專(zhuān)利名稱(chēng)：真空繼電器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種可自動(dòng)控制斷續(xù)的電子元件，尤其是一種真空繼電器。
背景技術(shù)：
目前，市場(chǎng)上現(xiàn)有的陶瓷真空繼電器由真空室、傳動(dòng)部分、線圈等組成，繼電器的耐壓除了取決于真空室內(nèi)觸點(diǎn)間隙外，還取決于真空室外的對(duì)地絕緣距離，現(xiàn)有的真空室， 其形成磁管均為圓柱形、方柱形等形狀，這類(lèi)繼電器其內(nèi)空間體積就決定了其對(duì)地絕緣距離，即限制了繼電器的耐壓程度，而真空室內(nèi)接觸片因其尺寸范圍有限而限制了通過(guò)電流能力；另一方面，市面上現(xiàn)有的常規(guī)陶瓷真空繼電器的常開(kāi)、常閉接觸點(diǎn)分布一致，在用戶需要成對(duì)安裝時(shí)，其接線交叉使接線所占額外空間較大，增大了安裝空間且不便于安裝。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述缺陷，本發(fā)明提供了一種真空繼電器，在內(nèi)空間體積一定的情況下耐壓更高、通過(guò)電流能力更強(qiáng)。本發(fā)明為了解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種真空繼電器，包括陶瓷真空室和密封間隔穿設(shè)在真空室的側(cè)壁上的三個(gè)接觸點(diǎn)桿，該三個(gè)接觸點(diǎn)桿分別為常開(kāi)接觸點(diǎn)桿、常閉接觸點(diǎn)桿和公共接觸點(diǎn)桿，其中公共接觸點(diǎn)桿朝向真空室內(nèi)的一端上設(shè)有接觸片，所述接觸片上的一對(duì)接觸臂為背向公共接觸點(diǎn)桿彎折成型，陶瓷真空室呈開(kāi)口圓桶狀，所述陶瓷真空室的開(kāi)口處側(cè)壁面向外擴(kuò)張形成有一圈凸臺(tái)，這樣就增加了陶瓷真空室的對(duì)地絕緣距離，提高了產(chǎn)品的耐壓水平。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述凸臺(tái)呈多級(jí)環(huán)形臺(tái)階狀，各級(jí)環(huán)形臺(tái)階的臺(tái)階面寬度沿真空室的側(cè)壁面自真空室的開(kāi)口處朝向真空室的封閉面逐個(gè)徑向縮小。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述凸臺(tái)呈圓環(huán)狀。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述凸臺(tái)與陶瓷真空室的開(kāi)口處端緣之間呈倒角過(guò)渡。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述接觸片上的接觸臂的兩側(cè)緣于接觸臂彎折處分別向內(nèi)開(kāi)設(shè)形成缺口，這樣可防止接觸片的彎折處發(fā)生角部畸變及形成裂紋，從而可使接觸片的接觸臂在有限的尺寸范圍內(nèi)盡可能加寬，以達(dá)到最大的通過(guò)電流。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述陶瓷真空室穿設(shè)的常開(kāi)接觸點(diǎn)桿、常閉接觸點(diǎn)桿和公共接觸點(diǎn)桿的布局與常規(guī)真空繼電器接觸點(diǎn)桿布局一致(常規(guī)真空繼電器接觸點(diǎn)桿布局為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的結(jié)構(gòu)，本處不再詳細(xì)敘述出其具體結(jié)構(gòu))。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述陶瓷真空室穿設(shè)的常開(kāi)接觸點(diǎn)桿和常閉接觸點(diǎn)桿相對(duì)常規(guī)真空繼電器接觸點(diǎn)桿布局位置互換(常規(guī)真空繼電器接觸點(diǎn)桿布局為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的結(jié)構(gòu)，本處不再詳細(xì)敘述出其具體結(jié)構(gòu))。常開(kāi)接觸點(diǎn)桿和常閉接觸點(diǎn)桿的位置互換，形成接觸點(diǎn)反向分布的真空繼電器，與接觸點(diǎn)正常分布的真空繼電器配合，可方便用戶成對(duì)安裝真空繼電器，減少接線所需要的額外空間，大大縮小了安裝空間。
