專利名稱：基板清潔裝置和基板清潔方法
基板清潔裝置和基板清潔方法
相關申請的交叉引用
根據(jù)U. S.C. 35第119條，該美國非臨時專利申請要求2007年8月24曰 申請的、申請?zhí)枮?0-2007-0085596的韓國專利申請的優(yōu)先權，其全部內(nèi)容通 過引用結合于此。
背景技術：
本發(fā)明涉及一種清潔基板的裝置和方法，尤其涉及一種利用聲波能清潔基 板的裝置和方法。
電子設備，如半導體存儲設備和平面顯示設備，包含有一個基板。該基板 可以是硅晶片或玻璃基板。該基板包含有許多的導電圖案和許多使導電圖案絕 緣的絕緣圖案。所述導電圖案和絕緣圖案通過一系列工序加工成形，如曝光、 洗印和蝕刻工序。
所述成形工序中包含一道清除雜質(zhì)微粒的工序。例如，由于基板上的雜質(zhì) 微?？赡芪廴緢D案并使圖案產(chǎn)生缺陷，因此雜質(zhì)清除工序是必要的?；迳系?雜質(zhì)可以運用化學方法或物理方法清除。運用化學方法清除雜質(zhì)時，需要使用 化學制品處理基板表面。運用物理方法清除雜質(zhì)時，需要使用物理力清除吸附 在基板上的雜質(zhì)微粒。
然而，由于目前高度集成的半導體存儲設備具有l(wèi))am或更小的圖案，所以 基板上雜質(zhì)微粒的允許尺寸非常小。因此，應用典型的基板清潔方法難以從基 板上清除小的雜質(zhì)微粒。
發(fā)明概要
本發(fā)明提供了一種有效的清潔基板的裝置和方法。
本發(fā)明實施例提供了一種清潔基板的裝置，該裝置包括載物臺、清潔液供 應單元、振蕩器和至少兩個壓電元件。載物臺上裝載有基板，清潔液供應單元
為基板供應清潔液，振蕩器將聲波傳送到基板上以清洗基板，壓電元件設置在 振蕩器的一端從而產(chǎn)生聲波，壓電元件彼此間隔設置。
在本發(fā)明的其他實施例中，清潔基板的方法包括將基板裝載于載物臺的上
部，為基板供應清潔液，和應用產(chǎn)生于至少兩個聲源的聲波清潔基板。 附圖簡要說明
所包含的附圖有助于進一步地理解本發(fā)明，且附圖并入和組成了本說明書 的一部分。圖片解釋說明了本發(fā)明的典型實施例，并與文字描述一起共同解釋
說明本發(fā)明的原理。在附圖中
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，

圖1為基板清潔裝置的橫截面示意根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，圖2所示為利用設置在圖1所示基板清潔裝置 振動發(fā)生器中的兩個壓電元件產(chǎn)生振動的過程；
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，圖3A和3B所示為設置在圖1所示基板清潔裝 置振動發(fā)生器中的兩個壓電元件的典型對稱排列；
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，圖4A和4B所示為設置在圖1所示基板清潔裝 置振動發(fā)生器中的兩個壓電元件的典型非對稱排列；
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，圖5所示為在圖1所示基板清潔裝置振動發(fā)生 器中包含3個壓電元件的典型情況；
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，圖6A和6B為安裝在圖1所示基板清潔裝置振 動發(fā)生器中的壓電元件和電極的堆疊結構；
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，圖7為基板清潔方法的流程圖。 優(yōu)選實施方式的詳細描述
以下將參照附圖更加詳細地描述本發(fā)明的優(yōu)選實施例。然而，本發(fā)明也可
能被具體化為不同的形式，因此在此提出的具體實施例不應理解為對本發(fā)明的 一種限制。更確切地說，提供這些實施例是為了使說明徹底和完全，并將本發(fā) 明的范圍充分地傳達給該技術領域內(nèi)的技術人員。
