專利名稱：涂膠顯影機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，尤其涉及涂膠顯影機(jī)。
背景技術(shù)：
涂膠顯影機(jī)(Track)是制造半導(dǎo)體的常用設(shè)備，一般用于光刻膠(PhotoResist) 涂布及顯影等工藝。光刻膠涂布的過程一般包括將晶圓(Wafer)安置于涂膠顯影機(jī)，由涂 膠顯影機(jī)的光刻膠噴嘴向晶圓表面噴上光刻膠。圖1為現(xiàn)有一種涂膠顯影機(jī)的外觀示意圖，該涂膠顯影機(jī)10有四個(gè)用于噴出光刻 膠的光刻膠噴嘴11，當(dāng)需要對吸盤12上的晶圓進(jìn)行光刻膠涂布時(shí)，由其中一個(gè)光刻膠噴嘴 11移動(dòng)至吸盤12安置的晶圓上方，向晶圓噴上光刻膠。由于光刻膠為粘質(zhì)物，因此如果其它三個(gè)光刻膠噴嘴11此時(shí)閑置而不噴出光刻 膠，則其很可能出現(xiàn)結(jié)晶現(xiàn)象，即閑置前噴的光刻膠可能殘余在噴嘴口附近，導(dǎo)致后續(xù)使用 這三個(gè)閑置的光刻膠噴嘴11噴出光刻膠時(shí)，其噴出的光刻膠可能就不均勻，會(huì)降低基于該 涂膠顯影機(jī)10執(zhí)行的光刻工藝質(zhì)量，進(jìn)而降低制造出的產(chǎn)品質(zhì)量。為避免該結(jié)晶問題，現(xiàn)有方案為即使沒有晶圓需要其它三個(gè)光刻膠噴嘴11噴出 光刻膠，也要通過使其噴出光刻膠來防止所述其它三個(gè)光刻膠噴嘴11出現(xiàn)結(jié)晶現(xiàn)象。但是 由于光刻膠的價(jià)格非常昂貴，因此該現(xiàn)有方案的問題在于成本過于高昂。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供涂膠顯影機(jī)，以降低防止光刻膠噴嘴出現(xiàn)結(jié)晶現(xiàn)象的成本。本發(fā)明提出了涂膠顯影機(jī)，包括多個(gè)光刻膠噴嘴，所述噴嘴閑置時(shí)，各個(gè)噴嘴的噴 嘴口位于同一空間，還包括設(shè)置有溶劑揮發(fā)出口的溶劑儲(chǔ)存裝置，用于儲(chǔ)存揮發(fā)性溶劑， 所述出口位于所述空間內(nèi)；濕度檢測裝置，用于檢測所述空間的濕度；濕度控制裝置，用于 在濕度檢測裝置檢測到所述濕度不在預(yù)定濕度范圍時(shí)，通過控制溶劑儲(chǔ)存裝置中的溶劑數(shù) 量來控制所述濕度處于預(yù)定濕度范圍內(nèi)。本發(fā)明提供的涂膠顯影機(jī)通過設(shè)置的濕度檢測裝置檢測所述光刻膠噴嘴的空間 的濕度，并通過濕度控制裝置將濕度控制在預(yù)定范圍，由于濕度在預(yù)定范圍，因此即使光刻 膠噴嘴閑置，也不會(huì)出現(xiàn)結(jié)晶現(xiàn)象，也避免了現(xiàn)有技術(shù)使該閑置的光刻膠噴嘴噴出光刻膠 而浪費(fèi)光刻膠的問題，從而降低了成本。


圖1為現(xiàn)有一種涂膠顯影機(jī)的外觀示意圖；圖2為本發(fā)明實(shí)施例提出的涂膠顯影機(jī)的部分結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式針對背景技術(shù)的問題，本發(fā)明實(shí)施例提出如果能夠?qū)娮炜谒幙臻g的濕度保持在預(yù)定范圍內(nèi)，則可以避免結(jié)晶現(xiàn)象，而且無需使本該閑置的光刻膠噴嘴口噴出光刻膠而 浪費(fèi)光刻膠。