專利名稱：掩模組件以及使用該掩模組件的掩?？蚪M件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于沉積有機電致發(fā)光(EL)裝置中的薄膜的掩模組件以及一種使用該掩模組件的掩?？蚪M件。
背景技術(shù)：
自發(fā)射的有機電致發(fā)光(EL)裝置提供等離子體顯示面板(rop)的優(yōu)點，例如視角寬、對比度高和響應(yīng)速度快。因此，有機EL裝置被認為是下一代平板顯示裝置。典型地，有機EL裝置包括陽極、陰極和在這兩個電極之間具有發(fā)光層的有機層。由于有機層易受濕度的影響而不能以通常的光刻方法來形成，所以通過沉積的方式來形成有機層?！DI是用于沉積有機EL裝置中包括的薄膜的傳統(tǒng)的掩?？蚪M件的分解透視圖。參照圖1，傳統(tǒng)的掩模10由金屬薄板11形成并包括多個掩模圖案單元12。掩模圖案單元12使得在母板(未示出)上能夠制造包括有機EL裝置的多個單元裝置。各掩模圖案單元12與單元裝置對應(yīng)。各掩模圖案單元12包括與將沉積在母板上的單元裝置的形狀和圖案對應(yīng)的多個開口 12a。如圖I中的箭頭所指，通過在X方向和y方向上施加拉力將掩模10固定在框20上?？?0包括左右支撐條21、上下支撐條22和開口 23。當(dāng)掩模10固定在框20上時，應(yīng)當(dāng)使拉力均勻地施加到掩模10，而且開口 12a的寬度應(yīng)當(dāng)保持在預(yù)定的公差內(nèi)。即使當(dāng)掩模固定在框上時，按照傳統(tǒng)設(shè)計的掩模的重力也會使其下垂。為了防止掩模下垂，在掩模上施加拉力，這會導(dǎo)致框20的左右支撐條21向內(nèi)彎曲，上下支撐條22向外彎曲，如圖2所示。也有可能，左右支撐條21會向外彎曲，上下支撐條22會向內(nèi)彎曲。如上所述，即使當(dāng)掩模10固定在框20上并施加均勻的拉力時，開口 12a的形狀也會扭曲。這會在形成于基板上的單元裝置的電極圖案(未示出)與掩模圖案單元12的開口 12a之間產(chǎn)生誤差。為了解決上面的問題，韓國公布的第2003-0046090號和第2003-0093959號專利
公開了一種用于沉積有機EL裝置的薄膜的掩?？蚪M件，其中，圖案掩模分為多個單位圖案掩模，分開的單位圖案掩模的兩端被固定到框，并在框上施加拉力。根據(jù)傳統(tǒng)的掩?？蚪M件，分開的單位圖案掩模被焊接到框上，以防止掩模圖案單元的開口由于拉力而變形。然而，在堅固性方面和在固定到框上的相鄰的單位圖案掩模之間保持期望的間隙方面仍存在問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種掩模組件以及一種使用該掩模組件的掩?？蚪M件，其中，該掩模組件通過將單位圖案掩模附于開口掩模上而能夠保持單位圖案掩模之間的間隙和堅固性，該開口掩模包括在行或列上的單元裝置處的開口。根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種用于沉積平板顯示器的薄膜的掩模組件，該掩模組件包括開口掩模，包括在行或列上排列的多個第一開口 ；圖案掩模，包括多個單位圖案掩模，各單位圖案掩模的兩端固定在開口掩模的行方向或列方向上，從而使拉力施加到單位圖案掩模，其中，單位圖案掩模包括與開口掩模的多個第一開口對應(yīng)的多個掩模圖案單元。單位圖案掩?？砂ㄅc開口掩模的多個第一開口中排列在行方向上的第一開口對應(yīng)的多個掩模圖案單兀。各掩模圖案單?？砂ㄔ陂_口掩模的列方向上排列且在列方向上具有長邊的多個第二開口。掩模圖案單元可包括多個第二開口，所述第二開口的圖案與平板顯示器的薄膜的圖案相同。
單位圖案掩模可形成為帶狀，并在開口掩模的行方向上附于開口掩模上。單位圖案掩?？砂ㄅc開口掩模的第一開口中排列在行方向上的第一開口對應(yīng)的多個掩模圖案單元。各掩模圖案單元可包括在列方向上延長且在行方向上排列的多個槽。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種用于沉積平板顯示器的薄膜的掩模框組件，該掩模框組件包括框，包括第一開口 ；第一掩模，包括排列在第一開口內(nèi)的多個第二開口 ；第二掩模，包括多個單位圖案掩模，所述單位圖案掩模的兩端在第一掩模的列或行方向上固定到第一掩模上，用于使拉力施加到第二掩模，其中，第二掩模包括與第一掩模的第二開口對應(yīng)的多個掩模圖案單元。第二掩模可包括與第一掩模的第二開口中排列在第一掩模的行方向上的第二開口對應(yīng)的多個掩模圖案單元。各掩模圖案單元可包括在第一掩模的列方向上延長且在第一掩模的行方向上排列的多個第三開口。所述各掩模圖案單元可包括多個第三開口，所述第三開口的圖案與平板顯示器的薄膜的圖案相同。單位圖案掩?？尚纬蔀閹?，并在第一掩模的行方向上附于第一掩模上。單位圖案掩?？砂ㄅc第二開口對應(yīng)且在第一掩模的行方向上排列的多個掩模圖案單元。所述各掩模圖案單元可包括在第一掩模的列方向上延長且在第一掩模的行方向上排列的多個槽。


