顯示裝置及顯示裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種顯示裝置及顯示裝置的制造方法。本發(fā)明包括：第一基板；發(fā)光單元，形成于所述第一基板上；第二基板，從所述發(fā)光單元隔開預(yù)定間距而布置；折射層，形成于所述第二基板，以用于改變從所述發(fā)光單元發(fā)出的光的路徑。
【專利說明】顯示裝置及顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示裝置及顯示裝置的制造方法，尤其涉及改善視角的顯示裝置及顯示裝置的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]通常，為了確保多樣的可視角，顯示裝置可包括多種結(jié)構(gòu)。尤其，隨著顯示裝置的大型化和一般化，確保具有較寬的可視角成為相當(dāng)重要的問題。如上所述，在顯示裝置中，為了確保多樣的可視角，開發(fā)著各種技術(shù)。
[0003]具體來講，作為確保多樣的可視角的方法，有一種通過電子補(bǔ)償畫質(zhì)的裝置來解決的技術(shù)。并且，作為另一種方法，有一種通過可視角補(bǔ)償膜來確?？梢暯堑募夹g(shù)。
[0004]但是，為了實現(xiàn)如上所述的技術(shù)，需要制作高成本的膜并粘貼，或者通過專門的結(jié)構(gòu)或復(fù)雜的控制方法才能夠確?？梢暯?。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的實施例提供一種通過在基板上形成折射層以提高可視角的顯示裝置及顯示裝置的制造方法。
[0006]本發(fā)明的一方面可提供一種顯示裝置，該顯示裝置包括第一基板；發(fā)光單元，形成于所述第一基板上；第二基板，從所述發(fā)光單元隔開預(yù)定間距而布置；折射層，形成于所述第二基板，以用于改變從所述發(fā)光單元發(fā)出的光的路徑。
[0007]并且，所述折射層可具備由與所述第二基板相同的物質(zhì)形成的凸透鏡形狀的折射凸起。
[0008]并且，所述折射層可具備:珠子層，由涂布于所述第二基板上的珠子形成；保護(hù)層，形成于所述珠子層上。
[0009]并且，所述珠子可包括玻璃粉、硅石以及陶瓷中的至少一個。
[0010]并且，所述保護(hù)層可包括環(huán)氧樹脂和硅樹脂中的至少一個。
[0011]并且，所述保護(hù)層可以為折射率小于第二基板的折射率的物質(zhì)。
[0012]并且，所述保護(hù)層的折射率可以為1.5以下。
[0013]并且，所述珠子的大小可以為I微米以上且5微米以下。
[0014]并且，涂布于所述第二基板上的所述珠子的濁度可以為30%以上50%以下。
[0015]本發(fā)明的另一方面可提供一種顯示裝置的制造方法，該方法包括如下步驟:在第二基板上形成折射層；在第一基板上形成發(fā)光單元；將所述折射層布置成與所述第一基板相面對，并密封所述第一基板和所述第二基板。
[0016]并且，所述折射層可通過對所述第二基板的一面用玻璃粉火焰噴涂之后進(jìn)行蝕刻而形成。
[0017]并且，形成所述折射層的步驟可包括步驟:在所述第一基板上形成珠子層；在所述珠子層上形成保護(hù)層。[0018]并且，形成所述保護(hù)層的步驟可以為利用紫外光(UV)固化環(huán)氧樹脂(Epoxy)或利用玻璃體上娃(SOG, silicon on glass)工藝進(jìn)行鈍化(passivation)的步驟。
[0019]并且，所述折射層可具備由與所述第二基板相同的物質(zhì)形成的凸透鏡形狀的折射凸起。
[0020]即使用戶從側(cè)面進(jìn)行觀看，本發(fā)明的實施例也能夠確保用戶的可視性。尤其，在本發(fā)明的實施例中，用戶即使在側(cè)面也能夠觀看到清楚的圖像，因此能夠改善用戶的可視角。
