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一種滑蓋式手動晶片檢測機宏觀目檢觀測窗口結(jié)構(gòu)的制作方法

文檔序號:7123168閱讀:148來源:國知局
專利名稱:一種滑蓋式手動晶片檢測機宏觀目檢觀測窗口結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型設(shè)計半導體集成電路制造領(lǐng)域,且特別涉及一種滑蓋式手動晶片檢測機宏觀目檢觀測窗口結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
對于晶片的檢查包括宏觀和微觀檢查,其宏觀檢查完全靠人的肉眼去觀察晶片表 面,然后再進行拍照記錄分析,對于不能直接在第一現(xiàn)場對晶片缺陷進行檢查的人員,照片質(zhì)量完全會直接影響對晶片外觀缺陷的判斷?,F(xiàn)有技術(shù)中使用的手動檢測機在進行晶片的宏觀檢查時是透過一層透明的隔離層(隔離窗口)來進行的,以Nikon 0ST3200手動檢測機臺為例,晶片是隔著透明隔離層的,晶片檢驗人員就是通過透明隔離層來檢查其宏觀缺陷的。但是在對晶片的宏觀進行拍照時由于外界燈光的影響以致機臺內(nèi)的部分影像和外界燈光通過透明隔離層反射到晶片表面,導致宏觀照片不理想,無論是開著宏觀燈還是關(guān)著宏觀燈,外界的燈光和機臺部分影像都會反射到晶片表面。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是,改進手動晶片檢測機宏觀觀測窗口,將其設(shè)計成為透明不透明可切換的模式,如進行晶片宏觀檢查就使其觀測窗口保持透明狀態(tài),如需進行晶片宏觀拍照時就將其觀測窗口調(diào)整為不透明狀態(tài)。這樣既保證了晶片宏觀檢查所需的正常操作模式,也減少了晶片宏觀拍照時外部燈光環(huán)境對晶片表面造成的反射,保證了晶片宏觀照片質(zhì)量,避免了由于晶片與機臺外環(huán)境直接接觸而產(chǎn)生微粒。為了達到上述目的,本實用新型提出一種滑蓋式手動晶片檢測機宏觀目檢觀測窗口結(jié)構(gòu),包括透明隔離層,設(shè)置于所述觀測窗口面板上;移動滑軌,設(shè)置于所述透明隔離層兩側(cè)邊上;不透明遮擋層,通過其兩側(cè)邊的移動滑條滑動設(shè)置于所述移動滑軌上。進一步的,所述不透明遮擋層上設(shè)置有把手。進一步的,所述不透明遮擋層設(shè)置有插銷,所述觀測窗口面板設(shè)置有突起桿,所述插銷與所述突起桿卡合固定。進一步的,所述不透明遮擋層的插銷上設(shè)置有帶磁性的吸頭,所述觀測窗口面板設(shè)置有帶磁性的突起桿,所述帶磁性的吸頭與帶磁性的突起桿之間相互吸住并卡合固定。進一步的,所述觀測窗口面板的窗口兩側(cè)都設(shè)置有突起桿。進一步的,所述透明隔離層同樣設(shè)置有插銷和帶磁性的吸頭。本實用新型的有益效果為將手動檢測機臺的宏觀觀測窗口設(shè)計成為透明不透明可切換的結(jié)構(gòu),在進行晶片宏觀拍照時可以減少外界燈光因素對晶片表面造成的反射現(xiàn)象,此不透明遮擋層能將宏觀觀測透明隔離層所覆蓋,解決了外界燈光反射問題。避免了為了解決晶片宏觀照片外界燈光環(huán)境問題而將透明隔離層(隔離窗口)拉起而造成晶片表面與機臺外界環(huán)境直接接觸產(chǎn)生微粒,間接地保證了晶片質(zhì)量。此不透明遮擋層可以往上移動提起,調(diào)節(jié)方便,便于操作。

圖I所示為本實用新型較佳實施例的滑蓋式手動晶片檢測機宏觀目檢觀測窗口結(jié)構(gòu)示意圖。圖2所示為本實用新型較佳實施例的拉下不透明遮擋層的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
為了更了解本實用新型的技術(shù)內(nèi)容,特舉具體實施例并配合所附圖式說明如下。請參考圖1,圖I所示為本實用新型較佳實施例的滑蓋式手動晶片檢測機宏觀目檢觀測窗口結(jié)構(gòu)示意圖。本實用新型提出一種滑蓋式手動晶片檢測機宏觀目檢觀測窗口結(jié)構(gòu),包括透明隔離層100,設(shè)置于所述觀測窗口面板10上;移動滑軌110,設(shè)置于所述透明隔離層100兩側(cè)邊上;不透明遮擋層200,通過其兩側(cè)邊的移動滑條210滑動設(shè)置于所述移動滑軌110上。根據(jù)本實用新型較佳實施例,所述不透明遮擋層200上設(shè)置有把手220,所述不透明遮擋層200設(shè)置有插銷300,所述觀測窗口面板10設(shè)置有突起桿400,所述插銷300與所述突起桿400卡合固定。所述不透明遮擋層200的插銷300上設(shè)置有帶磁性的吸頭500,所述觀測窗口面板10設(shè)置有帶磁性的突起桿400,所述帶磁性的吸頭500與帶磁性的突起桿400之間相互吸住并卡合固定。