本公開涉及一種清洗方法、計算機存儲介質(zhì)和基片處理系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

1、日本特開第2003-218022號公報公開了，為了消除由于在與抗蝕劑噴嘴連接的抗蝕劑供給管中的氣泡或抗蝕劑中的顆粒的存在而引起的缺陷，通過檢測上述氣泡或顆粒來執(zhí)行抗蝕劑噴嘴的預(yù)噴(dummy?dispensing)。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本公開的一方面是一種對連接到向基片吐出處理液的吐出部的流路進行清洗的方法，該方法包括：步驟(a)，經(jīng)由流路將清洗液供給到吐出部，并從吐出部吐出清洗液；以及步驟(b)，基于異物檢測器的檢測結(jié)果來估計清洗是否已經(jīng)完成，異物檢測器被配置為檢測供給到流路的清洗液中的異物，其中，步驟(b)包括：步驟(c)，基于異物檢測器的檢測結(jié)果的歷史，估計清洗液總吐出量增加時的異物檢測器的檢測結(jié)果穩(wěn)定的清洗完成點；以及步驟(d)，基于所估計的清洗完成點，估計清洗是否已經(jīng)完成。

技術(shù)特征：

1.一種用于供給流路的清洗方法，所述供給流路連接到向基片吐出處理液的吐出部，所述清洗方法包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗方法，其中：

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗方法，其中

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗方法，其中

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清洗方法，其中

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗方法，還包括：

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清洗方法，其中

8.一種非瞬時性計算機可讀存儲介質(zhì)，存儲在控制裝置的計算機上運行的程序，所述程序用于控制處理液供給裝置以使所述處理液供給裝置執(zhí)行用于清洗連接到向基片吐出處理液的吐出部的供給流路的方法，

9.一種用于將處理液供給到向基片吐出處理液的吐出部的處理液供給裝置的控制裝置，

技術(shù)總結(jié)
一種用于清洗連接到向基片吐出處理液的吐出部的供給流路的方法，包括：步驟(A)，經(jīng)由供給流路將清洗液供給到吐出部，并從吐出部吐出清洗液；以及步驟(B)，基于異物檢測器的檢測結(jié)果來估計清洗是否已經(jīng)完成，異物檢測器被配置為檢測供給到供給流路的清洗液中的異物，其中，步驟(B)包括：步驟(C)，基于異物檢測器的檢測結(jié)果的歷史，估計清洗液的總吐出量增加時的異物檢測器的檢測結(jié)果達到穩(wěn)定的清洗完成點；以及步驟(D)，基于所估計的清洗完成點，估計清洗是否已經(jīng)完成。

技術(shù)研發(fā)人員：菊池駿斗
受保護的技術(shù)使用者：東京毅力科創(chuàng)株式會社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6