專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種從風(fēng)刀的噴射口對(duì)液晶顯示裝置(LCD)用玻璃基板、等離子顯示器(PDP)用玻璃基板、印刷基板、陶瓷基板、半導(dǎo)體晶片、電子器件基板等基板噴射空氣、惰性氣體等的氣體，除去附著在基板上的處理液的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
例如，在LCD、PDP等的平板顯示器(FPD)的制造工序中，向玻璃基板的表面供給處理液、例如純水等的清洗液，而對(duì)基板進(jìn)行濕式處理(清洗處理)。而由于在清洗處理后的基板的表面附著有清洗液，所以在進(jìn)行基板的清洗處理的清洗裝置中附設(shè)有除液裝置以及干燥裝置，清洗處理結(jié)束的基板被搬送到除液裝置來(lái)從基板的表面除去清洗液，接著被搬送到干燥裝置對(duì)基板表面進(jìn)行最后干燥。從基板的表面除去清洗液的除液裝置包括封閉型的處理室，該處理室具有基板的搬入口和搬出口。在處理室的內(nèi)部配置有由支承基板并向水平方向搬送的多個(gè)搬送輥構(gòu)成的輥式輸送機(jī)，隔著由輥式輸送機(jī)搬送的基板的搬送路線，在其上、下兩側(cè)配置有一對(duì)(或者根據(jù)需要在基板搬送方向上隔開(kāi)間隔而配置多對(duì))的風(fēng)刀。風(fēng)刀是以與基板搬送方向交叉的方式配置，在基板的整個(gè)寬度方向，具有噴射空氣、惰性氣體等氣體的狹縫狀的噴射口。還有，風(fēng)刀相對(duì)垂直面保持為傾斜的姿勢(shì)，使得從其噴射口向基板搬送方向的上游側(cè)噴射氣體。而且，在清洗裝置清洗處理過(guò)的基板被搬入除液裝置的處理室內(nèi)，在由輥式輸送機(jī)在處理室內(nèi)向水平方向搬送的過(guò)程中，通過(guò)從一對(duì)的風(fēng)刀的噴射口將氣體分別向上、下兩面吹拂，由此從基板的兩面將清洗液吹走而除去(例如參照專利文獻(xiàn)1)。
在上述的除液裝置中，由于從風(fēng)刀向基板噴射大量的氣體，所以在處理室內(nèi)產(chǎn)生復(fù)雜的氣流。由此，會(huì)產(chǎn)生從基板的表面暫時(shí)吹走而除去的清洗液的霧滴，隨著氣流再次附著到基板表面的情況。還有，會(huì)產(chǎn)生由于從風(fēng)刀向基板的表面吹拂的氣體的流動(dòng)自身受氣流的影響，而不能從基板表面高效除去清洗液的情況。為了解決這些問(wèn)題，要從處理室內(nèi)進(jìn)行排氣，但是此外，也要采取使處理室的高度方向的尺寸、特別是使室的內(nèi)底部的深度尺寸變大、或使處理室的形狀復(fù)雜化這樣的對(duì)策。
專利文獻(xiàn)1JP特開(kāi)平9-94546號(hào)公報(bào)(第5-6頁(yè)，圖1)但是，在處理室的內(nèi)底部的深度變深這樣的方法中，出現(xiàn)使裝置大型化到需要以上這樣的問(wèn)題。還有，在將處理室的形狀復(fù)雜化而使氣體的影響降低這樣的方法中，有裝置的制作變難，制造成本變高這樣的問(wèn)題。這些問(wèn)題，在基板有大型化的趨勢(shì)時(shí)變得更為嚴(yán)重。
還有，為了要即使基板尺寸變大處理間隔時(shí)間也沒(méi)有變化，就需要使基板的搬送速度變快。若基板搬送速度變快，則需要從風(fēng)刀對(duì)基板更有效的噴射氣體，有效的吹走基板上的清洗液。但是存在現(xiàn)有的裝置結(jié)構(gòu)中，由于氣體的亂流，僅單純?cè)黾託怏w噴出量不能提高液滴的除去能力的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于以上的問(wèn)題而提出的，其目的是提供一種基板處理裝置，該基板處理裝置不需要使裝置大型化，裝置的制作比較容易，并能夠防止從基板的主面除去的處理液成為霧滴而再次附著在基板的主面上，即使來(lái)自風(fēng)刀的氣體噴射量沒(méi)有變大，也能夠高效除去附著在基板的主面的處理液。
