本申請(qǐng)涉及電機(jī)控制的，尤其是涉及一種旋轉(zhuǎn)整流器。

背景技術(shù)：

1、旋轉(zhuǎn)整流器作為無(wú)刷同步電機(jī)應(yīng)用中常見(jiàn)的部件，通常由多個(gè)旋轉(zhuǎn)二極管功率橋臂模塊和多個(gè)旋轉(zhuǎn)壓敏電阻模塊安裝在整流盤上組成。

2、公開(kāi)號(hào)為cn215120467u的中國(guó)專利公開(kāi)了一種無(wú)刷同步電機(jī)通風(fēng)散熱旋轉(zhuǎn)整流器，包括電機(jī)轉(zhuǎn)子、旋轉(zhuǎn)整流盤、多個(gè)帶有散熱器的功率模塊和過(guò)壓吸收模塊，多個(gè)功率模塊相互連接組成整流電路，壓吸收模塊并接在成整流電路的輸出，旋轉(zhuǎn)整流盤中心設(shè)有套入電機(jī)轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)軸的中心孔，所述旋轉(zhuǎn)整流盤是截面為一面直角下凹呈“u”字形的圓盤，在下凹圓盤面上環(huán)繞中心孔均勻設(shè)置有多個(gè)通風(fēng)孔，所述多個(gè)帶有散熱器的功率模塊沿下凹圓盤周邊分布固定，旋轉(zhuǎn)整流盤下凹圓盤面朝外套入電機(jī)轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)軸與電機(jī)轉(zhuǎn)子連接固定，整流器與旋轉(zhuǎn)整流盤上的通風(fēng)孔錯(cuò)開(kāi)布局，解決了重負(fù)荷下電機(jī)轉(zhuǎn)子線圈升溫過(guò)快的問(wèn)題。

3、相關(guān)技術(shù)中整流盤上開(kāi)設(shè)有通風(fēng)孔，且功率模塊和過(guò)壓吸收模塊均不阻擋通風(fēng)孔，因此整流盤面積較大，由此易造成旋轉(zhuǎn)整流器難以適應(yīng)高速旋轉(zhuǎn)的情況，影響旋轉(zhuǎn)整流器適用性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為了增加旋轉(zhuǎn)整流器對(duì)高轉(zhuǎn)速的適用性，本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N旋轉(zhuǎn)整流器。

2、本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N旋轉(zhuǎn)整流器采用如下的技術(shù)方案：

3、一種旋轉(zhuǎn)整流器，包括整流盤，所述整流盤一側(cè)設(shè)有多個(gè)二極管模塊和過(guò)壓吸收模塊，所述整流盤上固定連接有多個(gè)沿所述整流盤邊緣均勻分布的安裝齒，相鄰的所述安裝齒之間形成安裝槽，所述二極管模塊和所述過(guò)壓吸收模塊靠近所述整流盤中心的一端均插入所述安裝槽中并通過(guò)螺栓與所述整流盤固定連接。

4、通過(guò)采用上述技術(shù)方案，二極管模塊和過(guò)壓吸收模塊均通過(guò)安裝槽均勻分布在整流盤上，從而節(jié)省開(kāi)設(shè)通風(fēng)孔的空間，使得整流盤的尺寸減小，從而使得二極管模塊和過(guò)壓吸收模塊在高速旋轉(zhuǎn)的過(guò)程中受到的離心力減少，進(jìn)而增加旋轉(zhuǎn)整流器對(duì)高轉(zhuǎn)速的適用性。

5、可選的，所述整流盤上設(shè)有對(duì)所述二極管模塊和所述過(guò)壓吸收模塊通電的安裝組件。

6、通過(guò)采用上述技術(shù)方案，二極管模塊和過(guò)壓吸收模塊均通過(guò)安裝組件安裝在整流盤上，提高二極管模塊和過(guò)壓吸收模塊安裝的穩(wěn)定性，從而增加旋轉(zhuǎn)整流器對(duì)高轉(zhuǎn)速的適用性，且安裝組件對(duì)二極管模塊和過(guò)壓吸收模塊通電，從而使得二極管模塊形成整流電路，且過(guò)壓吸收模塊對(duì)旋轉(zhuǎn)整流器進(jìn)行過(guò)壓保護(hù)，延長(zhǎng)旋轉(zhuǎn)整流器使用壽命。