[0021]并且，本發(fā)明的實施例通過簡單的結(jié)構(gòu)形成折射層，因此可縮短制造時間且節(jié)省制造費用。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0022]圖1為示出本發(fā)明的一實施例提供的顯示裝置的概念圖；
[0023]圖2為示出圖1所示的第一基板和發(fā)光單元的剖面圖。
[0024]圖3為示出本發(fā)明的另一實施例提供的顯示裝置的概念圖。
[0025]符號說閩南歌:
[0026]100、200:顯示裝置110、210:第一基板
[0027]120,220:發(fā)光單元130、230:第二基板
[0028]140:240:折射層241:珠子層
`[0029]242:保護(hù)層
【具體實施方式】
[0030]當(dāng)參照與附圖一起詳細(xì)后述的實施例時，本發(fā)明將變得明確。但是，本發(fā)明并不局限于以下所公開的實施例，可以以互不相同的多種形態(tài)實現(xiàn)，本發(fā)明的實施例是為了使本發(fā)明的公開完整，且使本發(fā)明所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中具有通常知識的技術(shù)人員清楚地了解本發(fā)明的范疇而提供的，本發(fā)明僅根據(jù)權(quán)利要求的記載范圍而定義。另外，在本說明書中所使用的術(shù)語是用來說明實施例的，而并不是要限制本發(fā)明的。在本說明書的句子中若沒有特別記載成單數(shù)，則包括多數(shù)的情況。說明書中所使用的“包括(comprises)”和/或“包括的(comprising)”是指,所記載的構(gòu)成要素、步驟、動作和/或元件不排除一個以上的其他構(gòu)成要素、步驟、動作和/或元件的存在或增加。第一、第二等的術(shù)語可在說明多種構(gòu)成要素時使用，但是，構(gòu)成要素不能局限于這種術(shù)語。這種術(shù)語僅作為將一個構(gòu)成要素區(qū)別于其他構(gòu)成要素的目的而使用。
[0031]圖1為示出本發(fā)明的一實施例提供的顯示裝置100的概念圖。圖2為示出圖1所示的第一基板110和發(fā)光單元120的剖面圖。
[0032]參照圖1及圖2，顯示裝置100可包括第一基板110、第二基板130以及發(fā)光單元120。
[0033]在第一基板110上可形成發(fā)光單元120。此時，發(fā)光單元120具備薄膜晶體管(TFT)，且為了覆蓋這些而形成有鈍化膜121，在該鈍化膜121上可形成有有機(jī)發(fā)光器件(OLED) 128。
[0034]第一基板110可使用玻璃材料，但并不局限于此，可以使用塑料材料，還可以使用不銹鋼(sus)jic(Ti)等金屬材料。[0035]在第一基板110的上面還形成有由有機(jī)化合物和/或無機(jī)化合物構(gòu)成的緩沖層122，其可以由SiOx (X≥I), SiNx (x≥I)形成。
[0036]在該緩沖層122上形成以預(yù)定的圖案排列的活性層123之后，活性層123被埋設(shè)于柵絕緣層124?；钚詫?23具有源區(qū)域123a和漏區(qū)域123c，在其之間還包括溝道區(qū)域123b。
[0037]這種活性層123可通過在緩沖層122上形成非晶硅膜之后，將其結(jié)晶化而形成為多晶硅膜，且對該多晶硅膜進(jìn)行圖案化而形成。在前述活性層123中，根據(jù)驅(qū)動TFT (未圖示)、開關(guān)TFT (未圖示)等TFT種類，其源區(qū)域123a和漏區(qū)域123c利用雜質(zhì)摻雜。
[0038]柵絕緣層124的上面形成有與活性層123對應(yīng)的柵極125和埋設(shè)該柵極125的層間絕緣層126。