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，圖1為基板清潔裝置的橫截面示意圖； 參見圖1,基板清潔裝置包括清潔容器1，載物臺10，清潔液供應單元40， 和振動單元IOO。載物臺IO設置在清潔容器1的底部，基板20放置在載物臺 IO上，載物臺10可以卡盤，用以支撐和固定基板20。所述卡盤可以利用真空 吸引力或電力來固定基板20。載物臺10與驅(qū)動單元如電動機相連。電動機帶動 載物臺10旋轉(zhuǎn)，因此，放置在載物臺10上的基板20可以在其被清潔的同時旋 轉(zhuǎn)。
清潔容器1上部開口 ，且清潔液供應單元40設置在清潔容器1的上部開口 處。清潔液供應單元40朝向基板20并與基板20間隔有一段預定距離。清潔液 供應單元40可以是一個注射噴嘴。對清潔液供應單元40進行配置使其能夠為 基板20連續(xù)地供應清潔液。由于在一道清潔工序中清潔液供應單元40連續(xù)不 斷地為基板供應清潔液，則在基板20的表面上能夠形成一層清潔液層30。
去離子水(H20)可以用作清潔液以清除基板20上的雜質(zhì)并漂洗基板20。 另外， 一些化學制劑也可以用作清潔液。該化學制劑要根據(jù)清潔情況進行選擇。 比如，這些化學制劑包括氫氧化銨(冊40H)、過氧化氫(H202 )和去離子水(H20) 的混合液；氫氟酸(HF)和去離子水(H20)的混合液；氟化銨(NH4F )、氬氟酸 (HF)和去離子水(H20)的混合液；以及磷酸(H3P04)和去離子水(H20 )的 混合液?？梢允褂盟谐龅钠渲幸环N化學制劑作為清潔液，也可以使用所列出 的其中某幾種化學制劑的混合液作為清潔液，或者使用所列出的其中某幾種化 學制劑順序地作為清潔液。
振動單元100包括振蕩器110和振動發(fā)生器120,振動發(fā)生器120利用聲波 能產(chǎn)生振動，振蕩器IIO將強烈的超聲波振動施加到清潔液層30上。振動發(fā)生 器120與振蕩器110的一端相連。振動發(fā)生器120包含一個將電能轉(zhuǎn)化為物理 振動能的壓電單元。
在一道清潔工序中，基板20沿著預定方向旋轉(zhuǎn)，振動單元100水平移動以
利用聲波將強烈的振動施加到清潔液層30。施加到清潔液層30的強烈振動使得 空化泡破裂，并使雜質(zhì)微粒之間產(chǎn)生空隙。即將破裂的空化泡充滿雜質(zhì)微粒間
的空隙并在所述空隙中破裂，從而使得雜質(zhì)微粒能夠輕易且完全地脫離基板20 表面。如果雜質(zhì)微粒非常小，可以應用兆聲波清除基板20上細小的雜質(zhì)微粒。 例如，如果雜質(zhì)微粒的尺寸大約為ljum或更小，則要用到兆赫茲頻率范圍內(nèi)的 超聲波。
振蕩器11G的形狀類似于桿狀并與基板20傾斜一定的角度。此外，盡管圖
1中未顯示，振蕩器110還可以平行或垂直于基^反20。振蕩器110可以由石英
加工而成，石英是已知的一種傳送超聲波能的高效材料。石英可以和幾乎所有
種類的清潔液一起使用。但是，當振蕩器110由石英加工而成時，振蕩器110
可以被包含有氫氟酸(HF)的清潔液侵蝕。在使用含有氫氟酸(HF)的清潔液
的情況下，振蕩器110可以由石英和剛玉、石灰化硅、氮化硼、玻璃碳中的一種
或其中幾種的化合物加工而成。
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，圖2所示為利用安裝在圖1所示振動發(fā)生器120 中的兩個壓電元件產(chǎn)生振動的過程。
參見圖2，壓電單元150設置在振動發(fā)生器120中，壓電單元150基于壓電
效應產(chǎn)生振動。當一種壓電材料產(chǎn)生機械變形時，該壓電材料呈現(xiàn)出電介質(zhì)極
化現(xiàn)象，從而將機械能轉(zhuǎn)化為電能，這就叫做壓電效應或第一壓電效應。另一
方面，當在壓電材料上施加電場時，壓電材料會產(chǎn)生機械變形，這叫做逆壓電
效應或第二壓電效應。振動發(fā)生器120基于逆壓電效應利用機械能產(chǎn)生聲波，
且將聲波傳送到振蕩器110上。
壓電單元15Q包括兩個彼此間隔設置的第一壓電元件151和第二壓電元件 152。第一和第二壓電元件151和152與豎直線傾斜一定的角度。第一壓電元件 151位于第二壓電元件152的左側，第一壓電元件151接收電能產(chǎn)生聲波，該聲 波沿著與第一壓電元件151大體垂直的方向傳播。第二壓電元件152位于第一