7、可選的，所述安裝齒遠(yuǎn)離所述整流盤中心一端的寬度設(shè)置為向遠(yuǎn)離所述整流盤中心的方向逐漸減小的尖端，所述二極管模塊和所述過(guò)壓吸收模塊兩側(cè)均通過(guò)螺栓與所述安裝齒傾斜的側(cè)壁固定連接，所述二極管模塊兩側(cè)的所述安裝齒靠近所述二極管模塊的一側(cè)均垂直于所述二極管模塊與所述整流盤中心的連線，所述過(guò)壓吸收模塊兩側(cè)的所述安裝齒靠近所述過(guò)壓吸收模塊的一側(cè)均垂直于所述過(guò)壓吸收模塊與所述整流盤中心的連線。

8、通過(guò)采用上述技術(shù)方案，安裝齒尖端兩側(cè)的斜面使得旋轉(zhuǎn)整流器在高速旋轉(zhuǎn)的過(guò)程中，二極管模塊和過(guò)壓吸收模塊受到的離心力均與安裝齒尖端兩側(cè)的斜面垂直，從而減少二極管模塊和過(guò)壓吸收模塊受到離心力而脫離安裝齒的可能，進(jìn)一步增加旋轉(zhuǎn)整流器對(duì)高轉(zhuǎn)速的適用性。

9、可選的，所述過(guò)壓吸收模塊設(shè)置為兩個(gè)且沿所述整流盤直徑方向相對(duì)設(shè)置，所述二極管模塊對(duì)稱且均勻分布在所述過(guò)壓吸收模塊之間連線的兩側(cè)。

10、通過(guò)采用上述技術(shù)方案，過(guò)壓吸收模塊和二極管模塊均勻且對(duì)稱分布在整流盤上，從而減少整流盤在轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中因重量分布不均而損壞的可能，延長(zhǎng)整流盤使用壽命。

11、可選的，所述整流盤中心處中空，且所述整流盤內(nèi)側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有用于與電機(jī)軸鍵連接的插接槽。

12、通過(guò)采用上述技術(shù)方案，整流盤內(nèi)側(cè)壁上的插接槽對(duì)電機(jī)軸進(jìn)行限位，提高電機(jī)軸與整流盤連接的穩(wěn)定性。

13、可選的，所述二極管模塊和所述過(guò)壓吸收模塊遠(yuǎn)離所述整流盤中心的一端均安裝有散熱器，所述散熱器遠(yuǎn)離所述整流盤中心的一端固定連接有多個(gè)散熱齒。

14、通過(guò)采用上述技術(shù)方案，散熱齒增加了散熱面積，且散熱齒位于散熱器遠(yuǎn)離整流盤中心的一側(cè)，當(dāng)整流盤轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，整流盤周圍的空氣在整流盤的轉(zhuǎn)動(dòng)下產(chǎn)生流動(dòng)，從而便于對(duì)散熱齒進(jìn)行冷卻，進(jìn)一步提高散熱效率。

15、可選的，所述安裝組件包括設(shè)置在所述整流盤靠近所述二極管模塊一側(cè)且沿所述整流盤寬度方向設(shè)置的正母線導(dǎo)電環(huán)和負(fù)母線導(dǎo)電環(huán)，所述正母線導(dǎo)電環(huán)和所述負(fù)母線導(dǎo)電環(huán)均通過(guò)螺栓與所述整流盤固定連接，所述二極管模塊包括兩個(gè)反向并聯(lián)的二極管，其中一個(gè)所述二極管遠(yuǎn)離連接端的一端與所述正母線導(dǎo)電環(huán)連接，另一個(gè)所述二極管遠(yuǎn)離連接端的一端與所述負(fù)母線導(dǎo)電環(huán)連接，所述過(guò)壓吸收模塊包括一側(cè)與對(duì)應(yīng)的所述散熱器接觸的壓敏電阻，所述散熱器與所述正母線導(dǎo)電環(huán)連接，且所述壓敏電阻另一端與所述負(fù)母線導(dǎo)電環(huán)連接。

16、通過(guò)采用上述技術(shù)方案，正、負(fù)母線均設(shè)置為導(dǎo)電環(huán)，并通過(guò)螺栓與整流盤連接，從而便于固定，且正母線導(dǎo)電環(huán)和負(fù)母線導(dǎo)電環(huán)將二極管模塊連接形成整流電路，便于對(duì)二極管模塊進(jìn)行通電。

17、可選的，所述散熱器、所述整流盤、所述正母線導(dǎo)電環(huán)和所述負(fù)母線導(dǎo)電環(huán)上均設(shè)有套接在螺栓上的絕緣塊。

18、綜上所述，本申請(qǐng)包括以下至少一種有益技術(shù)效果：

19、1.二極管模塊和過(guò)壓吸收模塊均通過(guò)安裝槽均勻分布在整流盤上，從而節(jié)省開(kāi)設(shè)通風(fēng)孔的空間，使得整流盤的尺寸減小，從而使得二極管模塊和過(guò)壓吸收模塊在高速旋轉(zhuǎn)的過(guò)程中受到的離心力減少，進(jìn)而增加旋轉(zhuǎn)整流器對(duì)高轉(zhuǎn)速的適用性；

20、2.安裝齒尖端兩側(cè)的斜面使得旋轉(zhuǎn)整流器在高速旋轉(zhuǎn)的過(guò)程中，二極管模塊和過(guò)壓吸收模塊受到的離心力均與安裝齒尖端兩側(cè)的斜面垂直，從而減少二極管模塊和過(guò)壓吸收模塊受到離心力而脫離安裝齒的可能，進(jìn)一步增加旋轉(zhuǎn)整流器對(duì)高轉(zhuǎn)速的適用性；

21、3.散熱齒增加了散熱面積，且散熱齒位于散熱器遠(yuǎn)離整流盤中心的一側(cè)，當(dāng)整流盤轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，整流盤周圍的空氣在整流盤的轉(zhuǎn)動(dòng)下產(chǎn)生流動(dòng)，從而便于對(duì)散熱齒進(jìn)行冷卻，進(jìn)一步提高散熱效率。