[0039]并且，層間絕緣層126和柵絕緣層124形成連接孔之后，在層間絕緣層126上形成源極127a和漏極127b，且使源極127a和漏極127b分別連接到源區(qū)域123a和漏區(qū)域123c。
[0040]另外，由于如上所述地形成源極電極127a、漏極電極127b的同時形成反射膜，因此前述源極電極127a、漏極電極127b優(yōu)選為用導(dǎo)電性良好的材料形成為能夠進(jìn)行光反射的厚度。優(yōu)選地，由Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、N1、Nd、Ir、Cr、L1、Ca以及這些的化合物等的金屬材料構(gòu)成。
[0041]在如此形成的前述薄膜晶體管和前述反射膜的上部形成鈍化膜121，在該鈍化膜121的上部形成有機(jī)發(fā)光器件(OLED)的像素電極128a。該像素電極128a通過形成于鈍化膜121的通孔H2連接到TFT的漏極127b。前述鈍化膜121可由無機(jī)物和/或有機(jī)物形成，且形成為單層或雙層以上，而且上表面還可以與下部膜的彎曲無關(guān)地形成為平坦膜，以使上表面形成得平坦，與此相反，也可以形成為依據(jù)位于下部的膜的彎曲而彎曲。并且，該鈍化膜121優(yōu)選為用透明絕緣體形成，以能夠達(dá)到諧振效果。
[0042]鈍化膜121上形成像素電極128a之后，由有機(jī)物和/或無機(jī)物形成像素定義膜129，以覆蓋該像素電極128a和鈍化膜121，且形成開口，以暴露像素電極128a。
[0043]并且，至少在前述像素電極128a上形成有機(jī)發(fā)光層128b和對向電極128c。
[0044]像素電極128a起到陽極電極的功能，對向電極128c起到陰極電極的功能，但是，顯然這些像素電極128a和對向電極128c的極性變得相反也可以。
[0045]像素電極128a可以用功函數(shù)較高的材料形成，且可由ΙΤΟ、IZO、In2O3以及ZnO等透明導(dǎo)電體形成。
[0046]對向電極128c 可由功函數(shù)較低的 Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、N1、Nd、Ir、Cr、l1、Ca 以
及這些的化合物等金屬材料形成，但為實現(xiàn)半透過反射膜而由Mg、Ag、Al等形成得較薄，由此在進(jìn)行光學(xué)諧振之后使光透過。
[0047]像素電極128a和對向電極128c通過前述有機(jī)層128b彼此絕緣，且對有機(jī)層128b施加互不相同的極性的電壓，以在有機(jī)發(fā)光層128b形成發(fā)光。
[0048]有機(jī)層128b可使用低分子或高分子有機(jī)膜。當(dāng)使用低分子有機(jī)膜時，空穴注A 層(HIL:Hole Injection Layer)、空穴傳輸層(HTL:Hole TransportLayer)、發(fā)光層(EML:Emission Layer)、電子傳輸層(ETL:ElectronTransport Layer)、電子注入層(EIL:Electron Injection Layer)等以單一或復(fù)合的結(jié)構(gòu)層疊而形成,作為可使用的有機(jī)材料包括銅酞菁(CuPc: copper phthalocyanine)、N, N’ - 二(萘-1-基)-N, N’ - 二苯基-聯(lián)苯胺(N, N’ -Di (naphthalene-l-yl)-N, N’ -diphenyl-benzidine:NPB)、三-8-輕基喹啉招(tris-8-hydroxyquinoline aluminum) (Alq3)在內(nèi)可使用多種。這些低分子有機(jī)膜通過真空沉積的方法形成。此時，空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層以及電子注入層等為公共層，可共同適用于紅、綠、藍(lán)的像素。因此，與圖2不同，這些公共層與對向電極128c —樣，形成為覆蓋整個像素。
