專利名稱：基板夾持部件、具有該部件的基板加工裝置及方法
基板夾持部件、具有該部件的基板加工裝置及方法
相關(guān)申請的交叉引用 本美國非臨時申請根據(jù)35U. S.C. § 119，要求申請日為2008年11月26日的韓國 專利申請?zhí)?0-2008-0118260的優(yōu)先權(quán)，其全部內(nèi)容通過引用合并于此。
背景技術(shù)：
本發(fā)明公開了一種用于加工半導(dǎo)體基板的裝置，更特別地，涉及一種使用加工液 (process liquid)來加工半導(dǎo)體基板的基板夾持部件， 一種具有該基板夾持部件的基板加 工裝置， 一種使用該基板夾持裝置的基板加工方法。 諸如半導(dǎo)體存儲裝置以及平面顯示裝置的電子裝置都具有基板。這種基板可以是 硅片或是玻璃基板。在基板上形成有許多導(dǎo)電層的圖案，并且在導(dǎo)電層之間設(shè)置有絕緣層 圖案以使導(dǎo)體層圖案之間絕緣。導(dǎo)電層圖案或絕緣層圖案通過一系列的過程而形成，例如 曝光，顯影以及蝕刻過程。 這些過程中都包括去除雜質(zhì)微粒的步驟。如果在形成圖案的過程中，基板的表面 還留有雜質(zhì)微粒，那么雜質(zhì)微粒將會產(chǎn)生圖案缺陷。為了避免產(chǎn)生這樣的問題，就需要有雜 質(zhì)微粒去除步驟?？梢酝ㄟ^，例如化學(xué)方法或是物理方法來去除雜質(zhì)?；瘜W(xué)方法，就是使用 化學(xué)試劑來處理基板的表面。而物理方法，就是通過施加物理作用來去除吸附在基板表面 的雜質(zhì)微粒。 當(dāng)使用化學(xué)試劑來清洗基板時，盡管是向基板注射化學(xué)試劑，然而當(dāng)與用于支撐 基板側(cè)邊的夾持銷相撞后，化學(xué)試劑會回流至基板。特別的，由于基板是在被夾持銷固定的 狀態(tài)下被清洗的，化學(xué)試劑在與夾持銷相撞后，可能僅流入特定的位置。因此，可能產(chǎn)生基 板清洗缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種配置為防止產(chǎn)生基板加工缺陷的基板夾持部件。
本發(fā)明同樣提供一種具有該基板夾持部件的基板加工裝置。
本發(fā)明同樣提供一種使用該基板夾持部件的基板加工方法。 本發(fā)明的實(shí)施例提供一種具有基板支撐部件以及旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元的基板夾持部件。
基板支撐部件具有可旋轉(zhuǎn)的支撐板，所述支撐板配置為在所述支撐板上裝載基 板，以及位于所述支撐板上的復(fù)數(shù)個夾持銷，所述夾持銷從基板的側(cè)面將基板的邊緣部分 支撐起來，從而將裝載在所述支撐板上的基板與所述支撐板的頂面間隔開，每一個所述夾 持銷都是可旋轉(zhuǎn)的以轉(zhuǎn)動支撐在所述夾持銷上的基板。旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元位于所述支撐板下 方，用來調(diào)節(jié)所述夾持銷的旋轉(zhuǎn)。 在本發(fā)明的另一個實(shí)施例中，基板加工裝置/方法包括加工容器以及基板夾持單 元。 加工容器配置為在所述加工容器中對基板進(jìn)行加工?；鍔A持單元位于加工容器 內(nèi)，用來支撐基板?；鍔A持單元包括基板支撐部件以及旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元?；逯尾考哂锌尚D(zhuǎn)的支撐板，所述支撐板配置為在所述支撐板上裝載基板，以及位于所述支撐板上 的復(fù)數(shù)個夾持銷，所述夾持銷從基板的側(cè)面將基板的邊緣部分支撐起來，從而將裝載在所 述支撐板上的基板從所述支撐板的頂面間隔開，每一個所述夾持銷都是可旋轉(zhuǎn)的以轉(zhuǎn)動支 撐在所述夾持銷上的基板。旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元位于所述支撐板下面，用來調(diào)節(jié)所述夾持銷的旋 轉(zhuǎn)。 在本發(fā)明的另一個實(shí)施例中，提供一種基本加工方法。所述方法如下。首先，將基 板放置在支撐板上。利用設(shè)置在支撐板上的復(fù)數(shù)個夾持銷，從基板的一側(cè)支撐起基板的邊 緣部分使基板與支撐板的頂面具有間隔。當(dāng)通過旋轉(zhuǎn)支撐板來旋轉(zhuǎn)基板時，向基板噴射加 工液以便對基板進(jìn)行加工，同時，在所述夾持銷的各自的中心軸處旋轉(zhuǎn)夾持銷以改變與夾 持銷接觸的基板的位置點(diǎn)(points)。