進一步的,所述觀測窗口面板10的窗口兩側(cè)都設(shè)置有突起桿400,所述透明隔離層100同樣設(shè)置有插銷300和帶磁性的吸頭500。請參考圖2,圖2所示為本實用新型較佳實施例的拉下不透明遮擋層的結(jié)構(gòu)示意圖。在進行晶片宏觀檢查時如需進行拍照就首先將固定不透明遮擋層200的插銷300放松,然后使此滑蓋式不透明遮擋層200順著移動滑條210慢慢滑下移動滑軌110直到將透明隔離層100完全蓋住后就可以進行宏觀拍照了。拍完照后首先將不透明遮擋層200通過把手220將其拉起,然后再通過帶磁性的吸頭500與帶磁性的突起桿400之間相互吸住,和固定不透明遮擋層200的插銷300通過帶磁性的突起桿400卡住雙重保護來保證不透明遮擋層200不往下滑落。綜上所述,將手動檢測機臺的宏觀觀測窗口設(shè)計成為透明不透明可切換的結(jié)構(gòu),在進行晶片宏觀拍照時可以減少外界燈光因素對晶片表面造成的反射現(xiàn)象,此不透明遮擋層能將宏觀觀測透明隔離層所覆蓋,解決了外界燈光反射問題。避免了為了解決晶片宏觀照片外界燈光環(huán)境問題而將透明隔離層(隔離窗口)拉起而造成晶片表面與機臺外界環(huán)境直接接觸產(chǎn)生微粒,間接地保證了晶片質(zhì)量。此不透明遮擋層可以往上移動提起,調(diào)節(jié)方便,便于操作。雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上,然其并非用以限定本實用新型。本實用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者,在不脫離本實用新型的精神和范圍內(nèi),當可作各種的更動與潤飾。因此,本實用新型的保護范圍當視權(quán)利要求書所界定者為準。
權(quán)利要求1.一種滑蓋式手動晶片檢測機宏觀目檢觀測窗口結(jié)構(gòu),其特征在于,包括 透明隔離層,設(shè)置于所述觀測窗口面板上; 移動滑軌,設(shè)置于所述透明隔離層兩側(cè)邊上; 不透明遮擋層,通過其兩側(cè)邊的移動滑條滑動設(shè)置于所述移動滑軌上。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的滑蓋式手動晶片檢測機宏觀目檢觀測窗口結(jié)構(gòu),其特征在于,所述不透明遮擋層上設(shè)置有把手。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的滑蓋式手動晶片檢測機宏觀目檢觀測窗口結(jié)構(gòu),其特征在于,所述不透明遮擋層設(shè)置有插銷,所述觀測窗口面板設(shè)置有突起桿,所述插銷與所述突起桿卡合固定。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的滑蓋式手動晶片檢測機宏觀目檢觀測窗口結(jié)構(gòu),其特征在于,所述不透明遮擋層的插銷上設(shè)置有帶磁性的吸頭,所述觀測窗口面板設(shè)置有帶磁性的突起桿,所述帶磁性的吸頭與帶磁性的突起桿之間相互吸住并卡合固定。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的滑蓋式手動晶片檢測機宏觀目檢觀測窗口結(jié)構(gòu),其特征在于,所述觀測窗口面板的窗口兩側(cè)都設(shè)置有突起桿。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的滑蓋式手動晶片檢測機宏觀目檢觀測窗口結(jié)構(gòu),其特征在于,所述透明隔離層同樣設(shè)置有插銷和帶磁性的吸頭。
專利摘要本實用新型提出一種滑蓋式手動晶片檢測機宏觀目檢觀測窗口結(jié)構(gòu),包括透明隔離層,設(shè)置于所述觀測窗口面板上;移動滑軌,設(shè)置于所述透明隔離層兩側(cè)邊上;不透明遮擋層,通過其兩側(cè)邊的移動滑條滑動設(shè)置于所述移動滑軌上。本實用新型提出的改進手動晶片檢測機宏觀觀測窗口,將其設(shè)計成為透明不透明可切換的模式,如進行晶片宏觀檢查就使其觀測窗口保持透明狀態(tài),如需進行晶片宏觀拍照時就將其觀測窗口調(diào)整為不透明狀態(tài)。這樣既保證了晶片宏觀檢查所需的正常操作模式,也減少了晶片宏觀拍照時外部燈光環(huán)境對晶片表面造成的反射,保證了晶片宏觀照片質(zhì)量,避免了由于晶片與機臺外環(huán)境直接接觸而產(chǎn)生微粒。
文檔編號H01L21/66GK202651075SQ201220310748
公開日2013年1月2日 申請日期2012年6月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月28日
發(fā)明者瞿丹紅, 姜舜, 陳麗娟 申請人:上海華力微電子有限公司
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