本發(fā)明涉及涂布技術(shù),尤其涉及一種涂布凸點排布及涂布系統(tǒng)。
背景技術(shù):
1、目前,在電池行業(yè)中的隔膜及極片制造領(lǐng)域,衛(wèi)生包裝行業(yè)中的透氣膜及無紡布制造領(lǐng)域和電子行業(yè)中的保護(hù)膜的制造領(lǐng)域,均需要利用涂布技術(shù)涂布形成非全面覆蓋式的涂布層,其具體參閱圖1、2,為現(xiàn)有圓形涂布方式,包括正極101、負(fù)極102、隔膜103、涂布點104。
2、申請?zhí)枮椤癱n202220419382.1”的專利文獻(xiàn)公開了一種凸版輥及其轉(zhuǎn)移凸點。所述轉(zhuǎn)移凸點設(shè)計為特定的形狀,具體包括母線內(nèi)凹、母線外凸、直母線錐形臺結(jié)構(gòu)或階梯臺結(jié)構(gòu),其中轉(zhuǎn)移凸點的轉(zhuǎn)移端面面積遠(yuǎn)小于容料凹槽的橫截面積,以便于將轉(zhuǎn)移凸點的轉(zhuǎn)移端插入到網(wǎng)紋輥的容料凹槽內(nèi)部,從而利用涂布膠料的張力使涂布膠料附著在轉(zhuǎn)移凸點的轉(zhuǎn)移端上并形成球形或橢球形的涂布膠料滴,且該涂布膠料滴在轉(zhuǎn)移過程中不會擠壓涂布膜,而是主要通過涂布膠料滴在不同材料上的張力差作用滴覆轉(zhuǎn)移到涂布膜上。
3、申請?zhí)枮椤癱n202210192239.8”的專利文獻(xiàn)公開了一種鋰電池隔膜點膠涂布裝置。本發(fā)明主要包括其包括涂料轉(zhuǎn)移裝置、進(jìn)給量控制器和平面底輥,其中涂料轉(zhuǎn)移裝置包括膠料容納裝置和凸版輥,膠料容納裝置上設(shè)置有容納膠料的容料凹槽,凸版輥的輥面上設(shè)置有轉(zhuǎn)移凸點;凸版輥位于膠料容納裝置和平面底輥之間,轉(zhuǎn)移凸點在凸版輥和膠料容納裝置接觸處插入容料凹槽內(nèi);進(jìn)給量控制器用于檢測及調(diào)整控制轉(zhuǎn)移凸點插入到容料凹槽中的進(jìn)給量;平面底輥位于凸版輥的下側(cè),平面底輥與凸版輥之間設(shè)置有供涂布膜穿過的穿膜間隙。
4、申請?zhí)枮椤癱n202210189717.x”的專利文獻(xiàn)公開了一種點膠涂布方法及其制備的鋰電池隔膜。為滿足在電池行業(yè)、衛(wèi)生包裝行業(yè)及電子行業(yè)中的薄膜或者極片上制備厚度較厚的點狀涂布層的生產(chǎn)需要,本發(fā)明提出一種點膠涂布方法,先利用網(wǎng)紋輥將料斗中的涂覆用膠料轉(zhuǎn)移到網(wǎng)紋輥上的容料凹槽中,再使凸版輥上的轉(zhuǎn)移凸點插入到網(wǎng)紋輥上的容料凹槽中并隨凸版輥和網(wǎng)紋輥的轉(zhuǎn)動離開容料凹槽,同時利用涂布用膠料本身的張力將涂布用膠料從容料凹槽中帶出,并在轉(zhuǎn)移凸點的轉(zhuǎn)移端上形成近似球形或橢球形的涂布膠料滴;最后,涂布膠料滴主要在不同材料上的張力差作用下滴覆在涂布膜上,從而在涂布膜上形成非全面覆蓋式的涂布層。
5、上述專利文獻(xiàn)結(jié)合現(xiàn)有技術(shù)揭示了現(xiàn)有的涂布凸點排布存在以下缺陷:
6、1、點狀涂布的點內(nèi)部比較密實,影響鋰離子的穿透,透氣率比較比較低。
7、2、在雙面涂時,即正反面都涂點狀的pvdf,正極、隔膜、負(fù)極等三者壓合后,如果隔膜正反面點的位置不重合,那么壓合之后電解液的儲存空間會進(jìn)一步縮小。雙面涂時隔膜正反兩面的涂布點大概率是無法重合,如果客戶追求大存儲空間時,則無法滿足。
8、3、如果點的直徑比較小且高度比較高時,在產(chǎn)品涂完之后收卷料卷的過程中點和膜之間會相互刮蹭,點容易被刮蹭掉,現(xiàn)有辦法是在收卷工位前增加一層隔離膜,收卷的時候把隔離膜和隔膜一起卷繞進(jìn)去,保護(hù)點避免被刮蹭掉。增加了一層隔離膜會增加一些費用,且隔離膜不太好重復(fù)利用,同時影響了生產(chǎn)速度,加大了設(shè)備的制作難度,加大了生產(chǎn)工藝難度和成本。
9、4、測量時表征數(shù)據(jù)不準(zhǔn)確,客戶用多層進(jìn)行測量厚度,然后進(jìn)行取平均值,這樣往往多層的平均值小于單層的標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù),有規(guī)律的點狀涂布大概率會相互錯開導(dǎo)致厚度減薄。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明提供一種涂布凸點排布及涂布系統(tǒng),解決了致密性等問題。
2、本發(fā)明第一方面在于提供一種涂布凸點排布,包括隔離膜,所述隔離膜涂布面上設(shè)置有多個涂布凸點,所述涂布凸點呈不規(guī)則的凸點狀或線狀。
3、在本發(fā)明第一方面中,作為一種優(yōu)選的實施例,所述涂布凸點的形狀呈三角形、四邊形、多邊型、梅花型中的一種或多種。
4、在本發(fā)明第一方面中,作為一種優(yōu)選的實施例,多個所述涂布凸點呈虛線狀排列,形成多個虛線陣型。
5、在本發(fā)明第一方面中,作為一種優(yōu)選的實施例,所述虛線陣型呈直線狀。
6、在本發(fā)明第一方面中,作為一種優(yōu)選的實施例,在多個所述虛線陣型中,至少有兩個虛線陣型相互平行。
7、在本發(fā)明第一方面中,作為一種優(yōu)選的實施例,在多個所述虛線陣型中,至少有兩個虛線陣型交叉到一起。
8、在本發(fā)明第一方面中,作為一種優(yōu)選的實施例,所述虛線陣型呈環(huán)形。
9、在本發(fā)明第一方面中,作為一種優(yōu)選的實施例,多個所述涂布凸點呈實線狀排列,形成多個實線陣型。
10、在本發(fā)明第一方面中,作為一種優(yōu)選的實施例,所述實線陣型呈直線狀。
11、在本發(fā)明第一方面中,作為一種優(yōu)選的實施例,在多個所述實線陣型中,至少有兩個實線陣型相互平行。
12、在本發(fā)明第一方面中,作為一種優(yōu)選的實施例,在多個所述實線陣型中,至少有兩個實線陣型交叉到一起。
13、在本發(fā)明第一方面中,作為一種優(yōu)選的實施例,所述實線陣型呈環(huán)形。
14、本發(fā)明第二方面提供一種涂布系統(tǒng),包括版輥,所述版輥上對應(yīng)設(shè)置上述的涂布凸點排布。
15、在本發(fā)明第二方面中,作為一種優(yōu)選的實施例,對應(yīng)呈環(huán)形所述虛線陣型,所述版輥上的轉(zhuǎn)移凸點包括上連接部、下連接部,所述下連接部的截面呈錐形,所述下連接部的上端與所述上連接部的下部銜接。
16、在本發(fā)明第二方面中,作為一種優(yōu)選的實施例,所述版輥上的轉(zhuǎn)移凸點呈三角形,所述轉(zhuǎn)移凸點包括點位于上側(cè)的點涂部、位于點涂部下部的底座,所述點涂部呈等邊三角形,所述底座呈錐形且所述底座的上部與所述點涂部的下部銜接。