提供附圖以便于進(jìn)一步理解本發(fā)明，且其被包含成為本說明書的一部分。附圖與
說明書一-起，示出了本發(fā)明的具體實(shí)施例，以用于解釋本發(fā)明的原理。在圖中圖1是本發(fā)明一個實(shí)施例的基板加工裝置的透視圖；圖2是圖1中加工容器和基板支撐部件的局部縱截面圖；圖3是圖2中基板支撐部件和旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元的示意圖；圖4是圖3中銷旋轉(zhuǎn)部的背面平面圖；圖5是圖3中磁性單元的平面圖；圖6是圖5中第一磁性單元的平面圖；圖7是圖5中第二磁性單元的平面圖；圖8是圖2中加工容器的剖視圖；圖9A至9C是用于說明使用圖2中所示基板加工裝置來清洗薄板上斜角過程的示意圖。
具體實(shí)施例方式
在下文中，將參照附圖來描述本發(fā)明的具體實(shí)施例。 圖1是本發(fā)明一個實(shí)施例的基板加工裝置的透視圖，圖2是圖1中加工容器和基 板支撐部件的縱截面圖；圖3是圖2中旋轉(zhuǎn)頭110和旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元450的示意圖。
參照圖1和圖2，基板加工裝置500可包括基板支撐部件100，加工容器200，復(fù)數(shù) 個噴嘴310和320，提升單元330以及旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元450。 基板支撐部件100設(shè)置在加工容器200內(nèi)?；逯尾考?00可包括旋轉(zhuǎn)頭110， 旋轉(zhuǎn)軸120以及旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元130。基板支撐部件100用來固定薄板10以便對薄板10進(jìn) 行加工。 具體的，旋轉(zhuǎn)頭110大體上呈圓盤形狀。當(dāng)加工薄板10時，薄板10被放置在旋轉(zhuǎn) 頭110上，并且面向旋轉(zhuǎn)頭110的頂面。 旋轉(zhuǎn)軸120與旋轉(zhuǎn)頭110的底面相連接。旋轉(zhuǎn)軸120同樣與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元130相 連接，以使旋轉(zhuǎn)軸120可以通過接收來自旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元130的旋轉(zhuǎn)力而沿自身的中心軸旋 轉(zhuǎn)。該旋轉(zhuǎn)力從旋轉(zhuǎn)軸120傳至旋轉(zhuǎn)頭110處以使旋轉(zhuǎn)頭110可以與固定在旋轉(zhuǎn)頭110上的薄板10—起旋轉(zhuǎn)。 結(jié)合附圖，下面將說明旋轉(zhuǎn)頭110的結(jié)構(gòu)。 參照圖2和圖3，旋轉(zhuǎn)頭110可包括支撐板111，復(fù)數(shù)個夾持銷112以及復(fù)數(shù)個支 撐銷113。 具體地，薄板10被放置在被配置為通過連接于旋轉(zhuǎn)頭110的底面的旋轉(zhuǎn)軸120而
旋轉(zhuǎn)的支撐板111之上，夾持銷112以及支撐銷113設(shè)置在支撐板111的頂面上。 支撐銷113，在薄板IO被放置成與支撐板111的頂面有一定間隔的狀態(tài)下，支撐放
置在支撐板111上的薄板10的底面。夾持銷112設(shè)置在支撐銷113的周圍，以通過支撐放
置在支撐銷113上的薄板10的側(cè)部邊緣使薄板10與支撐銷113相隔開。 特別地，每一個夾持銷112可包括支撐部112a，旋轉(zhuǎn)軸112b以及銷旋轉(zhuǎn)部112c。
