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攝像模組及應(yīng)用于攝像模組的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的制作方法

文檔序號(hào):40613772發(fā)布日期:2025-01-07 21:00閱讀:15來(lái)源:國(guó)知局
攝像模組及應(yīng)用于攝像模組的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的制作方法

本申請(qǐng)涉及電子,具體涉及攝像模組及應(yīng)用于攝像模組的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。


背景技術(shù):

1、電子設(shè)備通常設(shè)有攝像模組,隨著生活水平的提高,人們?cè)絹?lái)越重視攝像防抖的表現(xiàn),以期獲得成像質(zhì)量更高的相片。人們期望在例如智能手機(jī)、平板電腦等便攜式設(shè)備上安裝小尺寸、高像素且兼具防抖能力的攝像模組以獲得更佳的使用體驗(yàn)?,F(xiàn)有技術(shù)中將光學(xué)鏡頭設(shè)置在一活動(dòng)件上,將活動(dòng)件活動(dòng)設(shè)置在一固定件上,并在兩者之間安裝壓電馬達(dá),壓電馬達(dá)一方面向活動(dòng)件提供預(yù)壓力以便抵接于活動(dòng)件,另一方面能夠通過(guò)摩擦力驅(qū)動(dòng)活動(dòng)件相對(duì)固定件位移,從而實(shí)現(xiàn)鏡頭調(diào)整功能。但正由于該預(yù)壓力的存在,使得活動(dòng)件可能相對(duì)固定件發(fā)生傾斜,從而導(dǎo)致活動(dòng)件卡在某個(gè)位置,失去鏡頭調(diào)節(jié)功能,導(dǎo)致攝像模組的成像質(zhì)量降低。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請(qǐng)的一個(gè)目的在于提供一種應(yīng)用于攝像模組的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),能夠避免活動(dòng)件相對(duì)固定件傾斜,從而實(shí)現(xiàn)防止活動(dòng)件相對(duì)固定件卡死。

2、本申請(qǐng)的另一個(gè)目的在于提供一種攝像模組,由于搭載有光學(xué)鏡頭的活動(dòng)件能夠順暢地調(diào)節(jié),利于提高成像質(zhì)量。

3、為達(dá)到本申請(qǐng)的目的之一,本申請(qǐng)采用的技術(shù)方案為:一種應(yīng)用于攝像模組的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其包括:

4、固定件,所述固定件包括支撐面;

5、活動(dòng)件,所述活動(dòng)件被可活動(dòng)地設(shè)置于所述固定件,所述活動(dòng)件包括與所述支撐面相對(duì)設(shè)置的接觸面;

6、導(dǎo)向組件,所述導(dǎo)向組件位于所述支撐面和所述接觸面之間,以使得所述固定件和所述活動(dòng)件之間保持一固定間隙;

7、驅(qū)動(dòng)組件,所述驅(qū)動(dòng)組件與所述固定件連接,同時(shí)抵接于所述活動(dòng)件并提供一預(yù)壓力;

8、磁吸組件,所述磁吸組件包括至少一組第一磁吸件和第二磁吸件,所述第一磁吸件被設(shè)置于所述固定件和所述活動(dòng)件二者中的一個(gè),所述第二磁吸件被設(shè)置于所述固定件和活動(dòng)件二者中的另一個(gè),所述第一磁吸件與所述第二磁吸件相互作用以將所述活動(dòng)件的接觸面吸附向所述固定件的支撐面,所述磁吸組件產(chǎn)生的磁吸力方向與所述驅(qū)動(dòng)組件的預(yù)壓力方向相互平行。

9、作為一種優(yōu)選,所述導(dǎo)向組件與所述驅(qū)動(dòng)組件設(shè)置在所述活動(dòng)件的同一側(cè)。

10、作為一種優(yōu)選,所述導(dǎo)向組件包括第一導(dǎo)向件和第二導(dǎo)向件,所述第一導(dǎo)向件、所述第二導(dǎo)向件均與所述驅(qū)動(dòng)組件相鄰設(shè)置。

11、作為一種優(yōu)選,所述導(dǎo)向組件、所述驅(qū)動(dòng)組件及所述磁吸組件均設(shè)置在所述活動(dòng)件的同一側(cè)。

12、作為一種優(yōu)選,所述磁吸組件包括相對(duì)所述驅(qū)動(dòng)組件設(shè)置的第一組磁吸組件和第二組磁吸組件,所述第一組磁吸組件和所述第二組磁吸組件分別設(shè)置于所述驅(qū)動(dòng)組件的兩側(cè)。

13、作為一種優(yōu)選,沿平行于所述預(yù)壓力方向,所述第一組磁吸組件內(nèi)的所述第一磁吸件、所述第二磁吸件分別設(shè)置在所述第一導(dǎo)向件的兩側(cè),所述第二組磁吸組件內(nèi)的所述第一磁吸件、所述第二磁吸件分別設(shè)置在所述第二導(dǎo)向件的兩側(cè),所述第一組磁吸組件的所述第一磁吸件與所述第二磁吸件相互吸引,所述第二組磁吸組件內(nèi)的所述第一磁吸件和所述第二磁吸件相互吸引。

14、作為一種優(yōu)選,所述驅(qū)動(dòng)組件包括預(yù)壓組件和致動(dòng)組件,所述預(yù)壓組件與所述固定件連接,所述致動(dòng)組件與所述預(yù)壓組件連接,所述預(yù)壓組件對(duì)所述致動(dòng)組件提供所述預(yù)壓力,使所述致動(dòng)組件的摩擦頭抵接于所述活動(dòng)件的一側(cè)并將所述預(yù)壓力作用于所述活動(dòng)件,所述預(yù)壓力與所述磁吸力同向,所述致動(dòng)組件接收一驅(qū)動(dòng)信號(hào)時(shí),所述摩擦頭對(duì)所述活動(dòng)件提供驅(qū)動(dòng)力以驅(qū)動(dòng)所述活動(dòng)件運(yùn)動(dòng)。

15、作為一種優(yōu)選,以經(jīng)過(guò)所述預(yù)壓組件的中心線并沿所述預(yù)壓力方向延伸的一平面為參考平面,所述第一組磁吸組件與所述第二組磁吸組件關(guān)于所述參考平面對(duì)稱設(shè)置。

16、作為一種優(yōu)選,所述預(yù)壓組件包括結(jié)構(gòu)件和緩沖件,所述結(jié)構(gòu)件的彈性模量大于所述緩沖件的彈性模量,所述固定件上設(shè)有一從固定件的外側(cè)壁向其內(nèi)側(cè)壁貫穿的開(kāi)口,所述結(jié)構(gòu)件與所述固定件的外側(cè)壁連接,所述緩沖件一面與所述結(jié)構(gòu)件貼附連接,另一面與所述致動(dòng)組件貼附連接,所述緩沖件及其上的所述致動(dòng)組件穿過(guò)所述開(kāi)口抵接在所述活動(dòng)件上。

17、作為一種優(yōu)選,沿所述活動(dòng)件的運(yùn)動(dòng)方向,所述第一磁吸件的長(zhǎng)度為l,所述第二磁吸件的長(zhǎng)度為y,所述活動(dòng)件在所述驅(qū)動(dòng)組件的驅(qū)動(dòng)下的行程范圍為d,y>l+d,或l>y+d。

18、作為一種優(yōu)選,還包括磁感應(yīng)件,所述磁感應(yīng)件相對(duì)所述磁吸組件設(shè)置,從而通過(guò)感應(yīng)磁場(chǎng)變化以判斷所述活動(dòng)件的位置。

19、作為一種優(yōu)選,所述活動(dòng)件上設(shè)有外凸部,所述外凸部自所述活動(dòng)件的外側(cè)壁向遠(yuǎn)離所述驅(qū)動(dòng)組件的方向凸出形成,所述固定件上設(shè)有內(nèi)凸部,所述內(nèi)凸部自所述固定件的內(nèi)側(cè)壁向靠近所述驅(qū)動(dòng)組件的方向凸出形成,所述內(nèi)凸部與所述外凸部相對(duì)設(shè)置,所述外凸部上形成所述接觸面,所述內(nèi)凸部上形成所述支撐面。

20、作為一種優(yōu)選,所述活動(dòng)件上還設(shè)有內(nèi)凹部,所述內(nèi)凹部自所述活動(dòng)件的外側(cè)壁向靠近所述驅(qū)動(dòng)組件的方向凹陷形成,所述外凸部與所述內(nèi)凹部相連并配合形成第一凹槽,所述內(nèi)凸部適于插入所述第一凹槽,所述固定件設(shè)有外凹部,所述外凹部自所述固定件的內(nèi)側(cè)壁向遠(yuǎn)離所述驅(qū)動(dòng)組件方向凹陷形成,所述外凹部與所述內(nèi)凸部相連并配合形成第二凹槽,所述外凸部適于插入所述第二凹槽。

21、作為一種優(yōu)選,所述支撐面上設(shè)有第一引導(dǎo)槽和第三引導(dǎo)槽,所述接觸面上設(shè)有對(duì)應(yīng)的第二引導(dǎo)槽和第四引導(dǎo)槽,所述第一引導(dǎo)槽和所述第二引導(dǎo)槽配合將所述第一導(dǎo)向件夾持在內(nèi),所述第三引導(dǎo)槽和所述第四引導(dǎo)槽配合將所述第二導(dǎo)向件夾持在內(nèi),所述第一導(dǎo)向件和所述第二導(dǎo)向件保持所述支撐面和所述接觸面平行。

