的滾輪和冷卻盤(pán)管，所述冷卻盤(pán)管位于滾輪下方，包括盤(pán)管主體、冷卻液進(jìn)口和冷卻液回流口，所述冷卻盤(pán)管的軸向與制絨槽體底部平行，且與滾輪傳輸方向垂直。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶制絨設(shè)備藥液冷卻系統(tǒng)，其特征在于:所述制絨槽體的每個(gè)反應(yīng)池內(nèi)均勻排布有多根冷卻盤(pán)管，所述冷卻盤(pán)管之間相平行。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶制絨設(shè)備藥液冷卻系統(tǒng)，其特征在于:所述冷卻盤(pán)管靠近滾輪排列。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的多晶制絨設(shè)備藥液冷卻系統(tǒng)，其特征在于:所述冷卻盤(pán)管頂端與滾輪中心的距離為25mm。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶制絨設(shè)備藥液冷卻系統(tǒng)，其特征在于:所述冷卻液進(jìn)口和冷卻液回流口均與盤(pán)管主體垂直。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種多晶制絨設(shè)備藥液冷卻系統(tǒng)，包括制絨槽體，以及設(shè)置在制絨槽體內(nèi)的滾輪和冷卻盤(pán)管，所述冷卻盤(pán)管位于滾輪下方，包括盤(pán)管主體、冷卻液進(jìn)口和冷卻液回流口，所述冷卻盤(pán)管的軸向與制絨槽體底部平行，且與滾輪傳輸方向垂直。本實(shí)用新型提供的多晶制絨設(shè)備藥液冷卻系統(tǒng)，能有效改善反應(yīng)區(qū)藥液溫度的均勻性，確保硅片在反應(yīng)時(shí)各區(qū)域的溫度趨于一致，保證硅片絨面的一致性，從而解決批量生產(chǎn)時(shí)的色差問(wèn)題。
【IPC分類(lèi)】H01L31/18, H01L21/67
【公開(kāi)號(hào)】CN205355019
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201620083016
【發(fā)明人】宋劍, 孫月新, 黃華, 范瓊, 梅曉東, 劉林華
【申請(qǐng)人】無(wú)錫德鑫太陽(yáng)能電力有限公司
【公開(kāi)日】2016年6月29日
【申請(qǐng)日】2016年1月27日