(1)、本發(fā)明所述的一種基板處理裝置，具有基板搬送裝置，其支承著在主面上附著了處理液的基板并向水平方向搬送；處理室，其封閉性地包圍由該基板搬送裝置搬送的基板的周圍；風(fēng)刀，其在該處理室的內(nèi)部，以與基板搬送方向交叉的方式配置，并具有噴射口，該噴射口對(duì)由上述基板搬送裝置搬送的基板的主面，在其整個(gè)寬度方向上，向基板搬送方向的上游側(cè)噴射氣體，其特征在于，具有排氣裝置，該排氣裝置在上述處理室的相對(duì)于基板搬送路線而配置了上述風(fēng)刀的空間側(cè)，并且在風(fēng)刀配置位置的基板搬送方向上游側(cè)設(shè)置有排氣口，同時(shí)，在上述處理室的內(nèi)部，在垂直方向上豎立設(shè)置有使從上述風(fēng)刀的噴射口噴射而吹拂到基板的主面上的氣體向上述排氣口流動(dòng)的多張整流板，該排氣裝置通過(guò)上述排氣口進(jìn)行排氣。
(2)、如上述(1)所記載的基板處理裝置，其特征在于，上述風(fēng)刀配置于在俯視下相對(duì)于基板搬送方向而傾斜的方向上，同時(shí)，上述多張整流板分別配置于在俯視下相對(duì)于上述風(fēng)刀而大致垂直的方向上。
(3)、如上述(1)或(2)所記載的基板處理裝置，其特征在于，上述風(fēng)刀隔著基板搬送路線而在其上、下兩側(cè)配置有一對(duì)，上述排氣口分別設(shè)置在上述處理室的基板搬送路線的上方空間側(cè)以及下方空間側(cè)，同時(shí)，上述多張整流板配置在上述處理室的基板搬送路線的下方側(cè)空間中。
(4)、如上述(3)所記載的基板處理裝置，其特征在于，以在上述風(fēng)刀的配置位置處將上述處理室的基板搬送路線的上方側(cè)空間分隔成基板搬送方向的上游側(cè)和下游側(cè)的方式配置有內(nèi)部間隔壁。
(5)、如上述(3)所記載的基板處理裝置，其特征在于，在上述各整流板的上端部分別安裝有輔助輥，該輔助輥與由上述基板搬送裝置搬送的基板的下表面接觸而支承基板。
(6)、如上述(4)所記載的基板處理裝置，其特征在于，在上述各整流板的上端部分別安裝有輔助輥，該輔助輥與由上述基板搬送裝置搬送的基板的下表面接觸而支承基板。
在上述(1)所記載的基板處理裝置中，從風(fēng)刀的噴射口對(duì)基板的主面向基板搬送方向的上游側(cè)噴射的氣體與基板的主面接觸而折返，并沿著豎立設(shè)置在處理室的內(nèi)部的多張整流板流動(dòng)，向排氣口流動(dòng)，通過(guò)排氣口從處理室內(nèi)排氣。而附著在基板的主面上的處理液被向基板的主面吹拂的氣體吹走而從基板主面除去，與氣體一同通過(guò)排氣口從處理室內(nèi)排出。這樣，從風(fēng)刀的噴射口噴射而在基板的主面折返的氣體通過(guò)整流板快速的向排氣口引導(dǎo)排氣而不在處理室內(nèi)成為亂流狀態(tài)，處理液的霧滴也與該氣體一同從處理室內(nèi)排出，因此從基板的主面除去的處理液的霧滴不會(huì)再次附著在基板的主面上。還有，由于通過(guò)整流板能夠抑制氣體的亂流，所以通過(guò)從風(fēng)刀的噴射口噴出的氣體高效的吹走基板上的處理液。
因此，如果使用(1)所記載的基板處理裝置，則能夠防止從基板的主面除去的處理液成為霧滴再次附著在基板的主面上，即使來(lái)自風(fēng)刀的氣體噴射量不變大，也能夠高效的除去附著在基板的主面上的處理液。而且，該基板處理裝置不需要大型化，制作也比較容易。