通過參照附圖來詳細描述本發(fā)明的示例性實施例，本發(fā)明的上述和/或其他方面將會變得更加清楚，附圖中圖I是用于沉積有機電致發(fā)光(EL)裝置的薄膜的傳統(tǒng)的掩模框組件的分解透視圖；圖2是用于沉積有機EL裝置的薄膜的傳統(tǒng)的掩?？蚪M件的平面圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的開口掩模的透視圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的開口掩模和單位圖案掩模的分解透視圖；圖5是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的單位圖案掩模的透視圖；圖6是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的掩?？蚪M件的平面圖；圖7是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的掩?？蚪M件的局部分解透視圖。
具體實施例方式圖3是作為本發(fā)明的一些實施例中使用的用于沉積有機電致發(fā)光(EL)裝置的薄膜的掩模組件的一部分的開口掩模的一個實施例。參照圖3，開口掩模30的一個實施例包括與將形成在母板(未示出)上的多個單元裝置對應(yīng)的多個開口 33。這里，母板指利用掩模組件可在其上形成有機EL裝置的基板。在一些實施例中，在利用掩模成型之后，通過劃線從母板切割各單元裝置以形成一個有機EL裝置。在本發(fā)明的一些實施例中，開口掩模30包括相對于彼此平行的多個肋36,多個肋36的排列方式為在各肋36之間隔開相等的間隙。肋36在列方向(根據(jù)圖3的坐標系的Y方向)上延伸，多個肋37相對于彼此平行，且其排列方式為在各肋37之間隔開相等的間隙。肋37可在行方向(根據(jù)圖3的坐標系的X方向)上延伸。通常，肋36和肋37彼此相 交以形成多個開口 33，如圖3所示。標號31 (圖3中)表示在外面部分處的肋的一個實施例。通常，開口掩模30的開口 33排列成與將形成在母板上的單元裝置的圖案對應(yīng)。參照圖4,本發(fā)明的一些實施例包括開口掩模30和圖案掩模40。在一些實施例中，圖案掩模40包括多個單位圖案掩模45。通常，各單位圖案掩模45形成為矩形形狀的薄板。然而，值得提醒的是，單位圖案掩模45可以以其它形狀形成。通常，單位圖案掩模45包括沿著單位圖案掩模45的長度在行方向(X方向)上排列的多個掩模圖案單元41。在一些實施例中，掩模圖案單元41被構(gòu)造成與將形成在母板上的各有機EL裝置的期望的圖案對應(yīng)。通常，掩模圖案單元41包括呈矩形形狀并在列方向(y方向)上跨過單位圖案掩模45的寬度的部分延伸的多個開口 41a，如圖5中所示。然而，掩模圖案單元41和開口 41a可以具有不同的形狀和取向。掩模圖案單元41的開口 41a可通過遮蔽單元41b分離。通常，遮蔽單元41b相對于彼此平行延長，并沿著單位圖案掩模45的寬度在列方向(y方向)上延伸。在本發(fā)明的一個實施例中，多個掩模圖案單元41沿著各單位圖案掩模45的長度(行，X方向)排列。通常，掩模圖案單元41在單位圖案掩模45上的排列方式為，掩模圖案單元41基本與開口掩模30的開口 33對齊。通常，各單位圖案掩模45的端部由開口掩模30支撐。見圖4。通常，該端部是延長的單位圖案掩模45的矩形的短邊或長邊。在一些實施例中，在開口掩模30上對單位圖案掩模45的端部的支撐使得拉力被施加到單位圖案掩模45。通常，單位圖案掩模45被焊接到開口掩模30上，從而掩模圖案單元41與開口 33基本對齊。有利的方面是，這便利了圖案掩模40相對于開口掩模30的放置。此外，這提供了圖案掩模40的提高了的穩(wěn)定性，而且能以提高了的精度排列掩模圖案。在一些實施例中，這使得單位圖案掩模45之間的距離保持在預(yù)定的范圍內(nèi)。這里，單位圖案掩模45在與掩模圖案單元41的遮蔽單元41b相交的方向上由開口掩模30來支撐，并通過肋36來保持單位圖案掩模45之間的距離。當(dāng)通過焊接使單位圖案掩模45附于開口掩模時，單位圖案掩模45的掩模圖案單元41與開口掩模30的開口 33對應(yīng)，因而，易于相對于開口掩模30排列圖案掩模40，而且提高了這種排列的穩(wěn)定性。因此，可保持單位圖案掩模45之間的間隙。在本發(fā)明的一個實施例中，圖案掩模40的單位圖案掩模45形成為帶狀的薄板。然而，單位圖案掩模45可以以其它各種形狀形成。