線圈盤(pán)和電磁爐的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種線圈盤(pán)和電磁爐。該線圈盤(pán)包括電路板基板，電路板基板上印刷有導(dǎo)電金屬層帶，導(dǎo)電金屬層帶螺旋環(huán)繞，構(gòu)成多環(huán)金屬箔線圈，導(dǎo)電金屬層帶上設(shè)有至少一個(gè)凹槽，以增大金屬箔線圈的表面積。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的線圈盤(pán)，其電路板基板的導(dǎo)電金屬層帶上設(shè)有至少一個(gè)凹槽，凹槽的設(shè)置，可增大金屬箔線圈的表面積，降低趨膚效應(yīng)造成的損耗，進(jìn)而增大了電磁爐的加熱效率。
【專利說(shuō)明】線圈盤(pán)和電磁爐

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及電磁加熱【技術(shù)領(lǐng)域】，更具體而言，涉及一種線圈盤(pán)和包括該線圈盤(pán)的電磁爐。

【背景技術(shù)】
[0002]如圖1至圖3所示，現(xiàn)有的PCB(印刷電路板)線圈盤(pán)I ,上，其電路板10 ,上的每圈的銅箔10(Τ均是由單條銅箔組成，造成銅箔的表面積較小，線圈盤(pán)I y工作時(shí)因趨膚效應(yīng)(當(dāng)導(dǎo)體中有交流電或者交變電磁場(chǎng)時(shí)，導(dǎo)體內(nèi)部的電路分布不均勻，且電流集中在導(dǎo)體的“皮膚”部分的一種現(xiàn)象。導(dǎo)線內(nèi)部實(shí)際上的電流變小，電流集中在導(dǎo)線外表面的薄層，結(jié)果導(dǎo)致導(dǎo)線的電阻增加，使它的損耗功率也增加，這一現(xiàn)象稱為趨膚效應(yīng))造成的損耗大，從而影響了電磁爐的加熱效率。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一。
[0004]為此，本實(shí)用新型一個(gè)方面的目的在于，提供一種可增大導(dǎo)電金屬層的表面積、降低趨膚效應(yīng)造成的損耗的線圈盤(pán)。
[0005]本實(shí)用新型另一個(gè)方面的目的在于，提供一種包括上述線圈盤(pán)的電磁爐。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的實(shí)施例提供了一種線圈盤(pán)，包括電路板基板，所述電路板基板上印刷有導(dǎo)電金屬層帶，所述導(dǎo)電金屬層帶螺旋環(huán)繞，構(gòu)成多環(huán)金屬箔線圈，所述導(dǎo)電金屬層帶上設(shè)有至少一個(gè)凹槽，以增大所述金屬箔線圈的表面積。
[0007]本實(shí)用新型的上述實(shí)施例所述的線圈盤(pán)為PCB線圈盤(pán)，其電路板基板上印刷有導(dǎo)電金屬層帶，螺旋環(huán)繞構(gòu)成線圈盤(pán)的多環(huán)金屬箔線圈，導(dǎo)電金屬層帶上設(shè)有至少一個(gè)凹槽，凹槽的設(shè)置，可增大金屬箔線圈的表面積，降低趨膚效應(yīng)造成的損耗，進(jìn)而增大了電磁爐的加熱效率。
[0008]另外，本實(shí)用新型上述實(shí)施例提供的線圈盤(pán)還具有如下附加技術(shù)特征:
[0009]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述凹槽沿所述導(dǎo)電金屬層帶的長(zhǎng)度方向連線設(shè)置，且不貫穿所述導(dǎo)電金屬層帶的端部。
[0010]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述凹槽在厚度方向貫穿所述導(dǎo)電金屬層帶或者在厚度方向不貫穿所述導(dǎo)電金屬層帶。
[0011]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述凹槽的寬度不小于0.1mm，且不大于所述導(dǎo)電金屬層帶的厚度的2倍。
[0012]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述導(dǎo)電金屬層帶上設(shè)置有兩個(gè)所述凹槽。
[0013]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述導(dǎo)電金屬層帶螺旋環(huán)繞而構(gòu)成多環(huán)金屬箔線圈的環(huán)間距為0.3-lmm。
[0014]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述導(dǎo)電金屬層帶為銅箔層。
[0015]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述電路板基板為圓形板。
[0016]本實(shí)用新型另一方面的實(shí)施例提供了一種電磁爐，包括有上述任一實(shí)施例所述的線圈盤(pán)。
[0017]本實(shí)用新型的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述部分中變得明顯，或通過(guò)本實(shí)用新型的實(shí)踐了解到。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0018]本實(shí)用新型的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中:
[0019]圖1是根據(jù)相關(guān)技術(shù)所述的線圈盤(pán)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2是圖1的A-A向剖視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖3是圖1的B部結(jié)構(gòu)放大示意圖；
[0022]圖4是根據(jù)本實(shí)用新型一實(shí)施例所述線圈盤(pán)的立體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖5是圖4的主視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖6是圖5的C-C向剖視結(jié)構(gòu)放大示意圖；
[0025]圖7是圖5的D部結(jié)構(gòu)放大示意圖。
[0026]其中，圖1至圖3中附圖標(biāo)記與部件名稱之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系為:
[0027]K線圈盤(pán)，1(Τ電路板，10(Τ銅箔
[0028]圖4至圖7中附圖標(biāo)記與部件名稱之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系為:
[0029]I線圈盤(pán)，10電路板基板，100導(dǎo)電金屬層帶，101凹槽

【具體實(shí)施方式】
[0030]為了能夠更清楚地理解本實(shí)用新型的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步的詳細(xì)描述。需要說(shuō)明的是，在不沖突的情況下，本申請(qǐng)的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。
[0031]在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本實(shí)用新型，但是，本實(shí)用新型還可以采用其他不同于在此描述的方式來(lái)實(shí)施，因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不受下面公開(kāi)的具體實(shí)施例的限制。
[0032]下面參照附圖描述根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例提供的線圈盤(pán)。
[0033]如圖4至圖7所示，根據(jù)本實(shí)用新型一些實(shí)施例提供的線圈盤(pán)1，包括電路板基板10，所述電路板基板10上印刷有導(dǎo)電金屬層帶100，所述導(dǎo)電金屬層帶100螺旋環(huán)繞，構(gòu)成多環(huán)金屬箔線圈，所述導(dǎo)電金屬層帶100上設(shè)有至少一個(gè)凹槽101，以增大所述金屬箔線圈的表面積。
[0034]本實(shí)用新型的上述實(shí)施例所述的線圈盤(pán)為PCB線圈盤(pán)，其電路板基板上設(shè)有導(dǎo)電金屬層帶，螺旋環(huán)繞構(gòu)成線圈盤(pán)的多環(huán)金屬箔線圈，導(dǎo)電金屬層帶上設(shè)有至少一個(gè)凹槽，凹槽的設(shè)置，可增大金屬箔線圈的表面積，降低趨膚效應(yīng)造成的損耗，進(jìn)而增大了電磁爐的加熱效率。
[0035]在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中，所述凹槽101沿所述導(dǎo)電金屬層帶100的長(zhǎng)度方向連續(xù)設(shè)置，且不貫穿所述導(dǎo)電金屬層帶100的端部。
[0036]凹槽沿導(dǎo)電金屬層帶的長(zhǎng)度方向設(shè)置，且不貫穿導(dǎo)電金屬層帶的端部，凹槽不貫穿導(dǎo)電金屬層帶100的端部，以免凹槽將一導(dǎo)電金屬層帶分隔呈多個(gè)相互獨(dú)立的導(dǎo)電金屬區(qū)域。
[0037]在圖4至圖7所示的具體示例中，所述凹槽101在厚度方向貫穿所述導(dǎo)電金屬層帶100，且所述凹槽101在長(zhǎng)度方向不貫穿所述導(dǎo)電金屬層帶100的端部
[0038]進(jìn)一步，如圖6所示，所述凹槽101的寬度b不小于0.1mm，且不大于2h(h表示導(dǎo)電金屬層帶的厚度)。
[0039]需要說(shuō)明的是，凹槽也可以在厚度方向部貫穿導(dǎo)電金屬層帶。
[0040]在本實(shí)用新型的一優(yōu)選實(shí)施例中，所述導(dǎo)電金屬層帶100上設(shè)置有兩個(gè)所述凹槽101，如圖6所示，圖中凹槽101為兩個(gè)，兩個(gè)凹槽101將每環(huán)導(dǎo)電金屬層帶100分成三匝。
[0041]導(dǎo)電金屬層帶上設(shè)置有兩個(gè)凹槽，一方面可防止凹槽開(kāi)設(shè)數(shù)量過(guò)少，不能有效地增加金屬箔線圈的表面積，達(dá)到降低趨膚效應(yīng)造成的損耗的目的，另一方面可防止凹槽開(kāi)設(shè)數(shù)量過(guò)多，使得金屬箔線圈的表面積不增反降。
[0042]在本實(shí)用新型的實(shí)施例中，凹槽101的開(kāi)設(shè)是為了增加金屬箔線圈的表面積，若凹槽101沿厚度方向貫穿導(dǎo)電金屬層帶100，則凹槽101的寬度b與導(dǎo)電金屬層帶100的厚度h、凹槽101開(kāi)設(shè)數(shù)量η之間的關(guān)系應(yīng)滿足:nb < 2nh，即b < 2h。
[0043]在本實(shí)用新型的一具體實(shí)施例中，如圖6所示，所述導(dǎo)電金屬層帶100螺旋環(huán)繞而構(gòu)成多環(huán)金屬箔線圈的環(huán)間距a為0.3-lmm。