具體實(shí)施時(shí)可適當(dāng)增大接觸點(diǎn)桿的徑向截面直徑，以增加真空室外接觸點(diǎn)間的絕緣距離，進(jìn)一步增加繼電器的耐壓性能。本發(fā)明的有益效果是本發(fā)明的陶瓷真空室的開(kāi)口處側(cè)壁面向外擴(kuò)張形成有一圈凸臺(tái)，這樣就增加了陶瓷真空室的對(duì)地絕緣距離，提高了產(chǎn)品的耐壓水平；所采用的接觸片上的接觸臂的兩側(cè)緣于接觸臂彎折處分別向內(nèi)開(kāi)設(shè)形成缺口，這樣可防止接觸片的彎折處發(fā)生角部畸變及形成裂紋，從而可使接觸片的接觸臂在有限的尺寸范圍內(nèi)盡可能加寬，以達(dá)到最大的通過(guò)電流；同時(shí)設(shè)計(jì)出接觸點(diǎn)反向分布的真空繼電器與接觸點(diǎn)正常分布的真空繼電器配合成對(duì)使用，可方便用戶成對(duì)安裝真空繼電器，減少接線所需要的額外空間，大大縮小了安裝空間。


圖1為本發(fā)明所對(duì)比的常規(guī)真空繼電器的俯視圖；圖2為本發(fā)明中所述接觸點(diǎn)反向分布的真空繼電器的俯視圖；圖3為常規(guī)真空繼電器成對(duì)安裝的接線示意圖；圖4為本發(fā)明所述接觸點(diǎn)反向分布的真空繼電器與接觸點(diǎn)正常分布的真空繼電器配合成對(duì)安裝的接線示意圖；圖5為本發(fā)明的外觀示意圖。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例一種真空繼電器，包括陶瓷真空室1和密封間隔穿設(shè)在真空室1的側(cè)壁上的三個(gè)接觸點(diǎn)桿，該三個(gè)接觸點(diǎn)桿分別為常開(kāi)接觸點(diǎn)桿21、常閉接觸點(diǎn)桿22和公共接觸點(diǎn)桿23，其中公共接觸點(diǎn)桿23朝向真空室內(nèi)的一端上設(shè)有接觸片4，所述接觸片4上的一對(duì)接觸臂40為背向公共接觸點(diǎn)桿23彎折成型，陶瓷真空室1呈開(kāi)口圓桶狀，所述陶瓷真空室 1的開(kāi)口處側(cè)壁面向外擴(kuò)張形成有一圈凸臺(tái)3，這樣就增加了陶瓷真空室的對(duì)地絕緣距離， 提高了產(chǎn)品的耐壓水平。所述凸臺(tái)3呈多級(jí)環(huán)形臺(tái)階狀，各級(jí)環(huán)形臺(tái)階的臺(tái)階面寬度沿真空室1的側(cè)壁面自真空室1的開(kāi)口處朝向真空室1的封閉面逐個(gè)徑向縮小。所述凸臺(tái)3呈圓環(huán)狀。所述凸臺(tái)3與陶瓷真空室1的開(kāi)口處端緣之間呈倒角過(guò)渡。所述接觸片4上的接觸臂40的兩側(cè)緣于接觸臂40彎折處分別向內(nèi)開(kāi)設(shè)形成缺口 5，這樣可防止接觸片4的彎折處發(fā)生角部畸變及形成裂紋，從而可使接觸片4的接觸臂在有限的尺寸范圍內(nèi)盡可能加寬，以達(dá)到最大的通過(guò)電流。所述陶瓷真空室1穿設(shè)的常開(kāi)接觸點(diǎn)桿21、常閉接觸點(diǎn)桿22和公共接觸點(diǎn)桿23 的布局與常規(guī)真空繼電器接觸點(diǎn)桿布局一致(常規(guī)真空繼電器接觸點(diǎn)桿布局為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的結(jié)構(gòu)，本處不再詳細(xì)敘述出其具體結(jié)構(gòu))。所述陶瓷真空室1穿設(shè)的常開(kāi)接觸點(diǎn)桿21和常閉接觸點(diǎn)桿22相對(duì)常規(guī)真空繼電器接觸點(diǎn)桿布局位置互換(常規(guī)真空繼電器接觸點(diǎn)桿布局為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的結(jié)構(gòu)，本處不再詳細(xì)敘述出其具體結(jié)構(gòu))。常開(kāi)接觸點(diǎn)桿21和常閉接觸點(diǎn)桿22的位置互換， 形成接觸點(diǎn)反向分布的真空繼電器(見(jiàn)圖2)，與接觸點(diǎn)正常分布的真空繼電器(見(jiàn)圖1)配合，可方便用戶成對(duì)安裝真空繼電器，減少接線所需要的額外空間，大大縮小了安裝空間 (見(jiàn)圖3、4)。 具體實(shí)施時(shí)可適當(dāng)增大接觸點(diǎn)桿的徑向截面直徑，以增加真空室外接觸點(diǎn)間的絕緣距離，進(jìn)一步增加繼電器的耐壓性能。