支撐部112a在自身的縱向中央處凹進(jìn)，在加工過程中，薄板10的邊緣被放置在支撐部112a
的凹進(jìn)部分上。 支撐部112a與旋轉(zhuǎn)軸112b的上端相連接。旋轉(zhuǎn)軸112b插入支撐板111中且被 配置為繞自身的中心軸旋轉(zhuǎn)。銷旋轉(zhuǎn)部112c與旋轉(zhuǎn)軸112b的下端相連接。銷旋轉(zhuǎn)部112c 具有磁性以使銷旋轉(zhuǎn)部112c可通過與旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元450之間的磁相互作用而被旋轉(zhuǎn)。銷 旋轉(zhuǎn)部112c的旋轉(zhuǎn)力通過旋轉(zhuǎn)軸112b被傳送至支撐部112a，從而使支撐部112a被旋轉(zhuǎn)。
當(dāng)支撐部112a被轉(zhuǎn)動時，放置在支撐部112a上的薄板10也被轉(zhuǎn)動，因此與夾持 銷112相接觸的薄板10的點(diǎn)跡被改變。由于這樣的結(jié)構(gòu)，當(dāng)利用基板加工裝置500對薄板 10進(jìn)行加工時，薄板10的位置，也就是在加工液與夾持銷112相撞后加工液落在薄板10上 的位置，可以連續(xù)地變化，這樣就可以防止在薄板10的邊緣部分產(chǎn)生缺陷。
圖4是圖3中銷旋轉(zhuǎn)部的背面平面圖。 參照圖3和圖4，銷旋轉(zhuǎn)部112c可以為圓盤的形狀，并且包括第一銷磁鐵12a和第 二銷磁鐵和12b。每一個第一銷磁鐵12a都呈扇形且為N極。每一個第二磁鐵12b也呈扇 形且為S極。第一磁鐵12a和第二磁鐵12b交替排列。 在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，夾持銷112可沿支撐板111的徑向方向被水平移動。 也就是，當(dāng)薄板10被放置在支撐板111上時，朝支撐板111的中心移動夾持銷112以便支 撐薄板10，當(dāng)完成加工時，朝支撐板111的邊緣移動夾持銷112以將薄板10放低至支撐銷 113上。 旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元450放置在銷旋轉(zhuǎn)部112c的側(cè)面。旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元450放置在支撐 板111下面以調(diào)節(jié)夾持銷112的轉(zhuǎn)動。 具體的，旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元450可以包括至少一個磁性單元430以及豎直傳動部440。 磁性單元430放置在銷旋轉(zhuǎn)部112c側(cè)面，因此可在磁性單元430與銷旋轉(zhuǎn)部112c之間形 成磁力，以調(diào)節(jié)銷旋轉(zhuǎn)部112c的旋轉(zhuǎn)。 圖5是圖3中磁性單元430的平面圖；圖6是圖5中第一磁性單元的平面圖；圖7 是圖5中第二磁性單元的平面圖。 參照圖3和圖5，磁性單元430位于支撐板111的底面，且圍繞支撐板111呈環(huán)形。 磁性單元430可包括具有不同極性的第一磁性單元410和第二磁性單元420。
參照圖3和圖6，第一磁性單元410可包括復(fù)數(shù)個第一磁鐵411以及第一調(diào)節(jié)板 412。第一磁鐵411彼此間隔，且均為S極。第一調(diào)節(jié)板412呈環(huán)形，且第一磁鐵411位于第一調(diào)節(jié)板412的頂部。第一磁鐵411根據(jù)第一調(diào)節(jié)板412的形狀而配置。也就是說，第 一磁鐵411也配置成環(huán)形。 復(fù)數(shù)個插入孔412a形成在第一調(diào)節(jié)板412內(nèi)，以使第一調(diào)節(jié)板412可與第二磁性 單元420相連接。每一個插入孔412a都位于兩個相鄰的第一磁鐵411之間。