壓電元件151的右側。第二壓電元件152接收電能產(chǎn)生聲波，該聲波沿著與第 二壓電元件152大體垂直的方向傳^"。在下文中，將第一壓電元件151產(chǎn)生的 聲波稱為第一聲波，將第二壓電元件152產(chǎn)生的聲波稱為第二聲波。
最初，第一和第二聲波分別單獨傳播。然后，當?shù)谝缓偷诙暡ㄔ谝粋€預
定位置相互會合時，第一和第二聲波將結合成為一個新的聲波。在下文中，這
個新的聲波被稱為第三聲波。第三聲波的強度(c)可以通過第一聲波和第二聲
波的矢量和計算得出。
根據(jù)上文的說明，與壓電單元150只包含一個壓電元件相比，當壓電單元 150包含大量的壓電元件時，壓電單元150可以產(chǎn)生強烈的聲波。因此，利用該 強聲波可以輕易地清除基板上的雜質(zhì)。特別地，由于目前高度集成的半導體存 儲設備具有更加精細的圖案，其所允許的雜質(zhì)^f效粒尺寸非常小，因此，清除細 小的雜質(zhì)微粒時有必要使用高頻聲波。例如，從liam或更小的圖案上清除雜質(zhì) 微粒時有必要使用頻率為3 MHz或更高頻率的超聲波。
但是，如果超聲波的頻率增加，超聲波的能力會由于其振幅的降低而降低。 在這種情況下，雜質(zhì)微粒就難以清除。然而，在當前的實施例中，壓電單元150
包含有大量的壓電元件，能夠產(chǎn)生具有高能力的高頻超聲波，從而可以輕易地 清除細小的雜質(zhì)微粒。
第一和第二聲波可以在一個預定的位置結合，從而使得第三聲波可以直接
傳播到基板20或清潔液層30上。在下文中，將第一和第二聲波彼此結合的位 置稱為結合處(P)。例如，結合處(P)可以位于振蕩器110的一個表面上。在 這種情況下，振蕩器110的長度可以用來計算第 一和第二聲波傳播到結合處(P ) 時的傳播距離。所以，第一和第二壓電元件151和152的排列可以基于計算出 的第 一和第二聲波的傳播距離進行調(diào)整，從而允許第 一和第二聲波在結合處(P ) 彼此產(chǎn)生相加干涉。此時，第三聲波的能量可以達到最大值，且基板20也因此 可以得到更有效的清潔。
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，圖3A和3B所示為設置在圖1所示振動發(fā)生器 120中的兩個壓電元件151和152的典型對稱排列；
參見圖3A，第一壓電元件151設置在左邊，且與虛線形式的豎直中心線傾 斜呈第一角度0 1。第二壓電元件152設置在右邊，且與虛線形式的豎直中心線 傾斜呈第一角度6 i。第一和第二壓電元件151和152具有相同的厚度(t )。
第一和第二壓電元件151和152的厚度(t )與第一和第二壓電元件151和 152產(chǎn)生的聲波頻率有關。第一和第二壓電元件151和152的厚度(t)與第一 和第二壓電元件151和152產(chǎn)生的聲波頻率成反比。因此，當?shù)谝缓偷诙弘?元件151和152具有相同的厚度(t)時，第一和第二壓電元件151和152產(chǎn)生 的聲波具有相同的頻率。
第一壓電元件151產(chǎn)生的第一聲波與第二壓電元件152產(chǎn)生的第二聲波在 位于虛線形式的豎直中心線上的結合處(P)結合。由于第一和第二壓電元件151 和152關于虛線形式的豎直中心線對稱，所以第一和第二聲波到達結合處(P) 時傳播了相同的第一距離ch。然后，第一和第二聲波在結合處(P)彼此結合。 一般地說，速度(v)、波長(入)、和波的頻率(f )的關系如下
速度(v)—皮長(入)x頻率(f) (公式l)
由于第一和第二聲波在振蕩器110 (固體介質(zhì))中以相同的速度傳播且具有 相同的頻率，則根據(jù)公式1可知第一和第二聲波具有相同的波長。因此，由于 具有相同的波長第一和第二聲波傳播相同的第一距離di并;f皮此結合，則第一和 第二聲波產(chǎn)生能夠相加干涉并形成第三聲波。
參見圖3B，第一和第二壓電元件151和152分別左右設置并與虛線形式的 豎直中心線傾斜呈第二角度62，第二角度6 2大于第一角度6 1。在當前實施例 中，除了第二角度62大于第一角度6i外，第一和第二壓電元件151和152根 據(jù)圖3A實施例中的相同方式排列。也就是說，在當前實施例中，第一和第二壓 電元件151和152具有相同的厚度并且產(chǎn)生具有相同頻率的第一和第二聲波。