22、為達(dá)到本申請(qǐng)的另一目的,本申請(qǐng)采用的技術(shù)方案為:一種攝像模組,其包括:

23、光學(xué)鏡頭;

24、相對(duì)所述光學(xué)鏡頭設(shè)置的感光組件;以及

25、上述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述光學(xué)鏡頭被設(shè)置于所述活動(dòng)件。

26、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本申請(qǐng)的有益效果在于:

27、(1)磁吸組件的磁吸力使得活動(dòng)件的接觸面具有朝向固定件的支撐面運(yùn)動(dòng)的趨勢(shì),從而接觸面與支撐面能夠配合將導(dǎo)向組件夾緊,并且?jiàn)A持穩(wěn)定可靠,實(shí)現(xiàn)了固定件、活動(dòng)件、導(dǎo)向組件三者之間的緊密裝配;

28、(2)當(dāng)活動(dòng)件在驅(qū)動(dòng)組件的預(yù)壓力和驅(qū)動(dòng)力作用下發(fā)生傾斜時(shí),磁吸力能夠作用于活動(dòng)件使得活動(dòng)件的位置被及時(shí)的修正,進(jìn)而維持支撐面與接觸面間的相互平行,即,避免了活動(dòng)件沿光軸方向移動(dòng)時(shí)發(fā)生傾斜,活動(dòng)件得以平穩(wěn)地沿光軸方向運(yùn)動(dòng),搭載有光學(xué)鏡頭的活動(dòng)件能夠順暢地調(diào)節(jié)位置,利于提高成像質(zhì)量;

29、(3)磁吸組件結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,使用成本低;

30、(4)磁吸力與預(yù)壓力是同向的,可以同時(shí)使活動(dòng)件被平行地支撐于固定件上;

31、(5)增加導(dǎo)向組件以減少活動(dòng)件與固定件間的摩擦接觸面積,利于減少活動(dòng)件相對(duì)固定件移動(dòng)時(shí)受到的摩擦力,活動(dòng)件便于被驅(qū)動(dòng)。



技術(shù)特征:

1.一種應(yīng)用于攝像模組的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于,包括:

2.如權(quán)利要求1所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述導(dǎo)向組件與所述驅(qū)動(dòng)組件設(shè)置在所述活動(dòng)件的同一側(cè)。

3.如權(quán)利要求2所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述導(dǎo)向組件包括第一導(dǎo)向件和第二導(dǎo)向件,所述第一導(dǎo)向件、所述第二導(dǎo)向件均與所述驅(qū)動(dòng)組件相鄰設(shè)置。

4.如權(quán)利要求3所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述導(dǎo)向組件、所述驅(qū)動(dòng)組件及所述磁吸組件均設(shè)置在所述活動(dòng)件的同一側(cè)。

5.如權(quán)利要求4所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述磁吸組件包括相對(duì)所述驅(qū)動(dòng)組件設(shè)置的第一組磁吸組件和第二組磁吸組件,所述第一組磁吸組件和所述第二組磁吸組件分別設(shè)置于所述驅(qū)動(dòng)組件的兩側(cè)。

6.如權(quán)利要求5所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于:沿平行于所述預(yù)壓力方向,所述第一組磁吸組件內(nèi)的所述第一磁吸件、所述第二磁吸件分別設(shè)置在所述第一導(dǎo)向件的兩側(cè),所述第二組磁吸組件內(nèi)的所述第一磁吸件、所述第二磁吸件分別設(shè)置在所述第二導(dǎo)向件的兩側(cè),所述第一組磁吸組件的所述第一磁吸件與所述第二磁吸件相互吸引,所述第二組磁吸組件內(nèi)的所述第一磁吸件和所述第二磁吸件相互吸引。

7.如權(quán)利要求5所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述驅(qū)動(dòng)組件包括預(yù)壓組件和致動(dòng)組件,所述預(yù)壓組件與所述固定件連接,所述致動(dòng)組件與所述預(yù)壓組件連接,所述預(yù)壓組件對(duì)所述致動(dòng)組件提供所述預(yù)壓力,使所述致動(dòng)組件的摩擦頭抵接于所述活動(dòng)件的一側(cè)并將所述預(yù)壓力作用于所述活動(dòng)件,所述預(yù)壓力與所述磁吸力同向,所述致動(dòng)組件接收一驅(qū)動(dòng)信號(hào)時(shí),所述摩擦頭對(duì)所述活動(dòng)件提供驅(qū)動(dòng)力以驅(qū)動(dòng)所述活動(dòng)件運(yùn)動(dòng)。

8.如權(quán)利要求7所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于:以經(jīng)過(guò)所述預(yù)壓組件的中心線并沿所述預(yù)壓力方向延伸的一平面為參考平面,所述第一組磁吸組件與所述第二組磁吸組件關(guān)于所述參考平面對(duì)稱設(shè)置。