[0049]對于高分子有機(jī)膜來說，大致可具有由空穴傳輸層(HTL)和發(fā)光層(EML)構(gòu)成的結(jié)構(gòu)，此時，作為前述空穴傳輸層使用聚乙撐二氧噻吩(PED0T)，作為發(fā)光層使用聚對亞苯基亞乙烯(PPV,Poly-Phenylenevinylene)類以及聚荷(Polyfluorene)類等高分子有機(jī)物質(zhì)，這些可通過絲網(wǎng)印刷或噴墨印刷方法等形成。
[0050]如上所述的有機(jī)層并不是必需要局限于此，可適用多種實施例。
[0051]第二基板130可以形成為與第一基板110類似。具體來講，第二基板130可使用與第一基板110類似的材料的玻璃材料，但并不是必需要局限于此，還可使用塑料材料。
[0052]另外，顯示裝置100可包括形成于第二基板130以能夠改變從發(fā)光單元120發(fā)出的光的路徑的折射層140。此時，折射層140可以與第二基板130的物質(zhì)相同地與第二基板130形成一體。例如，當(dāng)?shù)诙?30為玻璃材料時，折射層140可以由玻璃材料形成，當(dāng)?shù)诙?30為塑料材料時，折射層140可以為塑料材料。
[0053]并且，折射層140可以與第二基板130形成一體。此時，折射層140可包括凸透鏡形狀的折射凸起140a。尤其，折射凸起140a可形成為半球形狀。
[0054]如上所述的折射凸起140a可形成為從第二基板130朝發(fā)光單元120突起。此時，具備多個折射凸起140a，且多個折射凸起140a在第二基板130的一面上相互隔開預(yù)定的間隔形成。
[0055]另外，制造如上所述的顯示裝置100的方法如下。
[0056]1、在第二基板上形成折射層的步驟
[0057]當(dāng)準(zhǔn)備好第二基板130時，可使折射層140形成于第二基板130上。此時，第二基板130如上所述地可以由透明的材料形成，尤其，第二基板130可以由玻璃材料或塑料材料形成。
[0058]當(dāng)如上所述地準(zhǔn)備好第二基板130時，通過噴射而涂布珠子(bead)此時，前述珠子可包括玻璃粉、硅石(silica)以及陶瓷中的至少一個。
[0059]另外，珠子可通過噴射而火焰噴涂到第二基板130。對于如上所述的珠子而言，其大小可以為I微米(μ m)以上且5微米(μ m)以下。具體來講，若珠子的大小超過上述的范圍，則不會形成折射層140，或者形成折射層140之后可視角變窄，從而有可能使顯示裝置100的側(cè)面的可視性變得不好。
[0060]并且，當(dāng)珠子涂布到第二基板130時，濁度(Haze)可以是30%以上且50%以下。即，將珠子涂布到第二基板130之后，通過第二基板130透過的光的量可以變成30%以上且50%以下。此時，在前述濁度超出前述范圍時，若形成有折射層140，則顯示裝置100在工作時發(fā)生光擴(kuò)散或閃光現(xiàn)象，從而導(dǎo)致可視性變差。
[0061]另外，當(dāng)完成如上所述的作業(yè)時，可對涂布有珠子的第二基板130進(jìn)行蝕刻(Etching)。此時，蝕刻第二基板130的方法通常與蝕刻玻璃材料或塑料材料的方法類似，因此省略詳細(xì)的說明。[0062]如上所述地蝕刻第二基板130的一面時，形成有珠子的部分和沒有形成珠子的部分的蝕刻速度有可能變得不同。尤其，第二基板130的形成有珠子的部分的蝕刻速度可小于第二基板130的沒有形成珠子的部分的速度。因此，由于如上所述的蝕刻速度的差異，當(dāng)蝕刻第二基板130時，第二基板130的一面可形成凹凸不平的結(jié)構(gòu)物。
[0063]當(dāng)如上所述地蝕刻第二基板130時，在被蝕刻的第二基板130的一面可形成折射層140。此時，如上所說明一樣，折射層140可形成有折射凸起140a。尤其，當(dāng)形成折射層140時，在蝕刻第二基板130的過程中，珠子可完全被去除或有少量形成于折射凸起140a。