參照圖3和圖7，第二磁性單元420可位于第一磁性單元410下方。第二磁性單元 420可包括復(fù)數(shù)個第二磁鐵421以及一個第二調(diào)節(jié)板422。第二磁鐵421彼此間隔，且均為 N極。第二調(diào)節(jié)板422呈環(huán)形，且第二磁鐵421位于第二調(diào)節(jié)板422的頂部。第二磁鐵421 根據(jù)第二調(diào)節(jié)板422的形狀而配置。也就是說，第二磁鐵421配置成環(huán)形。
參照圖3和圖5，當(dāng)從頂部觀察時，第一磁鐵411和第二磁鐵421交替排列。具體 地，第二磁性單元420的第二調(diào)節(jié)板422可與豎直傳動部440相連接從而可以豎直地移動。 如果第二磁性單元420通過豎直傳動部440向上朝第一磁性單元410移動，第二磁鐵421分 別插入至第一調(diào)節(jié)板412的插入孔412a內(nèi)，第二調(diào)節(jié)板422被放置在第一調(diào)節(jié)板412的底 部。相應(yīng)地，每一個第二磁鐵421位于相鄰的兩個第一磁鐵411之間。這樣，第一磁鐵411 和第二磁鐵421可以相互接觸地排列。 由于第一磁鐵411和第二磁鐵421交替排列，銷旋轉(zhuǎn)部112c可被來自第一磁鐵 411和第二磁鐵421的磁力轉(zhuǎn)動。 相反，當(dāng)?shù)诙{(diào)節(jié)板422通過豎直傳動部440向下朝所述第二調(diào)節(jié)板422的原始 的位置移動，僅僅是呈S極的第一磁鐵411保持在銷旋轉(zhuǎn)部112c附近，那么銷旋轉(zhuǎn)部112c 將不會轉(zhuǎn)動，因?yàn)樵诔蔔極的銷旋轉(zhuǎn)部112c的第二銷磁鐵12b與第一磁鐵411之間產(chǎn)生的 是吸引力。 在本發(fā)明的 一 個實(shí)施例中，豎直傳動部440可以是油缸促動器 (cylinderactimtor)。 基板支撐部件100可進(jìn)一步包括背部噴嘴(未示出)以清洗薄板10的背面。背
部噴嘴可位于旋轉(zhuǎn)頭110的頂面中央位置以便向薄板10噴射清洗液。 參照圖1和圖2，基板支撐部件100和旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元450位于加工容器200內(nèi)部，
并且加工容器為加工薄板提供空間。 圖8是圖2中加工容器200的剖視圖。 參照圖2和圖8，加工容器200環(huán)繞著旋轉(zhuǎn)頭110且為加工薄板提供空間。加工容 器200具有敞開的頂部，且基板支撐部件100的旋轉(zhuǎn)軸120通過形成在加工容器底部的開 口伸出至加工容器200的外面。 加工容器200可包括第一收集槽210，第二收集槽220以及第三收集槽230。加工 過程中用到的化學(xué)試劑可被分離并收集在加工容器200的收集槽210， 220和230內(nèi)。也就 是說，收集槽210， 220和230可用于收集加工過程中不同的化學(xué)試劑。因此，化學(xué)試劑可以 再利用。 在本實(shí)施例中，加工容器200可包括三個收集槽210，220和230。盡管如此，收集 槽210,220和230的數(shù)量可以根據(jù)基板加工裝置500的加工能力而變化。具體地，第一收 集槽210呈環(huán)形圍繞旋轉(zhuǎn)頭110，第二收集槽220呈環(huán)形圍繞第一收集槽210，第三收集槽 230呈環(huán)形圍繞第二收集槽220。 第一收集槽210可包括底板211，側(cè)壁212，頂板213，內(nèi)壁214以及導(dǎo)向壁215。底板211，側(cè)壁212，頂板213，內(nèi)壁214以及導(dǎo)向壁215的每一個都呈環(huán)形。頂板213從側(cè)壁 212向上傾斜，內(nèi)壁214面向側(cè)壁212且與導(dǎo)向壁215相連接。導(dǎo)向壁215與側(cè)壁212相 間隔且位于側(cè)壁212的內(nèi)部，導(dǎo)向壁215向下朝底板211傾斜。導(dǎo)向壁215和頂板213相 互隔開以形成第一引導(dǎo)開口 216，化學(xué)試劑經(jīng)過第一引導(dǎo)開口 216被引入進(jìn)第一收集槽210 內(nèi)。 