第一和第二聲波沿著與第一和第二壓電元件151和152垂直的方向傳播了
第二距離d2。然后，第一和第二聲波在結合處(P)彼此結合。第一和第二聲波 在結合處(P)發(fā)生相加干涉并生成第三聲波。由于第二角度0 2大于第一角度 e工，則第二距離d2也大于第一距離di。
如圖3A和3B所示，第一和第二聲波傳播到結合處(P)的傳播距離，會隨 著第一和第二壓電元件151和152的傾角而改變。第一和第二聲波的傳寺番距離 與振蕩器110的長度大體一致。換句話說，第一和第二壓電元件151和152的 傾角要根據(jù)振蕩器110的長度進行調(diào)整。例如，如果振蕩器110較長，則第一 和第二壓電元件151和152與虛線形式的豎直中心線之間的傾角就較大。也就 是說，第一和第二壓電元件151和152的傾角可以根據(jù)振蕩器110的長度而從0。 到90°之間變化。
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，圖4A和4B所示為設置在圖1所示振動發(fā)生器 120中的兩個壓電元件151和152的典型非對稱排列。
參見圖4A，第一壓電元件151具有第一厚度ti。第一壓電元件151設置在 左邊并與虛線形式的豎直中心線傾斜呈第一角度6 1。第二壓電元件152具有第 二厚度t2。第二壓電元件152設置在右邊并與虛線形式的豎直中心線傾斜呈第
二角度e2。第一厚度ti小于第二厚度t2,且第一角度ei小于第二角度e2。
第一壓電元件151產(chǎn)生第一聲波，第二壓電元件152產(chǎn)生第二聲波。第一
和第二聲波在位于虛線形式的豎直中心線上的結合處(p)彼此結合，并由此生
成第三聲波。第一聲波傳播第一距離di到達結合處(P),第二聲波傳播第二距 離d2到達結合處(P)。由于第二角度02大于第一角度61,則第二距離d2也大 于第一距離di。
根據(jù)以上說明，當壓電元件的厚度增加時，由壓電元件產(chǎn)生的聲波頻率降 低。因此，由第一壓電元件151產(chǎn)生的第一聲波頻率高于由第二壓電元件152 產(chǎn)生的第二聲波頻率。由于第一和第二聲波具有相同的速度(即聲速)，則根據(jù) 公式1可知第一聲波的波長要小于第二聲波的波長。也就是說，具有短波長的
第一聲波傳播了第一距離di,第一距離di與第二距離d2相比相對較短，具有相 對較長波長的第二聲波傳播了第二距離d2，第二距離d2與第一距離di相比相對 較長。因此，考慮進(included in)第一距離di的第一聲波的波長數(shù)值可能與 考慮進(included in)第二距離d2的第二聲波的波長數(shù)值相等。從而，第一和 第二聲波可以通過相加干涉而產(chǎn)生第三聲波。
盡管設定第一和第二壓電元件151和152的厚度相等，但是由于加工誤差，
第一和第二壓電元件151和152的厚度仍會有輕-微的差別。結果也可能會造成
第一和第二聲波的頻率互不相同。在這種情況下，可以調(diào)整第一和第二壓電元
件151和152的方位以使得第一和第二聲波相加干涉，從而產(chǎn)生具有最高強度
的第三聲波。
參見圖4B,第一和第二聲波在位于虛線形式的豎直中心線左側的結合處(P) 彼此結合。此時，在第一和第二聲波的傳送距離之間存在較大的差值(d2—di)。 如圖4B所示，由于第二聲波比第一聲波傳播了相對較長的距離，則通過使第二 壓電元件152的厚度大于第一壓電元件151的厚度，可以將第二聲波的波長調(diào)
整得長于第一聲波的波長。
圖4B中的實施例可以應用于如圖1所示的^^展蕩器110與基板20呈一定傾 角的場合。在圖l的情況下，振蕩器110的產(chǎn)生第一和第二聲波的一端和水平 線呈一定傾角，但振蕩器110的第一和第二聲波彼此結合的另一端和水平線平 行。換句話說，就是振蕩器110的兩端是不對稱的。所以，設定不同的第一和 第二聲波傳播距離。