上述(2)所記載的基板處理裝置中，從風(fēng)刀的噴射口噴射而在基板的主面折返的氣體，無(wú)阻力地流入以相對(duì)風(fēng)刀大致垂直的方式配置的整流板間的通路，并沿整流板流動(dòng)，在相對(duì)處理室的內(nèi)壁面傾斜的方向接觸而向排氣口側(cè)流動(dòng)。因此，由于從風(fēng)刀的噴射口噴射的氣體在處理室的內(nèi)壁面折返而沒(méi)有向風(fēng)刀的方向反轉(zhuǎn)，所以能夠更有效的除去基板上的處理液。
在上述(3)所記載的基板處理裝置中，從基板的上、下兩面除去處理液，而從基板的上、下兩面除去的處理液的霧滴通過(guò)處理室的上方空間測(cè)以及下方空間側(cè)的各排氣口與氣體一同從處理室內(nèi)排出。而且，從下側(cè)的風(fēng)刀的噴射口對(duì)基板的下表面噴射并與基板的下表面接觸而折返的氣體沿整流板流動(dòng)，并向排氣口流動(dòng)，通過(guò)下方空間側(cè)的排氣口從處理室內(nèi)進(jìn)行排氣，從基板的下表面除去的處理液的霧滴與氣體一同經(jīng)過(guò)下方空氣側(cè)的排氣口而從處理室內(nèi)排出。還有，從基板的上表面除去的處理液的霧滴的一部分，由于重力的作用在處理室內(nèi)落下，隨著在下方空間側(cè)的氣流，經(jīng)過(guò)下方空間側(cè)的排氣口從處理室內(nèi)排出。
在上述(4)所記載的基板處理裝置中，通過(guò)從風(fēng)刀的噴射口對(duì)基板的上表面向基板搬送方向的上游側(cè)噴射的氣體，而從基板的上表面吹走而除去的處理液的霧滴通過(guò)內(nèi)部間隔壁，阻止從風(fēng)刀的基板搬送方向的上游側(cè)向下游側(cè)流入。因此，能夠防止通過(guò)了風(fēng)刀的配置位置的基板的上表面?zhèn)仍俅胃街幚硪旱撵F滴。
在上述(5)以及(6)所記載的基板處理裝置中，由于通過(guò)安裝在整流板的上端部的輔助輥支承基板，因此基板即使大型化也不會(huì)有妨礙而能夠支承基板進(jìn)行搬送。


圖1表示本發(fā)明的實(shí)施方式的一個(gè)例子，是表示作為基板處理裝置的除液裝置的概略結(jié)構(gòu)的側(cè)面剖視圖。
圖2是從基板搬送面向下看到的圖1所示的除液裝置的處理室的內(nèi)部的概略俯視圖。
圖3是表示圖1所示的除液裝置的處理室內(nèi)部的概略側(cè)視圖。
圖4是表示圖1所示的除液裝置的構(gòu)成要素之一的整流板的結(jié)構(gòu)例的主視圖。
圖5表示本發(fā)明的其他的實(shí)施方式，是從基板搬送面向下看到的除液裝置的處理室的內(nèi)部的概略俯視圖。
圖6表示本發(fā)明的另外的實(shí)施方式，是從基板搬送面向下看到的除液裝置的處理室的內(nèi)部的概略俯視圖。
具體實(shí)施例方式
以下，針對(duì)本發(fā)明的最佳實(shí)施方式，參照附圖進(jìn)行說(shuō)明。
圖1～圖3表示本發(fā)明的實(shí)施方式的一個(gè)例子，圖1是表示作為基板處理裝置的除液裝置的概略結(jié)構(gòu)的側(cè)面剖視圖，圖2是從基板搬送面向下看到的圖1所示的除液裝置的處理室的內(nèi)部的概略俯視圖，圖3是表示圖1所示的除液裝置的處理室內(nèi)部的概略側(cè)視圖。
該除液裝置包括封閉型的處理室10，該處理室10具有基板W的搬入口12以及搬出口14。在處理室10內(nèi)的基板W的搬入口12側(cè)，在底面和頂面分別設(shè)置有排氣口16a、16b。如圖2所示，設(shè)置在處理室10的底面的排氣口16a配置在處理室10的一個(gè)角部分。在各排氣口16a、16b，雖未圖示，但分別連通并連接有排氣管，各排氣管分別與排氣泵以流路形式連接。
在處理室10的內(nèi)部，配置有由支承基板W而向水平方向搬送的多個(gè)搬送輥18構(gòu)成的輥式輸送機(jī)。搬送輥18分別以單臂的方式支承并軸接于處理室10的兩側(cè)。還有，在處理室10內(nèi)部，隔著由輥式輸送機(jī)搬送的基板W的搬送路線，在其上、下兩側(cè)配置有一對(duì)的風(fēng)刀20a、20b。此外，也可以在基板W的搬送方向上隔開(kāi)間隔而設(shè)置兩對(duì)或者其上的風(fēng)刀。風(fēng)刀20a、20b以與基板搬送方向交叉的方式配置，在該實(shí)施方式中，如圖2所示，在俯視下，在相對(duì)于基板搬送方向而傾斜的方向上配置風(fēng)刀。此外，為了便于圖示，在圖1中以將風(fēng)刀與基板搬送方向垂直的方式進(jìn)行描繪。在風(fēng)刀20a、20b，以和基板W相對(duì)向的方式，在整個(gè)基板W的寬度方向上分別設(shè)置有噴射空氣、惰性氣體等氣體的狹縫狀的噴射口。并且，風(fēng)刀20a、20b保持為相對(duì)垂直面傾斜的姿勢(shì)，使得從其噴射口向基板搬送方向的上游側(cè)噴射氣體。
還有，在處理室10內(nèi)部，在基板搬送路線的下方側(cè)空間并在風(fēng)刀20a配置位置的基板搬送方向上游側(cè)，向垂直方向豎立設(shè)置有多張整流板22。各整流板22隔開(kāi)間隔而分別相互平行地進(jìn)行配置，在整流板22間形成氣體的通路。還有，各整流板22分別配置于在俯視下相對(duì)風(fēng)刀20a的長(zhǎng)軸方向而大致垂直的方向上，形成在整流板22間的各通路，在俯視下相對(duì)于處理室10的搬入口側(cè)壁面分別向排氣口16a側(cè)傾斜。在整流板22的上端部，安裝有與由輥式輸送機(jī)搬送的基板W、特別是大型的基板W的下表面接觸來(lái)支承基板W的輔助輥(自由輥)24(在圖1省略圖示)。例如圖4所示，將通過(guò)支柱桿26而保持在處理室10的底壁面上的整流板22的上端板片部28彎折，輔助輥24軸接于該彎折部30上。
還有，在基板搬送路線的下方側(cè)空間中，并在風(fēng)刀20a配置位置的基板搬送方向下游側(cè)配置有多個(gè)輔助輥32。輔助輥32，雖省略圖示，但被垂直設(shè)置在處理室10的底壁面上的支柱桿的上端部支承著。此外，也可以在風(fēng)刀20a配置位置的基板搬送方向下游側(cè)豎立設(shè)置有多張整流板，在這些整流板的上端部安裝輔助輥32。進(jìn)而，在處理室10的內(nèi)部以將基板搬送路線的上方側(cè)空間在風(fēng)刀20b的配置位置分隔成基板搬送方向的上游側(cè)和下游側(cè)的方式配置有內(nèi)部間隔壁34。
在具有上述結(jié)構(gòu)的除液裝置中，完成由前級(jí)的清洗裝置進(jìn)行的清洗處理的基板W通過(guò)搬入口12向處理室10內(nèi)搬入，在由輥式輸送機(jī)將基板W在處理室10內(nèi)搬送的過(guò)程中，從風(fēng)刀20a、20b的噴射口向基板W的上、下兩面噴射氣體。從風(fēng)刀20a、20b的噴射口噴出的氣體與基板W的上下兩面接觸并向基板搬送方向的上游側(cè)折返。此時(shí)，通過(guò)氣體吹走附著在基板W上的純水等的清洗液，從基板W的上下兩面除去清洗液。而且，除去了清洗液的基板W通過(guò)搬出口14從處理室10內(nèi)搬出，向后級(jí)的干燥裝置搬送。
從風(fēng)刀20a、20b的噴射口噴射并包含了從基板W除去的清洗液的霧滴的氣體，向排氣口16a、16b流動(dòng)。這時(shí)，從下側(cè)的風(fēng)刀20a的噴射口對(duì)基板W的下表面噴射并與基板W的下表面接觸而折返的氣體，無(wú)阻力地流入以相對(duì)風(fēng)刀20a大致垂直的方式配置的整流板22間的通路，沿整流板22流動(dòng)。而且，含有清洗液的霧滴的氣體相對(duì)于處理室10的內(nèi)壁面在傾斜的方向接觸而向排氣口16a側(cè)流動(dòng)，通過(guò)排氣口16a從處理室10內(nèi)排出。