第二收集槽220圍繞第一收集槽210。第二收集槽220可包括底板221，側(cè)壁222， 頂板223以及內(nèi)壁224。底板221，側(cè)壁222，頂板223以及內(nèi)壁224的每一個都呈環(huán)形。第 二收集槽220的底板221位于第一收集槽210的底板211下方以面向該底板211。側(cè)壁222 與第一收集槽210的側(cè)壁212隔開并且面向該側(cè)壁212。頂板223位于第一收集槽210的 頂板213之上且與該頂板213具有相同的形狀，并且頂板223與第一收集槽210的頂板213 隔開以形成第二引導(dǎo)開口 226?；瘜W(xué)試劑經(jīng)過第二引導(dǎo)開口 226被引入進(jìn)第二收集槽210 內(nèi)。內(nèi)壁224要比第一收集槽210低一些，并且內(nèi)壁224的一部分向下伸出的要比底板221 多一些。 第三收集槽230圍繞第二收集槽220。第三收集槽230可包括底板231，側(cè)壁232， 頂板233。底板231，側(cè)壁232和頂板233的每一個都呈環(huán)形。第三收集槽230的底板231 面向第二收集槽220的底板221且向下與底板221隔開，基板支撐部件100的旋轉(zhuǎn)軸120從 底板231的中間部分插入。側(cè)壁232與第二收集槽220的側(cè)壁222隔開以面向該側(cè)壁222， 頂板233位于第二收集槽220的頂板223之上且與該頂板223具有相同的形狀。頂板233 與第二收集槽220的頂板223隔開以形成第三引導(dǎo)開口 236。化學(xué)試劑經(jīng)過第三引導(dǎo)開口 236被引入進(jìn)第三收集槽230內(nèi)。第一至第三收集槽210，220和230的大小按照從第一至第三收集槽210， 220， 230
的順序依次增大。 當(dāng)加工液被噴射至放置在基板支撐部件100上且被轉(zhuǎn)動的薄板時，由于離心力的 作用，加工液在薄板上朝向收集槽210， 220和230的側(cè)壁212， 222， 232散布開，并且通過引 入開口 216，226，236被引入進(jìn)收集槽210，220，230內(nèi)。 另外，收集管241 ， 243， 245和247與第一至第三收集槽210， 220和230的底板211 ， 221， 231相連接，以將收集在第一至第三收集槽210， 220和230內(nèi)的加工液排出至外部回收 系統(tǒng)(未示出)。收集管241， 243分別與第一收集槽210和第二收集槽220相連接，收集管 245， 247與第三收集槽230相連接。 提升單元330位于加工容器200的外側(cè)且用于豎直傳動。提升單元330與第三 收集槽230的側(cè)壁232相連接以調(diào)節(jié)加工容器200的豎直位置。具體地，提升單元330可 包括托架331，可移動軸333以及驅(qū)動器335。托架331固定在第三收集槽230的側(cè)壁232 上，且與可移動軸333相連接?？梢苿虞S333與驅(qū)動器335相連接從而被驅(qū)動器335豎直 移動。 當(dāng)薄板被放置在旋轉(zhuǎn)頭110上或是從旋轉(zhuǎn)頭110上被提升時，提升單元330降低 加工容器200從而使旋轉(zhuǎn)頭110可以從加工容器200的頂部伸出。另外，在薄板加工過程 中，提升單元330用于抬高或降低加工容器200以調(diào)節(jié)旋轉(zhuǎn)頭110相對于收集槽210， 220， 230的豎直位置，從而使提供在薄板上的加工液可以根據(jù)加工液的種類被分別收集在收集 槽210， 220， 230內(nèi)。
在本實(shí)施的基板加工裝置500中，豎直移動加工容器200以調(diào)節(jié)加工容器200相 對于旋轉(zhuǎn)頭110的豎直位置。盡管如此，可選地，加工容器200相對于旋轉(zhuǎn)頭110的豎直位 置可以通過豎直移動旋轉(zhuǎn)頭IIO來進(jìn)行調(diào)節(jié)。 參照圖1，噴嘴310和320位于加工容器200的外面。噴嘴310和320用于將加工 液或加工氣噴射至固定在基板支撐部件100上的薄板的中央或是邊緣部分，以便清洗或是 蝕刻薄板。 參照附圖，下面將說明在加工過程中薄板10是如何被夾持銷112所轉(zhuǎn)動的。圖9A