[0064]折射凸起140a具有多個，各折射凸起140a可以為凸透鏡形狀。如上所述的折射凸起140a以相互隔開預(yù)定的間隔而形成于第二基板130的一面。
[0065]2、在第一基板上形成發(fā)光單元的步驟
[0066]另外，可在如上所述的作業(yè)完成或進(jìn)行的期間，在第一基板110上形成發(fā)光單元120。此時，在第一基板110上形成發(fā)光單元120的方法與上述進(jìn)行的說明相同，因此省略詳細(xì)的說明。
[0067]而且，形成發(fā)光單元120的各個層的具體方法與制造一般的顯示裝置100時使用的方法類似，因此省略詳細(xì)的說明。
[0068]3、密封第一基板和第二基板的步驟
[0069]另外，當(dāng)前述的作業(yè)完成時，可密封第一基板110和第二基板130。此時，使形成于第二基板130的折射層140與形成于第一基板110的發(fā)光單元120相面對而布置，由此密封第一基板110和第二基板130。
[0070]如上所述的密封第一基板110和第二基板130的方法可通過在第一基板110與第二基板130之間布置密封劑150之后進(jìn)行擠壓，由此實現(xiàn)密封。此時，利用密封劑150密封第一基板110和第二基板130的方法與通常的顯示裝置100的密封方法類似，因此省略詳細(xì)的說明。
[0071]另外，如上制作的顯示裝置100可提高在側(cè)面觀看的用戶的可視性。具體來講，在顯示裝置100中，從發(fā)光單元120發(fā)出的光通過折射層140的同時，其路經(jīng)可發(fā)生改變。
[0072]例如，前述光可從發(fā)光單元120朝多個方向發(fā)射。此時，前述光通過折射層140的同時，其路徑可發(fā)生改變。尤其，通過折射層140的同時，前述光可朝第二基板130的側(cè)面?zhèn)日凵?。對于如上所述地被折射的光，?dāng)用戶在第二基板130的側(cè)面進(jìn)行觀看時，對于用戶而言，識別出的光如同直射的光。
[0073]并且，用戶通過第二基板130觀看發(fā)光單元120時，用戶所觀看的位置通過第二基板130和折射層140的同時被折射而被用戶看到。尤其，用戶如上所述地觀看時，用戶雖然從第二基板130的側(cè)面觀看，但是會感覺到就像觀看形成于發(fā)光單元120的各個像素一樣。
[0074]因此，當(dāng)用戶從側(cè)面進(jìn)行觀看時，顯示裝置100也能夠確保用戶的可視性。尤其，對于顯示裝置100而言，即使在側(cè)面，用戶也能夠觀看到清楚的圖像，因此能夠改善用戶的可視角。
[0075]圖3為示出本發(fā)明的另一實施例提供的顯示裝置200的概念圖。
[0076]參考圖3，顯示裝置200可包括第一基板210、第二基板230、發(fā)光單元220以及折射層240。此時，第一基板210、第二基板230以及發(fā)光單元220與前述說明的情況類似，因此省略詳細(xì)的說明。[0077]另外，折射層240可包括由涂布于第二基板230上的珠子形成的珠子層241。并且，折射層240可包括形成于珠子層241上的保護(hù)層242。此時，前述珠子可包括玻璃粉、硅石(silica)以及陶瓷中的至少一個。
[0078]保護(hù)層242可以為折射率小于第二基板230的折射率的物質(zhì)。尤其，保護(hù)層242可包括環(huán)氧樹脂(Epoxy)和娃樹脂(silicone)中的至少一個。此時,保護(hù)層242的折射率可以為1.5以下。當(dāng)保護(hù)層242的折射率大于1.5時，從發(fā)光單元220發(fā)出的發(fā)光的折射變得不順暢，或者從外部入射的光的折射變得不順暢，從而無法確保用戶的可視角。
[0079]另外，制造如上所述的顯示裝置200的方法如下。
[0080]1、在第二基板上形成折射層的步驟