權(quán)利要求
1.一種真空繼電器，包括陶瓷真空室(1)和密封間隔穿設(shè)在真空室(1)的側(cè)壁上的三個(gè)接觸點(diǎn)桿，該三個(gè)接觸點(diǎn)桿分別為常開(kāi)接觸點(diǎn)桿(21)、常閉接觸點(diǎn)桿0 和公共接觸點(diǎn)桿(23)，其中公共接觸點(diǎn)桿朝向真空室內(nèi)的一端上設(shè)有接觸片G)，所述接觸片(4) 上的一對(duì)接觸臂GO)為背向公共接觸點(diǎn)桿03)彎折成型，陶瓷真空室(1)呈開(kāi)口圓桶狀， 其特征在于所述陶瓷真空室(1)的開(kāi)口處側(cè)壁面向外擴(kuò)張形成有一圈凸臺(tái)(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空繼電器，其特征在于所述凸臺(tái)(3)呈多級(jí)環(huán)形臺(tái)階狀， 各級(jí)環(huán)形臺(tái)階的臺(tái)階面寬度沿真空室(1)的側(cè)壁面自真空室(1)的開(kāi)口處朝向真空室(1) 的封閉面逐個(gè)徑向縮小。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空繼電器，其特征在于所述凸臺(tái)(3)呈圓環(huán)狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的真空繼電器，其特征在于所述凸臺(tái)(3)與陶瓷真空室(1)的開(kāi)口處端緣之間呈倒角過(guò)渡。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的真空繼電器，其特征在于所述接觸片(4)上的接觸臂GO)的兩側(cè)緣于接觸臂GO)彎折處分別向內(nèi)開(kāi)設(shè)形成缺口(5)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的真空繼電器，其特征在于所述陶瓷真空室(1)穿設(shè)的常開(kāi)接觸點(diǎn)桿(21)、常閉接觸點(diǎn)桿02)和公共接觸點(diǎn)桿03)的布局與常規(guī)真空繼電器接觸點(diǎn)桿布局一致。
7.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的真空繼電器，其特征在于所述陶瓷真空室(1)穿設(shè)的常開(kāi)接觸點(diǎn)桿和常閉接觸點(diǎn)桿0 相對(duì)常規(guī)真空繼電器接觸點(diǎn)桿布局位置互換。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種真空繼電器，包括陶瓷真空室和密封間隔穿設(shè)在真空室的側(cè)壁上的三個(gè)接觸點(diǎn)桿，該三個(gè)接觸點(diǎn)桿分別為常開(kāi)接觸點(diǎn)桿、常閉接觸點(diǎn)桿和公共接觸點(diǎn)桿，其中公共接觸點(diǎn)桿朝向真空室內(nèi)的一端上設(shè)有接觸片，所述接觸片上的一對(duì)接觸臂為背向公共接觸點(diǎn)桿彎折成型，陶瓷真空室呈開(kāi)口圓桶狀，所述陶瓷真空室的開(kāi)口處側(cè)壁面向外擴(kuò)張形成有一圈凸臺(tái)，這樣就增加了陶瓷真空室的對(duì)地絕緣距離，提高了產(chǎn)品的耐壓水平。
文檔編號(hào)H01H33/662GK102237222SQ20101016688
公開(kāi)日2011年11月9日 申請(qǐng)日期2010年4月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月30日
發(fā)明者賈冰冰 申請(qǐng)人:昆山國(guó)力真空電器有限公司