圖2為本發(fā)明實(shí)施例提出的涂膠顯影機(jī)的部分結(jié)構(gòu)示意圖，結(jié)合該圖，本實(shí)施例 中涂膠顯影機(jī)20包括多個(gè)光刻膠噴嘴21，所述噴嘴21閑置時(shí)，各個(gè)噴嘴21的噴嘴口 22位于同一空間 23，本實(shí)施例中有4個(gè)光刻膠噴嘴21，也可以是其它數(shù)目；以及還包括設(shè)置有溶劑揮發(fā)出口 24的溶劑儲(chǔ)存裝置25，用于儲(chǔ)存揮發(fā)性溶劑，所述溶劑揮發(fā) 出口 24位于所述空間23內(nèi)，該溶劑存儲(chǔ)裝置25可以是溶劑池，池口位于空間23內(nèi)，溶劑 揮發(fā)出口 24即為池口 ；濕度檢測裝置26，用于檢測所述空間23的濕度，可以包括濕度傳感器261來檢測 所述濕度。濕度控制裝置27，用于在濕度檢測裝置26檢測到所述濕度不在預(yù)定濕度范圍時(shí)， 通過控制溶劑儲(chǔ)存裝置25中的溶劑數(shù)量來控制所述濕度處于預(yù)定濕度范圍內(nèi)。在實(shí)施時(shí)，濕度控制裝置27可以有多種具體結(jié)構(gòu)，下面給出幾種給以說明由于在實(shí)際工作時(shí)，所述濕度通常低于預(yù)定濕度范圍的最低值而未處于預(yù)定濕度 范圍，因此濕度控制裝置27可以具體包括溶劑添加單元270，用于在所述濕度低于預(yù)定濕 度范圍中的最低濕度時(shí)，向溶劑存儲(chǔ)裝置25添加溶劑，以升高所述濕度，使所述濕度處于 所述預(yù)定濕度范圍。此外根據(jù)所述濕度與溶劑揮發(fā)在該空間23中的數(shù)量有關(guān)，例如空間中溶劑量大， 則空間23濕度較高，溶劑量小，則空間23濕度較低，因此可以通過調(diào)節(jié)空間23的出口 28的 大小來調(diào)節(jié)空間23內(nèi)溶劑數(shù)量，進(jìn)而調(diào)節(jié)空間23的濕度處于預(yù)定濕度范圍，基于該想法， 所述濕度控制裝置27可以具體包括出口調(diào)節(jié)單元271，用于調(diào)節(jié)所述出口 28的大小，以 通過控制所述空間23內(nèi)溶劑揮發(fā)出該出口 28的速度來調(diào)節(jié)所述空間23內(nèi)的濕度處于預(yù) 定濕度范圍。上述預(yù)定濕度范圍可以使預(yù)先存儲(chǔ)的，也可以是用戶在使用涂膠顯影機(jī)20時(shí)設(shè) 置的，如果是用戶使用時(shí)設(shè)置，則該涂膠顯影機(jī)20還可以包括預(yù)定濕度范圍設(shè)置裝置29， 用于設(shè)置預(yù)定濕度范圍。根據(jù)設(shè)置的方式，該預(yù)定濕度范圍設(shè)置裝置29可以具體包括顯示單元，用于顯 示要求用戶輸入預(yù)定濕度范圍的信息；獲得單元，用于獲得用戶根據(jù)所述信息輸入的預(yù)定 濕度范圍。如果涂膠顯影機(jī)20預(yù)先已有預(yù)定濕度范圍而用戶要調(diào)整該預(yù)定濕度范圍，則涂 膠顯影機(jī)20還可以包括還包括預(yù)定濕度范圍調(diào)整裝置，用于調(diào)整已有預(yù)定濕度范圍。針對下述幾種光刻膠，本發(fā)明實(shí)施例還給出預(yù)定濕度范圍，對于其他光刻膠，實(shí)施 人員可以通過實(shí)踐得到。在光刻膠為氬氟化物(ARF)型光刻膠時(shí)，預(yù)定濕度范圍為75% 85%，通常不會(huì) 出現(xiàn)結(jié)晶現(xiàn)象；在光刻膠為氪氟化物(KRF)或i線(1-Line)型光刻膠時(shí)，預(yù)定濕度范圍為 70% 85%，通常不會(huì)出現(xiàn)結(jié)晶現(xiàn)象。本發(fā)明實(shí)施例提供的涂膠顯影機(jī)20通過設(shè)置的濕度檢測裝置26檢測所述光刻膠 噴嘴21的空間23的濕度，并通過濕度控制裝置27將濕度控制在預(yù)定范圍，由于濕度在預(yù)定范圍，因此即使光刻膠噴嘴21閑置，也不會(huì)出現(xiàn)結(jié)晶現(xiàn)象，也避免了現(xiàn)有技術(shù)使本該閑 置的光刻膠噴嘴噴出光刻膠而浪費(fèi)光刻膠的問題，從而降低了成本。
顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精 神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍 之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求
一種涂膠顯影機(jī)，包括多個(gè)光刻膠噴嘴，所述噴嘴閑置時(shí)，各個(gè)噴嘴的噴嘴口位于同一空間，其特征在于，還包括設(shè)置有溶劑揮發(fā)出口的溶劑儲(chǔ)存裝置，用于儲(chǔ)存揮發(fā)性溶劑，所述出口位于所述空間內(nèi)；濕度檢測裝置，用于檢測所述空間的濕度；濕度控制裝置，用于在濕度檢測裝置檢測到所述濕度不在預(yù)定濕度范圍時(shí)，通過控制溶劑儲(chǔ)存裝置中的溶劑數(shù)量來控制所述濕度處于預(yù)定濕度范圍內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的涂膠顯影機(jī)，其特征在于，還包括預(yù)定濕度范圍設(shè)置裝置，用于 設(shè)置預(yù)定濕度范圍。
3.如權(quán)利要求2所述的涂膠顯影機(jī)，其特征在于，所述預(yù)定濕度范圍設(shè)定裝置具體包括顯示單元，用于顯示要求用戶輸入預(yù)定濕度范圍的信息； 獲得單元，用于獲得用戶根據(jù)所述信息輸入的預(yù)定濕度范圍。
4.如權(quán)利要求1所述的涂膠顯影機(jī)，其特征在于，還包括預(yù)定濕度范圍調(diào)整裝置，用于 調(diào)整已有預(yù)定濕度范圍。
5.如權(quán)利要求1所述的涂膠顯影機(jī)，其特征在于，所述濕度控制裝置具體包括溶劑添 加單元，用于在所述濕度低于預(yù)定濕度范圍中的最低濕度時(shí)，向溶劑存儲(chǔ)裝置添加溶劑，以 使所述濕度處于所述預(yù)定濕度范圍。
6.如權(quán)利要求1所述的涂膠顯影機(jī)，其特征在于，所述空間具備一出口，溶劑儲(chǔ)存裝置 揮發(fā)出來的溶劑能夠基于所述出口揮發(fā)出所述空間；以及所述濕度控制裝置具體包括出口調(diào)節(jié)單元，用于調(diào)節(jié)所述出口的大小，以通過控制所 述空間內(nèi)溶劑揮發(fā)出該出口的速度來調(diào)節(jié)所述空間內(nèi)的濕度處于預(yù)定濕度范圍。
7.如權(quán)利要求1所述的涂膠顯影機(jī)，其特征在于，所述光刻膠為氬氟化物光刻膠；以及 所述預(yù)定濕度范圍為75% 85%。
8.如權(quán)利要求1所述的涂膠顯影機(jī)，其特征在于，所述光刻膠為氪氟化物光刻膠或i線 型光刻膠；以及所述預(yù)定濕度范圍為70 % 85 %。
全文摘要
本發(fā)明提供涂膠顯影機(jī)，以降低現(xiàn)有方案解決光刻膠噴嘴出現(xiàn)結(jié)晶現(xiàn)象問題的成本，該涂膠顯影機(jī)包括多個(gè)光刻膠噴嘴，所述噴嘴閑置時(shí)，各個(gè)噴嘴的噴嘴口位于同一空間，還包括設(shè)置有溶劑揮發(fā)出口的溶劑儲(chǔ)存裝置，用于儲(chǔ)存揮發(fā)性溶劑，所述出口位于所述空間內(nèi)；濕度檢測裝置，用于檢測所述空間的濕度；濕度控制裝置，用于在濕度檢測裝置檢測到所述濕度不在預(yù)定濕度范圍時(shí)，通過控制溶劑儲(chǔ)存裝置中的溶劑數(shù)量來控制所述濕度處于預(yù)定濕度范圍內(nèi)。
文檔編號(hào)H01L21/00GK101894736SQ20091005156
公開日2010年11月24日 申請日期2009年5月19日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月19日
發(fā)明者黃良志 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司