[0081]當(dāng)準(zhǔn)備好第二基板230時，可使折射層240形成于第二基板230上。此時，可通過噴射珠子將珠子涂布到第二基板230上。尤其，所述珠子的大小可形成為與前述說明的珠子的大小類似。
[0082]具體來講，前述珠子的大小可以為I微米(μπι)以上且5微米(μ m)以下。此時，若前述珠子的大小超過上述的范圍，則折射層240不能按要求形成，從而無法確保顯示裝置200的在側(cè)面的用戶的可視角。
[0083]如上所述地涂布于第二基板230上的所述珠子的濁度(Haze)如上所說明的一樣可以為30%以上且50%以下。此時，當(dāng)所述珠子超過前述范圍而涂布于第二基板230時，在顯示裝置200工作時會發(fā)生光擴(kuò)散或閃光現(xiàn)象，從而可能妨礙可視性或可視角。
[0084]2、在珠子層上形成保護(hù)層的步驟
[0085]當(dāng)完成如上所述的作業(yè)時，可在涂布有所述珠子的第二基板230形成保護(hù)層242。此時，保護(hù)層242可包括物質(zhì)。例如，如上所說明的一樣，保護(hù)層242可包括環(huán)氧樹脂(Epoxy)和娃樹脂(silicone)中的至少一個。
[0086]保護(hù)層242可利用多種方法形成。具體來講，當(dāng)保護(hù)層242包括環(huán)氧樹脂時，通過紫外光(UV)、常溫干燥、熱干燥等多種方法進(jìn)行固化，由此可被鈍化。
[0087]相反,保護(hù)層242由娃樹脂形成時,可通過玻璃體上娃(SOG, silicon onglass)工藝形成。此時，玻璃上硅工藝可根據(jù)通常的化學(xué)氣相沉積法、涂布的方法來執(zhí)行，因此省略詳細(xì)的說明。
[0088]另外，當(dāng)如上所述地形成保護(hù)層242時，由于珠子層241的珠子，保護(hù)層242可以彎曲地形成。此時，保護(hù)層242中存在有珠子層241的珠子的部分突出地形成，因此，在完成固化之后，可形成為凸透鏡形狀。即，當(dāng)完成如上所述的過程時，如上述圖1和圖2中進(jìn)行說明的那樣，折射層240可形成有折射凸起140a。
[0089]3、在第一基板上形成發(fā)光單元的步驟
[0090]在如上所述的作業(yè)完成時或進(jìn)行的過程中，可在第一基板210上形成發(fā)光單元220。此時，形成發(fā)光單元220的方法以在上面進(jìn)行了詳細(xì)的說明，因此省略詳細(xì)的說明。
[0091]4、密封第一基板和第二基板的步驟
[0092]當(dāng)前述的作業(yè)完成時，可密封第一基板210和第二基板230以使其相互結(jié)合。此時，密封第一基板210和第二基板230的方法與在前面所說明的方法類似，因此省略詳細(xì)的說明。
[0093]另外，如上制作的顯示裝置200可提高在側(cè)面觀看的用戶的可視性。具體來講，在顯示裝置200中，從發(fā)光單元220發(fā)出的光通過折射層240的同時，其路經(jīng)可發(fā)生改變。
[0094]例如，前述光可從發(fā)光單元220朝多個方向發(fā)射。此時，前述光通過折射層240的同時，其路徑可發(fā)生改變。尤其，通過折射層240的同時，前述光可朝第二基板230的側(cè)面?zhèn)日凵?。對于如上所述地被折射的光，?dāng)用戶在第二基板230的側(cè)面進(jìn)行觀看時，對于用戶而言，識別出的光如同直射的光。
[0095]并且，用戶通過第二基板230觀看發(fā)光單元220時，用戶所觀看的位置通過第二基板230和折射層240的同時被折射而被用戶看到。尤其，用戶如上所述地觀看時，用戶雖然從第二基板230的側(cè)面觀看，但是會感覺到就像觀看形成于發(fā)光單元220的各個像素一樣。
[0096]因此，當(dāng)用戶從側(cè)面進(jìn)行觀看時，顯示裝置200也能夠確保用戶的可視性。尤其，對于顯示裝置200而言，即使在側(cè)面，用戶也能夠觀看到清楚的圖像，因此可以改善用戶的可視角。