17、相比現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明的有益效果在于:
18、1、所述涂布凸點呈不規(guī)則的凸點狀或線狀,可將圓點改為三角形、四邊形、多邊型、梅花型等多邊形,同等凸點投影面積下增加凸點外周圍表面積提高電解液接觸面積降低致密性,同等凸點投影面積下,多邊形的結(jié)構(gòu)會更穩(wěn)定一下,有利于減少收卷時被刮蹭掉的風(fēng)險。
19、2、可將點涂改成類似于線狀,線狀可做成虛線可做成實線,可做成平行線交叉線或者圓環(huán)等形狀,這樣雙面涂布時,隔膜正反面pvdf肯定有一部分是重合的,壓合之后可確保這樣可解決正負(fù)極和隔膜壓合之后電解液存儲溶空間不足的問題。還有不管客戶采用單層測量還是多層測量都可以測量比較準(zhǔn)確的厚度數(shù)值。同時線狀的版輥使用壽命也會比點狀的版輥壽命更長,對于點狀的版輥,單點磨損或者脫落的概率比較大,但是線狀的版輥就可以很好的避免該問題的產(chǎn)生。
1.一種涂布凸點排布,其特征在于,包括隔離膜,所述隔離膜涂布涂上設(shè)置有多個涂布凸點,所述涂布凸點呈不規(guī)則的凸點狀或線狀。
2.如權(quán)利要求1所述的涂布凸點排布,其特征在于:所述涂布凸點的形狀呈三角形、四邊形、多邊型、梅花型中的一種或多種。
3.如權(quán)利要求2所述的涂布凸點排布,其特征在于:多個所述涂布凸點呈虛線狀排列,形成多個虛線陣型。
4.如權(quán)利要求3所述的涂布凸點排布,其特征在于:所述虛線陣型呈直線狀。
5.如權(quán)利要求4所述的涂布凸點排布,其特征在于:在多個所述虛線陣型中,至少有兩個虛線陣型相互平行。
6.如權(quán)利要求4所述的涂布凸點排布,其特征在于:在多個所述虛線陣型中,至少有兩個虛線陣型交叉到一起。
7.如權(quán)利要求3所述的涂布凸點排布,其特征在于:所述虛線陣型呈環(huán)形。
8.如權(quán)利要求2所述的涂布凸點排布,其特征在于:多個所述涂布凸點呈實線狀排列,形成多個實線陣型。
9.如權(quán)利要求8所述的涂布凸點排布,其特征在于:所述實線陣型呈直線狀。
10.如權(quán)利要求9所述的涂布凸點排布,其特征在于:在多個所述實線陣型中,至少有兩個實線陣型相互平行。
11.如權(quán)利要求10所述的涂布凸點排布,其特征在于:在多個所述實線陣型中,至少有兩個實線陣型交叉到一起。
12.如權(quán)利要求8所述的涂布凸點排布,其特征在于:所述實線陣型呈環(huán)形。
13.一種涂布系統(tǒng),其特征在于,包括版輥,所述版輥上對應(yīng)設(shè)置有權(quán)利要求1-12任意一項所述的涂布凸點排布的多個轉(zhuǎn)移凸點。
14.如權(quán)利要求13所述的涂布凸點排布,其特征在于:對應(yīng)呈環(huán)形所述虛線陣型,所述版輥上的轉(zhuǎn)移凸點包括上連接部、下連接部,所述下連接部的截面呈錐形,所述下連接部的上端與所述上連接部的下部銜接。
15.如權(quán)利要求13所述的涂布凸點排布,其特征在于:所述版輥上的轉(zhuǎn)移凸點呈三角形,所述轉(zhuǎn)移凸點包括點位于上側(cè)的點涂部、位于點涂部下部的底座,所述點涂部呈等邊三角形,所述底座呈錐形且所述底座的上部與所述點涂部的下部銜接。