本發(fā)明涉及半導(dǎo)體光電子領(lǐng)域,特別涉及一種具有金屬光柵結(jié)構(gòu)的垂直腔面發(fā)射激光器。
背景技術(shù):
1、垂直腔面發(fā)射激光器(vertical?cavity?surface?emitting?laser,簡稱vcsel)是一種出光方向垂直于襯底表面的激光器,其量子阱通常生長在(100)方向,所有偏振方向的增益為各向同性。
2、目前,由于垂直腔面發(fā)射激光器橫向尺寸較大,易出現(xiàn)高階橫模,這些模式中每一種模式都包含兩種正交偏振態(tài)。這兩種偏振態(tài)在溫度或偏置電流的變化過程中均會發(fā)生跳變,難以實現(xiàn)穩(wěn)定的偏振選擇特性。因此,具有穩(wěn)定的偏振選擇特性的垂直腔面發(fā)射激光器在原子傳感器件、光通信系統(tǒng)、激光倍頻、氣體探測和光譜分析等領(lǐng)域具有重要應(yīng)用。
3、傳統(tǒng)的垂直腔面發(fā)射激光器具有內(nèi)部產(chǎn)熱嚴重,電流分布不均等問題,自加熱會嚴重影響vcsel的性能。vcsel的輸出功率被溫升引起的熱翻轉(zhuǎn)效應(yīng)嚴重限制。同時,vcsel的壽命和可靠性也會隨著溫度的升高而降低。因此,兼具良好溫度特性的偏振垂直腔面發(fā)射激光器器件在原子傳感器件、光通信系統(tǒng)、激光倍頻、氣體探測和光譜分析等領(lǐng)域的應(yīng)用研究中具有重要意義。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、為解決傳統(tǒng)垂直腔面發(fā)射激光器存在的偏振不穩(wěn)定、器件內(nèi)部產(chǎn)熱嚴重、電流分布不均、自加熱等技術(shù)問題,本發(fā)明提供了一種具有金屬光柵結(jié)構(gòu)的垂直腔面發(fā)射激光器。
2、本發(fā)明提供了一種具有金屬光柵結(jié)構(gòu)的垂直腔面發(fā)射激光器,包括:發(fā)光器件,包括歐姆接觸層和第一電極層;光柵層,形成在歐姆接觸層表面,光柵層包括多個柱狀的光柵凸起和光柵間隙,光柵間隙形成在光柵凸起周圍;其中,光柵凸起為金屬材料,各光柵凸起與第一電極層相連。
3、根據(jù)本發(fā)明的實施例,光柵凸起和光柵間隙的排列分布至少在一個方向上具有周期性,光柵凸起的形狀包括直條形柱狀、彎曲條形柱狀。
4、根據(jù)本發(fā)明的實施例,光柵凸起的材料折射率大于光柵間隙,光柵凸起的材料包括金、銀、銅。
5、根據(jù)本發(fā)明的實施例,光柵間隙中填充有介質(zhì),介質(zhì)包括空氣或折射率小于光柵凸起的材料。
6、根據(jù)本發(fā)明的實施例,第一電極層呈環(huán)形凸臺,環(huán)形凸臺的中部形成電極鏤空區(qū)域,用作垂直腔面發(fā)射激光器的出光孔。
7、根據(jù)本發(fā)明的實施例,光柵層設(shè)置在第一電極層的中間區(qū)域,且覆蓋出光孔。
8、根據(jù)本發(fā)明的實施例,第一電極層形成在歐姆接觸層表面且設(shè)置于光柵間隙外緣。
9、根據(jù)本發(fā)明的實施例,光柵層采用光刻工藝制成。
10、根據(jù)本發(fā)明的實施例,光柵層的周期、光柵寬度由垂直腔面發(fā)射激光器出射激光的偏振模式?jīng)Q定。
11、根據(jù)本發(fā)明的實施例,發(fā)光器件還包括:在歐姆接觸層底面由上至下依次疊設(shè)的p型分布式布拉格反射鏡層、氧化限制層、有源層、n型分布式布拉格反射鏡層、襯底和第二電極層,其中,氧化限制層呈環(huán)形凸臺。
12、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明提供的具有金屬光柵結(jié)構(gòu)的垂直腔面發(fā)射激光器,至少具有以下有益效果:
13、(1)金屬光柵結(jié)構(gòu)可以降低橫電和橫磁兩個模式的其中一個模式的增益,具有偏振選擇特性;
14、(2)金屬光柵結(jié)構(gòu)可以通過金屬良好的散熱特性,使器件溫度分布更均勻;
15、(3)通過對金屬光柵結(jié)構(gòu)的參數(shù)設(shè)置,可以采用光刻的方式代替電子束曝光,降低成本,使工藝更簡單。
1.一種具有金屬光柵結(jié)構(gòu)的垂直腔面發(fā)射激光器,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直腔面發(fā)射激光器,其特征在于,所述光柵凸起(11)和光柵間隙(10)的排列分布至少在一個方向上具有周期性,所述光柵凸起(11)的形狀包括直條形柱狀、彎曲條形柱狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直腔面發(fā)射激光器,其特征在于,所述光柵凸起(11)的材料折射率大于所述光柵間隙(10),所述光柵凸起(11)的材料包括金、銀、銅。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直腔面發(fā)射激光器,其特征在于,所述光柵間隙(10)中填充有介質(zhì),所述介質(zhì)包括空氣或折射率小于所述光柵凸起(11)的材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直腔面發(fā)射激光器,其特征在于,所述第一電極層(2)呈環(huán)形凸臺,所述環(huán)形凸臺的中部形成電極鏤空區(qū)域,用作所述垂直腔面發(fā)射激光器的出光孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的垂直腔面發(fā)射激光器,其特征在于,所述光柵層(1)設(shè)置在所述第一電極層(2)的中間區(qū)域,且覆蓋所述出光孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直腔面發(fā)射激光器,其特征在于,所述第一電極層(2)形成在所述歐姆接觸層(3)表面且設(shè)置于所述光柵間隙(10)外緣。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直腔面發(fā)射激光器,其特征在于,所述光柵層(1)采用光刻工藝制成。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直腔面發(fā)射激光器,其特征在于,所述光柵層(1)的周期、光柵寬度由所述垂直腔面發(fā)射激光器出射激光的偏振模式?jīng)Q定。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的垂直腔面發(fā)射激光器,其特征在于,所述發(fā)光器件還包括: