專利名稱:一種半導(dǎo)體泵浦單縱模激光器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及激光領(lǐng)域,尤其涉及一種通過消除空間燒孔效應(yīng)而獲得較高功率輸 出的半導(dǎo)體泵浦單縱模激光器。
半導(dǎo)體泵浦的本專利采用一組等厚激光增益介質(zhì)薄片通過光膠或深化光膠制作成微片式 單縱模激光器,其中每片增益介質(zhì)厚度為產(chǎn)生短程吸收產(chǎn)生單縱模激光增益介質(zhì)所要求的厚 度,每片增益介質(zhì)粘結(jié)面之間鍍有一定反射率介質(zhì)膜構(gòu)成等間隔標(biāo)準(zhǔn)具,整個(gè)微片激光器兩 個(gè)端面分別鍍有全反射膜或部分反射膜構(gòu)成激光腔,從而構(gòu)成整個(gè)激光器 背景技術(shù) 短程吸收是基于消除空間燒孔的而釆用的方法。對(duì)于駐波腔激光器,當(dāng)激光工 作物質(zhì)的一個(gè)端面作為泵浦端入射鏡面時(shí),在介質(zhì)有效增益帶寬內(nèi),諧振腔內(nèi)所有可能存在 的縱模駐波在泵浦端截面上,有一個(gè)共有的節(jié)點(diǎn),在入射鏡面很近的區(qū)域內(nèi),所有腔內(nèi)縱模 的駐波波形,基本上是空間相同的,因?yàn)閹缀醵加邢嗤姆崔D(zhuǎn)粒子數(shù)。若泵浦光在短程內(nèi)被 吸收,則具有最高受激發(fā)射截面的縱模首先起振,使反轉(zhuǎn)粒子數(shù)子數(shù)飽以及增益線下降,這 就抑制了其他縱模的振蕩,使激光器運(yùn)行在單頻狀態(tài),但當(dāng)逐漸遠(yuǎn)離腔鏡時(shí),眾多腔縱模的 空間相位開始逐漸分離,已振蕩縱模駐波波節(jié)上的大量反射轉(zhuǎn)粒子數(shù),開始部分地被其他縱 模利用。若泵浦能量達(dá)到一定的深度和強(qiáng)度,可以利用短程吸收使激光器實(shí)現(xiàn)單頻輸出。由 于受到增益介質(zhì)長(zhǎng)度限制,利用短程吸收的單頻光器輸出功率是有限的。因此短程吸收很少 獨(dú)立作為單頻激光器,只是在保證輸出功率的基礎(chǔ)上,盡量減少增益介質(zhì)厚度,利用短程吸 收盡量減少縱模個(gè)數(shù),以輔助實(shí)現(xiàn)單頻運(yùn)轉(zhuǎn)
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的是提供一種提高泵浦功率的半導(dǎo)體泵浦單縱模激光器。
本發(fā)明采用以下技術(shù)方案單縱模激光器包括泵浦光源、光學(xué)耦合系統(tǒng)和激光增益介質(zhì),
其中激光增益介質(zhì)為一組等厚激光增益介質(zhì)薄片通過光膠或深化光膠制作而成,每片增益介
質(zhì)薄片的厚度均小于短程吸收產(chǎn)生單縱模所允許的最長(zhǎng)厚度,增益介質(zhì)薄片的光入射面、連
接面之間和光出射面上均鍍有反射膜層。
上述的一組等厚激光增益介質(zhì)薄片為兩片以上。 上述反射膜層為全反射膜或部分反射膜。
本發(fā)明采用以上技術(shù)方案,利用各等厚激光增益介質(zhì)薄片,其相接表面鍍有一定反射率 膜層,使各激光增益介質(zhì)薄片均為激光振蕩波長(zhǎng)的一個(gè)駐波節(jié)點(diǎn),每片激光增益介質(zhì)厚度均 小于短程吸收允許最長(zhǎng)厚度,所以只允許增益最大波長(zhǎng)起振,這樣消除整個(gè)微片中駐波燒孔 效應(yīng),同時(shí)總激光增益介質(zhì)厚度增大,從而可以提高允許泵浦功率,使短程吸收法可獲得中
小輸出功率,從而使短程吸收法產(chǎn)生單縱模獲得實(shí)用化。
現(xiàn)結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳述
圖1是本發(fā)明單縱模激光器的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
請(qǐng)參閱圖1所示,本發(fā)明包括泵浦光源1、光學(xué)瑀合系統(tǒng)2和激光增益介 質(zhì)3,其中激光增益介質(zhì)3為一組等厚激光增益介質(zhì)薄片31、 32…3n通過光膠或深化光膠制 作而成, 一組等厚激光增益介質(zhì)薄片31、 32…3n為兩片以上,每片增益介質(zhì)薄片31、 32… 3n的厚度均小于短程吸收產(chǎn)生單縱模所允許的最長(zhǎng)厚度,如增益介質(zhì)薄片31、 32…3n采用 Nd: YV04晶體的厚度為小于0.3mm,增益介質(zhì)薄片31、 32…3n的光入射面、連接面之間 和光出射面上均鍍有反射膜層S1、 S2、 S3、…Sn+1,反射膜層S1、 S2、 S3、…Sn+1為全反 射膜或部分反射膜,這樣每片增益介質(zhì)構(gòu)成激光腔結(jié)構(gòu),由于每片增益介質(zhì)都達(dá)到了短程吸 收實(shí)現(xiàn)單縱模運(yùn)轉(zhuǎn)的要求,這樣每個(gè)激光腔中都能夠?qū)崿F(xiàn)單縱模運(yùn)轉(zhuǎn)。
權(quán)利要求
1、一種半導(dǎo)體泵浦單縱模激光器,包括泵浦光源、光學(xué)耦合系統(tǒng)和激光增益介質(zhì),其特征在于激光增益介質(zhì)為一組等厚激光增益介質(zhì)薄片通過光膠或深化光膠制作而成,每片增益介質(zhì)薄片的厚度均小于短程吸收產(chǎn)生單縱模所允許的最長(zhǎng)厚度,增益介質(zhì)薄片的光入射面、連接面之間和光出射面上均鍍有反射膜層。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體泵浦單縱模激光器,其特征在于其一組等厚激光 增益介質(zhì)薄片為兩片以上。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種半導(dǎo)體泵浦單縱模激光器,其特征在于其反射膜層 為全反射膜或部分反射膜。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體泵浦單縱模激光器,其包括泵浦光源、光學(xué)耦合系統(tǒng)和激光增益介質(zhì),其中激光增益介質(zhì)為一組等厚激光增益介質(zhì)薄片通過光膠或深化光膠制作而成,每片增益介質(zhì)薄片的厚度均小于短程吸收產(chǎn)生單縱模所允許的最長(zhǎng)厚度,增益介質(zhì)薄片之間連接面均鍍有反射膜層,本發(fā)明采用以上技術(shù)方案,各激光增益介質(zhì)薄片均為激光振蕩波長(zhǎng)的一個(gè)駐波節(jié)點(diǎn),每片激光增益介質(zhì)厚度均小于短程吸收允許最長(zhǎng)厚度,所以只允許增益最大波長(zhǎng)起振,這樣消除整個(gè)微片中駐波燒孔效應(yīng),同時(shí)總激光增益介質(zhì)厚度增大,從而可以提高允許泵浦功率。
文檔編號(hào)H01S3/06GK101340052SQ200810071640
公開日2009年1月7日 申請(qǐng)日期2008年8月27日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月27日
發(fā)明者凌吉武, 盧秀愛, 礪 吳, 馬英俊 申請(qǐng)人:福州高意通訊有限公司