這樣，從風(fēng)刀20a的噴射口噴射而在基板W的下表面折返的氣體，在處理室10內(nèi)沒(méi)有呈亂流狀態(tài)而通過(guò)整流板22快速向排氣口16a引導(dǎo)來(lái)排氣，清洗液的霧滴也與該氣體一同從處理室10內(nèi)排出。由此，能夠防止從基板W的下表面除去的清洗液的霧滴飛散到風(fēng)刀20a配置位置的基板搬送方向下游側(cè)而再次附著到基板W的下表面。還有，通過(guò)整流板22能夠抑制氣流的亂流，進(jìn)而，由于從整流板22間的通路流出的氣體相對(duì)于處理室10的內(nèi)壁面而在傾斜的方向接觸而向排氣口16a側(cè)流動(dòng)，因此不會(huì)產(chǎn)生如下情況在處理室10的內(nèi)壁面氣體折返，向風(fēng)刀20a側(cè)反轉(zhuǎn)，由于該反轉(zhuǎn)的氣流而使來(lái)自風(fēng)刀20a的噴射氣流變亂。由此，能夠高效的除去附著在基板W上的清洗液。
另一方面，從上側(cè)的風(fēng)刀20b的噴射口對(duì)基板W的上表面噴射并與基板W的上表面接觸而折返的氣體，有時(shí)會(huì)變成亂流狀態(tài)并向排氣口16b流動(dòng)，但從基板W的上表面除去的清洗液的霧滴的一部分由于重力的作用而在處理室10內(nèi)落下，與從下側(cè)的風(fēng)刀20a的噴射口噴射的氣體一起，通過(guò)排氣口16a從處理室10內(nèi)排出。還有，通過(guò)內(nèi)部間隔壁34阻止從基板W的上表面吹走而除去的清洗液的霧滴從風(fēng)刀20b的基板搬送方向上游側(cè)向下游側(cè)流入。由此，能夠防止在通過(guò)了風(fēng)刀20b的配置位置的基板W的上表面?zhèn)仍俅胃街逑匆旱撵F滴。
圖5是表示本發(fā)明的其他的實(shí)施方式，是從基板搬送面向下看到的除液裝置的處理室的內(nèi)部的概略俯視圖。在圖5中，對(duì)與圖1至圖3所示的裝置的各構(gòu)件具有相同作用的同一構(gòu)件，標(biāo)上與在圖1至圖3中使用的附圖標(biāo)記一樣的附圖標(biāo)記，省略說(shuō)明。
在圖5所示的裝置中，各整流板36沒(méi)有分別相互平行地配置，而是以形成在整流板36間的各通路分別指向排氣口16的方式進(jìn)行配置。與圖1至圖3所示的裝置同樣，在整流板36的上端部安裝有輔助輥38。通過(guò)做成這樣的結(jié)構(gòu)，從下側(cè)的風(fēng)刀20a的噴射口噴射并與基板W的下表面接觸而折返的氣體，與清洗液的霧滴一同更快速的向排氣口16a引導(dǎo)而排出，而能夠高效除去附著在基板W上的清洗液。
還有，圖6表示本發(fā)明的另外的實(shí)施方式，是從基板搬送面向下看到的除液裝置的處理室內(nèi)部的概略俯視圖。在圖6中，也對(duì)與圖1至圖3所示的裝置的各構(gòu)件具有相同作用的同一構(gòu)件，標(biāo)上與在圖1至圖3中使用的附圖標(biāo)記相同的附圖標(biāo)記，省略說(shuō)明。
在圖6所示的裝置中，在處理室10的內(nèi)部沿一側(cè)的側(cè)壁面以及搬入口側(cè)的壁面分別設(shè)置有內(nèi)部槽40、44。內(nèi)部槽40、44的前端分別與排氣口16a連接而末端封閉，在軸線方向上形成有狹縫狀的吸入口42、46。內(nèi)部槽40、44的狹縫狀吸入口42、46以其開(kāi)口寬度隨著遠(yuǎn)離排氣口16a而變大的方式形成。還有，優(yōu)選內(nèi)部槽40、44的吸入口42、46配置在整流板22的終端附近。通過(guò)做成這樣的結(jié)構(gòu)，從下側(cè)的風(fēng)刀20a的噴射口噴射并與基板W的下表面接觸而折返的氣體，沿整流板22流動(dòng)，從整流板22間的通路流出，原樣通過(guò)吸入口42、46吸入到內(nèi)部槽40、44內(nèi)。因此，處理室10內(nèi)的氣流的亂流更加減少。吸入到內(nèi)部槽40、44內(nèi)的包含清洗液的霧滴的氣體從內(nèi)部槽40、44內(nèi)通過(guò)排氣口16a排出。