[0044]進(jìn)一步，所述導(dǎo)電金屬層帶100為銅箔層。
[0045]更進(jìn)一步，如圖4和圖5所不，所述電路板基板10為圓形板。
[0046]需要說(shuō)明的是，電路板基板呈圓形，以便與電磁爐的結(jié)構(gòu)相適配，當(dāng)然電路板基板也可以為其他形狀，在此不再贅述；導(dǎo)電金屬層為銅箔層，銅箔層的導(dǎo)電性好，且價(jià)格相對(duì)便宜，當(dāng)然，導(dǎo)電金屬線層不僅可以為銅箔層，還可以其他金屬層，如:金、銀、鎳等；金屬箔線圈同樣可以為螺旋狀外的其他形狀。
[0047]本實(shí)用新型另一方面的實(shí)施例提供了一種電磁爐(圖中未示出)，包括有上述任一實(shí)施例所述的線圈盤(pán)，并具有上述實(shí)施例所述線圈盤(pán)的全部有益效果。
[0048]綜上所述，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的線圈盤(pán)，其電路板基板的導(dǎo)電金屬層帶上設(shè)有至少一個(gè)凹槽，凹槽的設(shè)置，可增大金屬箔線圈的表面積，降低趨膚效應(yīng)造成的損耗，進(jìn)而增大了電磁爐的加熱效率。
[0049]在本實(shí)用新型的描述中，術(shù)語(yǔ)“固定”等均應(yīng)做廣義理解，例如，“固定”可以是可拆卸地固定，或不可拆地固定；可以是直接固定，也可以通過(guò)中間媒介間接固定。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本實(shí)用新型中的具體含義。
[0050]在本說(shuō)明書(shū)的描述中，術(shù)語(yǔ)“一個(gè)實(shí)施例”、“一些實(shí)施例”、“具體實(shí)施例” “具體示例”等的描述意指結(jié)合該實(shí)施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或特點(diǎn)包含于本實(shí)用新型的至少一個(gè)實(shí)施例或示例中。在本說(shuō)明書(shū)中，對(duì)上述術(shù)語(yǔ)的示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例或?qū)嵗６?，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或特點(diǎn)可以在任何的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例或示例中以合適的方式結(jié)合。
[0051]以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，本實(shí)用新型可以有各種更改和變化。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種線圈盤(pán)，其特征在于，包括電路板基板，所述電路板基板上印刷有導(dǎo)電金屬層帶，所述導(dǎo)電金屬層帶螺旋環(huán)繞，構(gòu)成多環(huán)金屬箔線圈，所述導(dǎo)電金屬層帶上設(shè)有至少一個(gè)凹槽，以增大所述金屬箔線圈的表面積。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈盤(pán)，其特征在于， 所述凹槽沿所述導(dǎo)電金屬層帶的長(zhǎng)度方向連續(xù)設(shè)置且不貫穿所述導(dǎo)電金屬層帶的端部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的線圈盤(pán)，其特征在于， 所述凹槽在厚度方向上貫穿所述導(dǎo)電金屬層帶或者在厚度方向上不貫穿所述導(dǎo)電金屬層帶。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的線圈盤(pán)，其特征在于， 所述凹槽的寬度不小于0.1mm，且不大于所述導(dǎo)電金屬層帶的厚度的2倍。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈盤(pán)，其特征在于， 所述導(dǎo)電金屬層帶上設(shè)置有兩個(gè)所述凹槽。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的線圈盤(pán)，其特征在于， 所述導(dǎo)電金屬層帶螺旋環(huán)繞而構(gòu)成多環(huán)金屬箔線圈的環(huán)間距為0.3-1_。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的線圈盤(pán)，其特征在于， 所述導(dǎo)電金屬層帶為銅箔層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的線圈盤(pán)，其特征在于， 所述電路板基板為圓形板。
9.一種電磁爐，其特征在于，包括有如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的線圈盤(pán)。
【文檔編號(hào)】H05B6/36GK204014143SQ201420423211
【公開(kāi)日】2014年12月10日 申請(qǐng)日期:2014年7月29日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月29日
【發(fā)明者】梁堅(jiān)民, 何田田 申請(qǐng)人:佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司, 美的集團(tuán)股份有限公司