至9C是用于說明使用圖2中所示基板加工裝置來清洗薄板邊緣過程的示意圖。 參照圖9A至9C，薄板IO被放置在支撐板111上，夾持銷112向支撐板111的中心
移動以支撐薄板10的邊緣。 接著，噴嘴320在薄板10之上移動。 然后，當(dāng)通過旋轉(zhuǎn)支撐板111來轉(zhuǎn)動薄板10時，加工液通過噴嘴320被注射在薄 板10上。同時，沿所述夾持銷112的中心軸轉(zhuǎn)動夾持銷112，以改變與夾持銷112相接觸的 薄板10的位置點(diǎn)。 也就是說，豎直傳動部440提升第二磁性單元420以將第二磁鐵421插入到第一 調(diào)節(jié)板412的插入孔412a之內(nèi)。因此，每一個第二磁鐵421位于彼此相鄰的兩個第一磁鐵 411之間。也就是，由于第一磁鐵411和第二磁鐵421交替地排列，銷旋轉(zhuǎn)部112c可以借第 一磁鐵411和第二磁鐵421之間產(chǎn)生的磁力而轉(zhuǎn)動。 在薄板10被加工液處理之后，豎直傳動部440將第二調(diào)節(jié)板422降低至初始位 置。然后，僅有呈S極的第一磁鐵411保留在銷旋轉(zhuǎn)部112c附近，因此，由于第一磁鐵411 和呈N極的銷旋轉(zhuǎn)部112c的第二銷磁鐵12a之間產(chǎn)生的吸引力，銷旋轉(zhuǎn)部112c被止住。
當(dāng)銷旋轉(zhuǎn)部112c以這樣的方式被止住之后，干燥流體被噴射至薄板10以對薄板 進(jìn)行干燥。 根據(jù)本發(fā)明，在加工過程中，基板被夾持銷旋轉(zhuǎn)以改變與夾持銷相接觸的基板的
點(diǎn)跡，從而使加工液在與夾持銷相撞之后，加工液落入基板的位置可以被連續(xù)地改變。因
此，當(dāng)基板使用該基板加工裝置進(jìn)行加工時，可以防止在基板的端部產(chǎn)生缺陷。 上面所描述的內(nèi)容應(yīng)當(dāng)被理解成是示意性的，而不是限制性的，隨后的權(quán)利要求
書將會覆蓋所有的那些落入本發(fā)明的實(shí)際的精神和范圍的各種變形，改進(jìn)以及其它實(shí)施方
式。因此，在法律允許下最大延伸的情況下，本發(fā)明的范圍由隨后的權(quán)利要求書及其等效物
的盡可能寬泛的描述所決定，而不應(yīng) 以上面的具體描述而約束或是限定。
權(quán)利要求
一種基板夾持單元，包括基板支撐部件，具有可旋轉(zhuǎn)的支撐板，所述支撐板配置為在所述支撐板上裝載基板，以及位于所述支撐板上的復(fù)數(shù)個夾持銷，所述夾持銷從基板的側(cè)面將基板的邊緣部分支撐起來，從而將裝載在所述支撐板上的基板與所述支撐板的頂面間隔開，每一個所述夾持銷都是可旋轉(zhuǎn)的以轉(zhuǎn)動支撐在所述夾持銷上的基板；以及旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元，位于所述支撐板下方，用來調(diào)節(jié)所述夾持銷的旋轉(zhuǎn)。
2. 如權(quán)利要求1所述的基板夾持單元，其中，每一個所述夾持銷都包括旋轉(zhuǎn)軸，設(shè)置為貫穿所述支撐板并且繞自身中心軸旋轉(zhuǎn)；支撐部，與所述旋轉(zhuǎn)軸的上端相連接，用來支撐裝載在所述支撐板上的基板的邊緣部分，通過轉(zhuǎn)動所述旋轉(zhuǎn)軸使所述支撐部是可旋轉(zhuǎn)的，從而可以旋轉(zhuǎn)基板；以及銷旋轉(zhuǎn)部，位于所述旋轉(zhuǎn)軸的下端，所述銷旋轉(zhuǎn)部具有磁性從而可通過所述銷旋轉(zhuǎn)部與旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元之間的磁相互作用而轉(zhuǎn)動或停止。