9.如權(quán)利要求7所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述預(yù)壓組件包括結(jié)構(gòu)件和緩沖件,所述結(jié)構(gòu)件的彈性模量大于所述緩沖件的彈性模量,所述固定件上設(shè)有一從固定件的外側(cè)壁向其內(nèi)側(cè)壁貫穿的開(kāi)口,所述結(jié)構(gòu)件與所述固定件的外側(cè)壁連接,所述緩沖件一面與所述結(jié)構(gòu)件貼附連接,另一面與所述致動(dòng)組件貼附連接,所述緩沖件及其上的所述致動(dòng)組件穿過(guò)所述開(kāi)口抵接在所述活動(dòng)件上。

10.如權(quán)利要求1所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于:沿所述活動(dòng)件的運(yùn)動(dòng)方向,所述第一磁吸件的長(zhǎng)度為l,所述第二磁吸件的長(zhǎng)度為y,所述活動(dòng)件在所述驅(qū)動(dòng)組件的驅(qū)動(dòng)下的行程范圍為d,y>l+d,或l>y+d。

11.如權(quán)利要求1所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于:還包括磁感應(yīng)件,所述磁感應(yīng)件相對(duì)所述磁吸組件設(shè)置,從而通過(guò)感應(yīng)磁場(chǎng)變化以判斷所述活動(dòng)件的位置。

12.如權(quán)利要求3或4所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述活動(dòng)件上設(shè)有外凸部,所述外凸部自所述活動(dòng)件的外側(cè)壁向遠(yuǎn)離所述驅(qū)動(dòng)組件的方向凸出形成,所述固定件上設(shè)有內(nèi)凸部,所述內(nèi)凸部自所述固定件的內(nèi)側(cè)壁向靠近所述驅(qū)動(dòng)組件的方向凸出形成,所述內(nèi)凸部與所述外凸部相對(duì)設(shè)置,所述外凸部上形成所述接觸面,所述內(nèi)凸部上形成所述支撐面。

13.如權(quán)利要求12所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述活動(dòng)件上還設(shè)有內(nèi)凹部,所述內(nèi)凹部自所述活動(dòng)件的外側(cè)壁向靠近所述驅(qū)動(dòng)組件的方向凹陷形成,所述外凸部與所述內(nèi)凹部相連并配合形成第一凹槽,所述內(nèi)凸部適于插入所述第一凹槽,所述固定件設(shè)有外凹部,所述外凹部自所述固定件的內(nèi)側(cè)壁向遠(yuǎn)離所述驅(qū)動(dòng)組件方向凹陷形成,所述外凹部與所述內(nèi)凸部相連并配合形成第二凹槽,所述外凸部適于插入所述第二凹槽。

14.如權(quán)利要求12所述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其特征在于:所述支撐面上設(shè)有第一引導(dǎo)槽和第三引導(dǎo)槽,所述接觸面上設(shè)有對(duì)應(yīng)的第二引導(dǎo)槽和第四引導(dǎo)槽,所述第一引導(dǎo)槽和所述第二引導(dǎo)槽配合將所述第一導(dǎo)向件夾持在內(nèi),所述第三引導(dǎo)槽和所述第四引導(dǎo)槽配合將所述第二導(dǎo)向件夾持在內(nèi),所述第一導(dǎo)向件和所述第二導(dǎo)向件保持所述支撐面和所述接觸面平行。

15.一種攝像模組,其特征在于,包括:


技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)公開(kāi)了攝像模組及其驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),屬于電子技術(shù)領(lǐng)域,其中,驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括:固定件、活動(dòng)件、驅(qū)動(dòng)組件、導(dǎo)向組件,和磁吸組件,固定件包括支撐面,活動(dòng)件與固定件活動(dòng)連接并包括接觸面,驅(qū)動(dòng)組件設(shè)置在固定件與活動(dòng)件之間并提供一預(yù)壓力,導(dǎo)向組件位于支撐面和接觸面之間,以使得固定件和活動(dòng)件之間保持一固定間隙,磁吸組件包括至少一組第一磁吸件和第二磁吸件,分別設(shè)置在固定件和活動(dòng)件上,兩者配合產(chǎn)生平行于預(yù)壓力的磁吸力,將接觸面吸附向支撐面。攝像模組應(yīng)用上述的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。能夠避免活動(dòng)件相對(duì)固定件傾斜,從而防止活動(dòng)件相對(duì)固定件卡死,活動(dòng)件能夠順暢地調(diào)節(jié),利于提高成像質(zhì)量。

技術(shù)研發(fā)人員:請(qǐng)求不公布姓名,請(qǐng)求不公布姓名,丁海靈,趙波杰
受保護(hù)的技術(shù)使用者:寧波舜宇光電信息有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/6
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