如果傳播距離差值(d2-di)如圖4B所示一樣大，則根據(jù)距離差值(d2-di), 設定不同的第一和第二壓電元件151和152的厚度或傾角，從而允許第一和第 二聲波在結合處(P)能夠發(fā)生相加干涉。然而，在傳播距離差值(d2-d!)小到 可以忽略不計或振蕩器110設置在基板20的垂直方向時，如圖3A或3B所示的 實施例較為適合。
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，圖5所示為在圖1所示振動發(fā)生器120中包含3 個壓電元件的典型情況。
參見圖5，壓電單元150包括第一壓電元件151、第二壓電元件152、和第 三壓電元件153。第一至第三壓電元件151至153分別單獨產(chǎn)生第一至第三聲波。 第一至第三壓電元件151至153具有相同的厚度，且第一至第三聲波具有相同 的波長。第一和第二壓電元件151和152相對于第三壓電元件153對稱設置。 第一至第三聲波傳播相同的距離到達結合處(P)，接著第一和第三聲波彼此結 合。因此，通過第一至第三聲波的相加干涉能夠產(chǎn)生一個強烈的聲波，且利用 該強聲波可以有效地清潔基板20。
另外，第一至第三壓電元件151至153還可以非對稱排列或具有不同的厚 度。除此之外，如果需要更加強烈的聲波，可以使用4個或更多的壓電元件。
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，圖6A和6B為安裝在圖1所示振動發(fā)生器120 中的壓電單元150以及第一和第二電極130和140的典型堆疊結構。
參見圖6A，其解釋說明了壓電單元150以及第一和第二電極130和140。 壓電單元150包括第一壓電元件151和第二壓電元件152。第一電極130包括左 右電極131和132，第二電極140包括左右電極141和142。第一壓電元件151 設置在左電極131和左電極141之間，第二壓電元件152設置在右電極132和 右電極142之間。第一和第二電極130和140的作為陰極和陽極為第一和第二 壓電元件151和152提供電能。設置在第一和第二電極130和140之間的壓電 單元150接收電能。然后，壓電單元150利用電能并基于壓電效應產(chǎn)生聲波。 當前實施例中，為第一和第二壓電元件151和152提供了大量的第一電極130 和大量的第二電極140。在這種情況下，左電極131和141以及右電極132和 142可以根據(jù)第一和第二壓電元件151和152的物理屬性接收不同的電能。
參見圖6B，其解釋說明了壓電單元150以及第一和第二電極130和140。 壓電單元150包括第一壓電元件151和第二壓電元件152。第一和第二電極130 和140應用于兩個壓電元件151和152。在這種情況下，為第一和第二壓電元件151和152提供了相同的電能。當前實施例的結構適用于第一和第二壓電元件 151和152幾乎水平排列的場合。
根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例已經(jīng)對基板清潔裝置進行了描述。在下文中，
將根據(jù)本發(fā)明的一個實施例筒要描述一下基于基板清潔裝置操作原理的基板清
潔方法。現(xiàn)在將基于一個前提來介紹基板清潔方法，該前提為所要介紹的基板
清潔方法是利用圖1所示基板清潔裝置工作的基板清潔方法。因此，在圖1中
用到的相關數(shù)字也將在下列描述中應用于相同的部件。但是，基板清潔方法并
不局限于圖1所示的基板清潔裝置。也就是說，所述基板清潔方法也可以應用
于其他基板清潔裝置。
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，圖7為基板清潔方法的流程圖。
參見圖7,在操作S10中，基板20被運送到清潔容器1并裝載于載物臺10 上。在操作S20中，利用清潔液供應單元40為基板20供應清潔液。在操作S30 中，應用聲波或超聲波清潔基板20。該聲波是通過結合產(chǎn)生于至少兩個聲源的 至少兩種聲波的一種結合聲波。因為該結合聲波由至少兩種聲波相加干涉而產(chǎn) 生，所以該結合聲波具有足夠的能量。因此，利用該結合聲波可以輕易地將細 小的雜質(zhì)微粒從基板20上清除。