技術(shù)特征：

1.一種旋轉(zhuǎn)整流器，其特征在于：包括整流盤（1），所述整流盤（1）一側(cè)設(shè)有多個(gè)二極管模塊（2）和過(guò)壓吸收模塊（3），所述整流盤（1）上固定連接有多個(gè)沿所述整流盤（1）邊緣均勻分布的安裝齒（12），相鄰的所述安裝齒（12）之間形成安裝槽（13），所述二極管模塊（2）和所述過(guò)壓吸收模塊（3）靠近所述整流盤（1）中心的一端均插入所述安裝槽（13）中并通過(guò)螺栓與所述整流盤（1）固定連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種旋轉(zhuǎn)整流器，其特征在于：所述整流盤（1）上設(shè)有對(duì)所述二極管模塊（2）和所述過(guò)壓吸收模塊（3）通電的安裝組件（5）。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種旋轉(zhuǎn)整流器，其特征在于：所述安裝齒（12）遠(yuǎn)離所述整流盤（1）中心一端的寬度設(shè)置為向遠(yuǎn)離所述整流盤（1）中心的方向逐漸減小的尖端，所述二極管模塊（2）和所述過(guò)壓吸收模塊（3）兩側(cè)均通過(guò)螺栓與所述安裝齒（12）傾斜的側(cè)壁固定連接，所述二極管模塊（2）兩側(cè)的所述安裝齒（12）靠近所述二極管模塊（2）的一側(cè)均垂直于所述二極管模塊（2）與所述整流盤（1）中心的連線，所述過(guò)壓吸收模塊（3）兩側(cè)的所述安裝齒（12）靠近所述過(guò)壓吸收模塊（3）的一側(cè)均垂直于所述過(guò)壓吸收模塊（3）與所述整流盤（1）中心的連線。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種旋轉(zhuǎn)整流器，其特征在于：所述過(guò)壓吸收模塊（3）設(shè)置為兩個(gè)且沿所述整流盤（1）直徑方向相對(duì)設(shè)置，所述二極管模塊（2）對(duì)稱且均勻分布在所述過(guò)壓吸收模塊（3）之間連線的兩側(cè)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種旋轉(zhuǎn)整流器，其特征在于：所述整流盤（1）中心處中空，且所述整流盤（1）內(nèi)側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有用于與電機(jī)軸鍵連接的插接槽（11）。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種旋轉(zhuǎn)整流器，其特征在于：所述二極管模塊（2）和所述過(guò)壓吸收模塊（3）遠(yuǎn)離所述整流盤（1）中心的一端均安裝有散熱器（4），所述散熱器（4）遠(yuǎn)離所述整流盤（1）中心的一端固定連接有多個(gè)散熱齒。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種旋轉(zhuǎn)整流器，其特征在于：所述安裝組件（5）包括設(shè)置在所述整流盤（1）靠近所述二極管模塊（2）一側(cè)且沿所述整流盤（1）寬度方向設(shè)置的正母線導(dǎo)電環(huán)（51）和負(fù)母線導(dǎo)電環(huán)（52），所述正母線導(dǎo)電環(huán)（51）和所述負(fù)母線導(dǎo)電環(huán)（52）均通過(guò)螺栓與所述整流盤（1）固定連接，所述二極管模塊（2）包括兩個(gè)反向并聯(lián)的二極管（21），其中一個(gè)所述二極管（21）遠(yuǎn)離連接端的一端與所述正母線導(dǎo)電環(huán)（51）連接，另一個(gè)所述二極管（21）遠(yuǎn)離連接端的一端與所述負(fù)母線導(dǎo)電環(huán)（52）連接，所述過(guò)壓吸收模塊（3）包括一側(cè)與對(duì)應(yīng)的所述散熱器（4）接觸的壓敏電阻（31），所述散熱器（4）與所述正母線導(dǎo)電環(huán)（51）連接，且所述壓敏電阻（31）另一端與所述負(fù)母線導(dǎo)電環(huán)（52）連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種旋轉(zhuǎn)整流器，其特征在于：所述散熱器（4）、所述整流盤（1）、所述正母線導(dǎo)電環(huán)（51）和所述負(fù)母線導(dǎo)電環(huán)（52）上均設(shè)有套接在螺栓上的絕緣塊（57）。

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)涉及一種旋轉(zhuǎn)整流器，屬于電機(jī)控制的技術(shù)領(lǐng)域，其包括整流盤，所述整流盤一側(cè)設(shè)有多個(gè)二極管模塊和過(guò)壓吸收模塊，所述整流盤上固定連接有多個(gè)沿所述整流盤邊緣均勻分布的安裝齒，相鄰的所述安裝齒之間形成安裝槽，所述二極管模塊和所述過(guò)壓吸收模塊靠近所述整流盤中心的一端均插入所述安裝槽中并通過(guò)螺栓與所述整流盤固定連接。本申請(qǐng)具有增加旋轉(zhuǎn)整流器對(duì)高轉(zhuǎn)速的適用性的效果。

技術(shù)研發(fā)人員：劉進(jìn),王悅,劉軍
受保護(hù)的技術(shù)使用者：北京前鋒科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20231221
技術(shù)公布日：2025/1/9