3. 如權(quán)利要求2所述的基板夾持單元，所述旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元包括至少一個磁性單元，圍繞支撐板且位于銷旋轉(zhuǎn)部的一側(cè)，以便通過所述磁性板與銷旋轉(zhuǎn)部之間的磁相互作用來調(diào)節(jié)銷旋轉(zhuǎn)部的轉(zhuǎn)動；以及豎直傳動部，配置為可豎直地移動所述磁性單元。
4. 如權(quán)利要求3所述的基板夾持單元，所述磁性單元包括第一磁性單元，包括復(fù)數(shù)個具有第一極性且彼此相互隔開的第一磁鐵；第二磁性單元，包括復(fù)數(shù)個具有與第一極性相反的第二極性、且彼此相互隔開的第二磁鐵，所述第二磁性單元與所述豎直傳動部相連接并且配置為可豎直地移動，所述第一磁鐵配置為環(huán)形，并且第二磁鐵也被配置為環(huán)形。
5. 如權(quán)利要求4所述的基板夾持單元，當(dāng)從所述第一磁鐵和第二磁鐵頂部觀察時，所述第一磁鐵和第二磁鐵呈交替地排列。
6. 如權(quán)利要求5所述的基板夾持單元，所述第二磁性單元位于第一磁性單元下方，并且當(dāng)?shù)诙判詥卧回Q直傳送部提升至第一磁性單元時，每一個第二磁鐵被插入彼此相鄰的兩個第一磁鐵之間。
7. 如權(quán)利要求6所述的基板夾持單元，所述銷旋轉(zhuǎn)部包括至少兩個第一銷磁鐵，具有與第一極性相同的極性，且為扇形；以及至少兩個第二銷磁鐵，具有與第二極性相同的極性，且為扇形，所述第一銷磁鐵和第二銷磁鐵交替地排列。
8. 如權(quán)利要求7所述的基板夾持單元，所述銷旋轉(zhuǎn)部為圓盤形。
9. 如權(quán)利要求1所述的基板夾持單元，所述每一個夾持銷相對所述支撐板在水平位置上是可調(diào)節(jié)的。
10. —種基板加工裝置，包括加工容器，配置為在所述加工容器中對基板進(jìn)行加工；以及基板夾持單元，位于加工容器內(nèi)，用來支撐基板，所述基板夾持單元包括基板支撐部件，具有可旋轉(zhuǎn)的支撐板，所述支撐板配置為在所述支撐板上裝載基板，以及位于所述支撐板上的復(fù)數(shù)個夾持銷，所述夾持銷從基板的側(cè)面將基板的邊緣部分支撐起來，從而將裝載在所述支撐板上的基板從所述支撐板的頂面間隔開，每一個所述夾持銷都 是可旋轉(zhuǎn)的以轉(zhuǎn)動支撐在所述夾持銷上的基板；以及旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元，位于所述支撐板下面，用來調(diào)節(jié)所述夾持銷的旋轉(zhuǎn)。
11. 如權(quán)利要求10所述的基板加工裝置，每一個所述夾持銷都包括 旋轉(zhuǎn)軸，設(shè)置為貫穿支撐板并且繞自身中心軸旋轉(zhuǎn)；支撐部，與旋轉(zhuǎn)軸的上端相連接，用來支撐裝載在支撐板上的基板的邊緣部分，通過轉(zhuǎn) 動旋轉(zhuǎn)軸使所述支撐部是可旋轉(zhuǎn)的，從而可以旋轉(zhuǎn)基板；以及銷旋轉(zhuǎn)部，位于旋轉(zhuǎn)軸的下端，所述銷旋轉(zhuǎn)部具有磁性從而可通過所述銷旋轉(zhuǎn)部與旋 轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元之間的磁相互作用而轉(zhuǎn)動或停止。
12. 如權(quán)利要求11所述的基板加工裝置，所述旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元包括至少一個磁性單元，圍繞支撐板且位于銷旋轉(zhuǎn)部的一側(cè)，以便通過所述磁性單元與銷 旋轉(zhuǎn)部之間的磁相互作用來調(diào)節(jié)銷旋轉(zhuǎn)部的轉(zhuǎn)動；以及 豎直傳動部，配置為可豎直地移動所述磁性單元。
13. 如權(quán)利要求12所述的基板加工裝置，所述磁性單元包括 第一磁性單元，包括復(fù)數(shù)個具有第一極性且彼此相互隔開的第一磁鐵； 第二磁性單元，包括復(fù)數(shù)個具有與第一極性相反的第二極性、且彼此相互隔開的第二磁鐵，所述第二磁性單元與所述豎直傳動部相連接并且配置為可豎直地移動，所述第一磁鐵和第二磁鐵分別被配置為環(huán)形，并且當(dāng)從所述第一磁鐵和第二磁鐵頂部 觀察時，所述第一磁鐵和第二磁鐵呈交替地排列。