[0097]并且，顯示裝置200通過比較簡單的結(jié)構(gòu)形成折射層240，因此可節(jié)省制造費用，縮短制造時間，且使制造工藝變得簡單。
[0098]本發(fā)明雖然通過與前述所記載的優(yōu)選實施相關(guān)聯(lián)而進(jìn)行了說明，但是在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍的情況下，可進(jìn)行各種修改或變形。因此，權(quán)利要求書中所請求的保護(hù)范圍只要屬于本發(fā)明的主旨，即可包括這樣的修改或變形。
【權(quán)利要求】
1.一種顯示裝置，其特征在于，包括: 第一基板； 發(fā)光單元，形成于所述第一基板上； 第二基板，從所述發(fā)光單元隔開預(yù)定間距而布置；以及 折射層，形成于所述第二基板，以用于改變從所述發(fā)光單元發(fā)出的光的路徑。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述折射層具備由與所述第二基板相同的物質(zhì)形成的凸透鏡形狀的折射凸起。
3.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于，所述折射層具備: 珠子層，由涂布于所述第二基板上的珠子形成； 保護(hù)層，形成于所述珠子層上。
4.如權(quán)利要求3所述的顯示裝置，其特征在于，所述珠子包括玻璃粉、硅石以及陶瓷中的至少一個。
5.如權(quán)利要求3所述的顯示裝置，其特征在于，所述保護(hù)層包括環(huán)氧樹脂和硅樹脂中的至少一個。
6.如權(quán)利要求3所述的顯示裝置，其特征在于，所述保護(hù)層為折射率小于第二基板的折射率的物質(zhì)。
7.如權(quán)利要求3所述的顯示裝置，其特征在于，所述保護(hù)層的折射率為1.5以下。
8.如權(quán)利要求3所述的顯示裝置，其特征在于，所述珠子的大小為I微米以上且5微米以下。
9.如權(quán)利要求3所述的顯示裝置，其特征在于，涂布于所述第二基板上的所述珠子的濁度為30%以上且50%以下。
10.一種顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括如下步驟: 在第二基板上形成折射層； 在第一基板上形成發(fā)光單元；以及 將所述折射層與所述第一基板相面對而布置，并密封所述第一基板和所述第二基板。
11.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述折射層通過對所述第二基板的一面用玻璃粉火焰噴涂之后進(jìn)行蝕刻而形成。
12.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，形成所述折射層的步驟包括步驟: 在所述第一基板上形成珠子層；以及 在所述珠子層上形成保護(hù)層。
13.如權(quán)利要求12所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，形成所述保護(hù)層的步驟為利用紫外光固化環(huán)氧樹脂或利用玻璃體上硅工藝進(jìn)行鈍化的步驟。
14.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述折射層具備由與所述第二基板相同的物質(zhì)形成的凸透鏡形狀的折射凸起。
【文檔編號】H01L27/32GK103515409SQ201210395435
【公開日】2014年1月15日 申請日期:2012年10月17日 優(yōu)先權(quán)日:2012年6月20日
【發(fā)明者】樸惠貞, 樸順龍, 鄭又碩, 白碩基, 金兌垠 申請人:三星顯示有限公司