此外，在上述的實(shí)施方式中，針對(duì)將在清洗基板之后附著在基板上的清洗液除去的裝置進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明對(duì)于清洗以外的基板的濕式處理后的除液處理也能夠適用。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，具有基板搬送裝置，其支承著在主面上附著了處理液的基板并向水平方向搬送；處理室，其封閉性地包圍由該基板搬送裝置搬送的基板的周圍；風(fēng)刀，其在該處理室的內(nèi)部，以與基板搬送方向交叉的方式配置，并具有噴射口，該噴射口對(duì)由上述基板搬送裝置搬送的基板的主面，在其整個(gè)寬度方向上，向基板搬送方向的上游側(cè)噴射氣體，其特征在于，具有排氣裝置，該排氣裝置在上述處理室的相對(duì)于基板搬送路線而配置了上述風(fēng)刀的空間側(cè)，并且在風(fēng)刀配置位置的基板搬送方向上游側(cè)設(shè)置有排氣口，同時(shí)，在上述處理室的內(nèi)部，在垂直方向上豎立設(shè)置有使從上述風(fēng)刀的噴射口噴射而吹拂到基板的主面上的氣體向上述排氣口流動(dòng)的多張整流板，該排氣裝置通過(guò)上述排氣口進(jìn)行排氣。
2.如權(quán)利要求1所記載的基板處理裝置，其特征在于，上述風(fēng)刀配置于在俯視下相對(duì)于基板搬送方向而傾斜的方向上，同時(shí)，上述多張整流板分別配置于在俯視下相對(duì)于上述風(fēng)刀而大致垂直的方向上。
3.如權(quán)利要求1或2所記載的基板處理裝置，其特征在于，上述風(fēng)刀隔著基板搬送路線而在其上、下兩側(cè)配置有一對(duì)，上述排氣口分別設(shè)置在上述處理室的基板搬送路線的上方空間側(cè)以及下方空間側(cè)，同時(shí)，上述多張整流板配置在上述處理室的基板搬送路線的下方側(cè)空間中。
4.如權(quán)利要求3所記載的基板處理裝置，其特征在于，以在上述風(fēng)刀的配置位置處將上述處理室的基板搬送路線的上方側(cè)空間分隔成基板搬送方向的上游側(cè)和下游側(cè)的方式配置有內(nèi)部間隔壁。
5.如權(quán)利要求3所記載的基板處理裝置，其特征在于，在上述各整流板的上端部分別安裝有輔助輥，該輔助輥與由上述基板搬送裝置搬送的基板的下表面接觸而支承基板。
6.如權(quán)利要求4所記載的基板處理裝置，其特征在于，在上述各整流板的上端部分別安裝有輔助輥，該輔助輥與由上述基板搬送裝置搬送的基板的下表面接觸而支承基板。
全文摘要
本發(fā)明提供一種不需要使裝置大型化且裝置的制造比較容易、并防止從基板面除去了的處理液成為霧滴而再次附著在基板面上、而能夠高效除去附著在基板面上的裝置。在處理室(10)的相對(duì)于基板(W)的搬送路線而配置了風(fēng)刀(20a)的空間側(cè)，并在風(fēng)刀(20a)配置位置的基板搬送方向的上游側(cè)設(shè)置有排氣口(16a)，在處理室(10)的內(nèi)部，在垂直方向豎立設(shè)置有使從風(fēng)刀(20a)的噴射口噴射而吹拂到基板(W)上的氣體向排氣口(16a)流動(dòng)的多張整流板(22)。
文檔編號(hào)H01L21/02GK1840997SQ20061007149
公開(kāi)日2006年10月4日 申請(qǐng)日期2006年3月29日 優(yōu)先權(quán)日2005年3月30日
發(fā)明者松本隆雄, 山本悟史 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社