14. 如權(quán)利要求13所述的基板加工裝置，所述第二磁性單元位于第一磁性單元下方， 并且當(dāng)?shù)诙判詥卧回Q直傳送部提升至第一磁性單元時，每一個第二磁鐵被插入彼此相 鄰的兩個第一磁鐵之間。
15. 如權(quán)利要求14所述的基板加工裝置，所述銷旋轉(zhuǎn)部包括 至少兩個第一銷磁鐵，具有與第一極性相同的極性，且為扇形；以及至少兩個第二銷磁鐵，具有與第二極性相同的極性，且為扇形， 所述第一磁鐵和第二銷磁鐵交替地排列。
16. 如權(quán)利要求IO所述的基板加工裝置，進(jìn)一步包括噴嘴，所述噴嘴位于支撐板之上， 用于向位于支撐板上的基板的一個端部噴射加工液從而對基板進(jìn)行加工。
17. —種基板加工方法，包括 將基板放置在支撐板上；利用設(shè)置在支撐板上的復(fù)數(shù)個夾持銷，從基板的一側(cè)支撐起基板的邊緣部分使基板與支撐板的頂面具有間隔；當(dāng)通過旋轉(zhuǎn)支撐板來旋轉(zhuǎn)基板時，向基板噴射加工液以便對基板進(jìn)行加工， 其中，在噴射加工液時，在所述夾持銷的各自的中心軸處旋轉(zhuǎn)夾持銷以改變與夾持銷接觸的基板的位置點(diǎn)。
18. 如權(quán)利要求17所述的方法，其中，當(dāng)位于夾持銷下端的銷旋轉(zhuǎn)部、與圍繞支撐板下 部且位于銷旋轉(zhuǎn)部一側(cè)的旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元發(fā)生磁相互作用時，每一個夾持銷旋轉(zhuǎn)。
19. 如權(quán)利要求18所述的方法，所述旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元包括復(fù)數(shù)個第一磁鐵、以及復(fù)數(shù)個 具有與第一磁鐵相反極性的第二磁鐵，以調(diào)節(jié)每一個夾持銷的轉(zhuǎn)動，其中當(dāng)旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元的第一磁鐵和第二磁鐵在銷旋轉(zhuǎn)部的一側(cè)交替排列時，每個夾持 銷都被旋轉(zhuǎn)，而當(dāng)?shù)谝淮盆F或是第二磁鐵之一排列在銷旋轉(zhuǎn)部的一側(cè)時，每個夾持銷都被 停止。
20. 如權(quán)利要求18所述的方法，其中，在噴射加工液之后，所述方法進(jìn)一步包括 通過將旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元的第一磁鐵或是第二磁鐵其中之一放置在夾持銷的附近來停止夾持銷的轉(zhuǎn)動；以及 對基板進(jìn)行干燥。
21. 如權(quán)利要求17所述的方法，其中，向基板的一個端部噴射加工液以對基板的一個 端部進(jìn)行加工。
全文摘要
一種具有基板支撐部件和旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元的基板夾持部件。該支撐部件包括用以裝載基板的可旋轉(zhuǎn)支撐板，以及位于該支撐板上的夾持銷，所述夾持銷通過從基板的側(cè)面將基板的邊緣支撐起來，而將基板從支撐板的頂面間隔開。每一個夾持銷都是可旋轉(zhuǎn)的以轉(zhuǎn)動支撐在夾持銷上的基板。旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)單元位于支撐板下方，用來調(diào)節(jié)夾持銷的旋轉(zhuǎn)。在加工過程中，由于基板通過夾持銷而被旋轉(zhuǎn)以改變與夾持銷相接觸的基板的點(diǎn)跡，從而使加工液在與夾持銷相撞之后而落入基板的位置可以被連續(xù)地改變。因此，可避免在加工基板時，在基板的端部產(chǎn)生缺陷。
文檔編號H01L21/00GK101740453SQ20091022419
公開日2010年6月16日 申請日期2009年11月26日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月26日
發(fā)明者李澤燁, 金奉主 申請人:細(xì)美事有限公司