此外，單位圖案掩模45的掩模圖案單元41在單位圖案掩模45的寬度方向(y方向)上形成為槽。然而，掩模圖案單元41可以以其它各種開口圖案形成。參照圖6和圖7,在一些實施例中，掩?？蚪M件100包括由框50支撐的開口掩模30和圖案掩模40，這就使拉力施加到框50和圖案掩模40。通常，框50包括上下支撐部分、左右支撐部分和單個開口 51。在一些實施例中，框50，例如圖7中所表示的框，用作用于掩?？蚪M件100的框結(jié)構(gòu)。然而，各種結(jié)構(gòu)的框只要能夠支撐掩模組件就可以使用。在掩?？蚪M件100的一些實施例中，如圖4所示，多個單位圖案掩模45在行方向上由開口掩模30來支撐。通常，開口掩模30的開口 33的排列方式為，由與開口掩模30的邊緣最接近的開口 33的外面邊緣限定的周邊與框50的開口 51對應(yīng)。在一些實施例中，本發(fā)明用于沉積有機EL裝置中的薄膜。然而，本發(fā)明可用于沉積各種平板顯示器例如液晶顯示(LCD)設(shè)備的電極圖案。也值得提醒的是，本發(fā)明能用于·沉積其它用途的薄膜。如上所述，本發(fā)明的一些實施例包括單位圖案掩模，在行方向(X方向)上由開口掩模支撐；掩模圖案單元，在行方向(X方向)上排列在單位圖案掩模上；掩模圖案單元內(nèi)的開口，在列方向(y方向)上形成為槽。然而，掩模圖案單元內(nèi)的開口可在行方向(X方向)上形成為槽。單位圖案掩模在列方向(y方向)上可由開口掩模來支撐，單位圖案掩模的掩模圖案單元可在行方向(X方向)上排列，掩模圖案單元的開口可在行方向(X方向)上或在列方向(y方向)上形成為槽。本發(fā)明的優(yōu)點之一是，單位圖案掩模45之間的間隙可保持在預(yù)定的范圍內(nèi)，因而提高了掩模的穩(wěn)定性。盡管已經(jīng)參照本發(fā)明的示例性實施例示出和描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)該明白，在不脫離由權(quán)利要求限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以在形式和細節(jié)上進行各種改變。本申請要求于2004年11月18日提交到韓國知識產(chǎn)權(quán)局的韓國專利申請第10-2004-0094505號的優(yōu)先權(quán)，該申請的內(nèi)容通過引用全部公開于此。
權(quán)利要求
1.一種用于沉積平板顯示器的薄膜的掩模組件，所述掩模組件包括 開口掩模，包括在行或列上排列的多個第一開口，所述行形成在第一方向上，所述列形成在第二方向上； 圖案掩模，包括多個單位圖案掩模； 其中，在所述第一方向上通過將各單位圖案掩模的兩端固定到所述開口掩模，而使拉力施加到各單位圖案掩模， 其中，所述單位圖案掩模延長并附于所述開口掩模，使得所述延長的邊取向為所述第一方向， 其中，各單位圖案掩模包括與所述第一開口的單個行或列對應(yīng)的多個掩模圖案單元，其中，各掩模圖案單元包括多個槽，所述多個槽沿所述第二方向延長且局部延伸并沿著所述第一方向排列。
2.一種用于沉積平板顯示器的薄膜的掩?？蚪M件，所述掩?？蚪M件包括 框，包括第一開口 ； 第一掩模，包括在行和列上排列的多個第二開口，所述行形成在第一方向上，所述列形成在所述第二方向上，排列所述第二開口使其安裝在由所述第一開口的周邊限定的區(qū)域內(nèi)； 第二掩模，包括多個單位圖案掩模，其中，各單位圖案掩模包括與所述第一掩模的所述多個第二開口對應(yīng)的多個掩模圖案單元； 其中，通過將各單位圖案掩模的兩端在所述第一方向上固定到所述第一掩模，而使拉力施加到各單位圖案掩模， 其中，所述單位圖案掩模在所述第一掩模的所述第一方向上延長并附于所述第一掩模， 其中，所述單位圖案掩模包括與所述第二開口的行對應(yīng)的多個掩模圖案單元， 其中，各掩模圖案單元包括多個延長的槽，所述槽沿所述第二方向延伸。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種掩模組件，其被構(gòu)造成防止掩模熱變形并保持多個分開的圖案掩模之間的間隙。根據(jù)一個實施例，該掩模組件包括開口掩模，其具有在行或列上排列的多個第一開口；圖案掩模，其包括多個單位圖案掩模。在一些實施例中，可相對于開口掩模固定單位圖案掩模的端部，該單位圖案掩模包括被構(gòu)造成與開口掩模的多個第一開口對齊的多個掩模圖案單元。在一些實施例中，拉力被施加到單位圖案掩模。
文檔編號H01L51/50GK102851638SQ20121026304
公開日2013年1月2日 申請日期2005年11月17日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月18日
發(fā)明者金義圭, 金泰亨 申請人:三星顯示有限公司