所述聲波的來源為壓電元件。所述壓電元件被適當?shù)嘏帕泻团渲?，從而?得產(chǎn)生于所述壓電元件的聲波可以相加干涉。例如，當所述壓電元件具有相同 的形狀時，產(chǎn)生于所述壓電元件的聲波傳播相同的距離。然后，所述聲波發(fā)生 相加千涉。另外，當所述壓電元件具有不同的厚度時，產(chǎn)生于所述壓電元件的 聲波可以傳播不同的距離，然后可以發(fā)生相加干涉。
根據(jù)本發(fā)明，通過施加于基板的強聲波可以更有效地清潔基板。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的實施例，可以有效地清除基板上的雜質(zhì)，提高基 板清潔效率。以上所述的主題內(nèi)容應被認為是一種舉例性描述，而不是一種限 制。從屬權利要求意在覆蓋所有落入本發(fā)明本質(zhì)含義和范圍內(nèi)的類似修改、改
進和其他實施例。因此，在法律允許的最大范圍內(nèi)，本發(fā)明的范圍取決于權利 要求及其等同的權利要求可允許的最寬泛的闡述，而不受限于之前的詳細描述。
權利要求
1.一種基板清潔裝置，包括一載物臺，其上載有基板；一清潔液供應單元，為所述基板供應清潔液；一振蕩器，將聲波傳送到基板上以清潔基板；和至少兩個壓電元件，彼此分開一段預定距離設置在振蕩器的一端以產(chǎn)生聲波。
2、 根據(jù)權利要求1所述的裝置，其中的壓電元件分別單獨產(chǎn)生聲波，且所 述聲波在振蕩器的鄰近所述基板的表面上彼此相加干涉。
3、 根據(jù)權利要求1所述的裝置，進一步包括 彼此面對的電極，所述壓電元件設置在所述電極之間；和 在其中設置有所述壓電元件和所述電極的振動發(fā)生器，所述振動發(fā)生器與所述振蕩器的設置有所述壓電元件的一端相連。
4、 根據(jù)權利要求1所述的裝置，其中所述壓電元件包括彼此分開設置的第 一和第二壓電元件。
5、 沖艮據(jù)權利要求4所述的裝置，進一步包括彼此面對的第 一 電極，以及設置在所述第 一電極之間的所述第 一壓電元件； 彼此面對的第二電極，以及設置在所述第二電極之間的所述第二壓電元件；和在其中設置有第一和第二壓電元件以及第一和第二電極的振動發(fā)生器，所 述振動發(fā)生器與所述振蕩器的設置有所述壓電元件的一端相連。
6、 根據(jù)權利要求4所述的裝置，其中第一和第二壓電元件具有相同的形狀。
7、 根據(jù)權利要求6所述的裝置，其中振蕩器的形狀類似于桿狀，并且，第 一和第二壓電元件，相對于通過所述振蕩器中心的虛線對稱設置并與所述振蕩 器的長度方向相平行。
8、 根據(jù)權利要求7所述的裝置，其中第一和第二壓電元件與所述虛線之間 的夾角根據(jù)所述振蕩器的長度成比例地增加。
9、 根據(jù)權利要求4所述的裝置，其中第一和第二壓電元件具有不同的厚度。
10、 根據(jù)權利要求9所述的裝置，其中振蕩器的形狀類似于桿狀，并且， 第一和第二壓電元件，相對于通過所述振蕩器中心的虛線非對稱設置并與所述振蕩器的長度方向相平行。
11、 一種清潔基板的方法，包括將基板裝載于載物臺的上部； 為基板供應清潔液；和將產(chǎn)生于至少兩個聲源的聲波施加到所述基板用來清潔所述基板。
12、 根據(jù)權利要求11所述的方法，其中所述聲波分別單獨產(chǎn)生于至少兩個 相互間隔的壓電元件，且所述聲波通過一個連接有所述壓電元件的振蕩器傳送 到基板上。
13、 根據(jù)權利要求12所述的方法，其中所述聲波在鄰近所述基板的振蕩器 的表面上彼此相加干涉。
14、 根據(jù)權利要求12所述的方法，其中所述壓電元件具有相同的形狀，且 所述聲波傳播相同的距離到達所述振蕩器表面，并在所述振蕩器表面上相互干 涉。
15、 根據(jù)權利要求12所述的方法，其中所述壓電元件具有不同的厚度，且 所述聲波傳播不同的距離到達所述振蕩器表面，并在所述振蕩器表面上相互干涉。
全文摘要
提供了一種清潔基板的裝置。該裝置包括一個裝載基板的載物臺，一個為基板供應清潔液的清潔液供應單元。一個將聲波傳送到基板上以清潔基板的振蕩器，和設置在振蕩器一端的彼此分開一段預定距離以產(chǎn)生聲波的至少兩個壓電元件。
文檔編號H01L21/00GK101373705SQ20081013247
公開日2009年2月25日 申請日期2008年7月17日 優(yōu)先權日2007年8月24日
發(fā)明者安英基 申請人:細美事有限公司