專利名稱：數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法。
光盤(CD)為當(dāng)前運(yùn)用最為廣泛的數(shù)據(jù)儲存媒體，相比較于常規(guī)磁盤具有容量大、不易損壞等顯著優(yōu)點(diǎn)，當(dāng)前不論是軟件行業(yè)或大眾傳播行業(yè)(如音樂、有聲書等)，均普遍采用光盤作為其銷售信息的記錄媒體，而為識別或美化裝飾目的，一般光盤在非記錄信息區(qū)域的表面上多附加有圖形，以介紹該光盤的儲存信息內(nèi)容或作裝飾目的的美工設(shè)計(jì)。而形成在光盤上的圖形是屬于一種「被動式全像」，所謂“全像”是指在對光敏感的介質(zhì)(或媒體)上記錄下影像的全部信息，該信息包括了影像的亮度及影像來源、距離等數(shù)據(jù)。此種特性令其圖形影像具有3D的立體效果。至于“被動式全像”則指觀看影像時(shí)，記錄影像的介質(zhì)不會發(fā)光，而是由外在的光源照射，供目測取得影像。具體而言，被動式全像是將圖形全面性的覆蓋于光盤表面，其無法通過光盤表面的反光生成圖形，而僅能借助外部光源觀測圖案，其即常見于一般光盤表面的圖形，由于此種圖形將光盤的一表面布滿，無法供儲存數(shù)據(jù)信息，因此，以當(dāng)前市面上的所有光盤均無法使全像圖形及數(shù)據(jù)信息共存其上，此無疑對光盤上附加圖形造成限制。
本發(fā)明主要目的是提供一種可將數(shù)據(jù)信息及圖形同時(shí)形成在光盤的同一面上，并兼具美化與杜絕仿冒功效的數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法。
本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的，一種數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法，其特點(diǎn)是，它包括下列步驟a)分別計(jì)算數(shù)據(jù)信息與全像圖形的大小及于光盤上所占用面積，b)在光盤上分別錄寫數(shù)據(jù)信息及全像圖形的刻制，c)在光盤表面形成薄金屬層的濺鍍，d)對光盤作增厚處理以生成復(fù)制母版的電鍍，e)利用前述母版以注塑或壓印方式大量生產(chǎn)與母版所攜帶相同信息光盤的復(fù)制。
所述的數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法，步驟a)中的計(jì)算是在刻制數(shù)據(jù)信息與全像圖形前，先計(jì)算出數(shù)據(jù)信息的大小及于光盤上占用的面積，再以光盤上除數(shù)據(jù)信息占用面積外的其他區(qū)域分布形成全像圖形。
所述的數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法，步驟b)中的刻制是于一清洗潔凈的玻璃基板表面涂布光阻劑而形成光阻膜，爾后進(jìn)行圖形疊合制程，該圖形疊合制程主要是以兩組儀器生成的激光光束分別進(jìn)行數(shù)據(jù)信息錄寫及全像圖形錄寫。
所述的數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法，所述的刻制是以刻制數(shù)據(jù)信息的條件為基準(zhǔn)，并事先估算刻制完成的數(shù)據(jù)信息所須的顯影時(shí)間，而以數(shù)據(jù)信息的顯影時(shí)間作為全像圖形的顯影時(shí)間。
所述的數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法，所述的刻制為在特定的顯影時(shí)間內(nèi)生成最佳的全像效果，可事先進(jìn)行試驗(yàn)，主要是改變每個(gè)干涉點(diǎn)的曝光時(shí)間，并使不同曝光時(shí)間的圖形依次打至涂布光阻的同一片玻璃基板上，經(jīng)特定的時(shí)間顯影后，即可分辨出最佳效果的圖形，隨即采用該圖形的曝光時(shí)間，將全像圖形與數(shù)據(jù)信息刻制在同一玻璃基板上。
所述的數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法，所述的全像圖形是由點(diǎn)陣式全像片構(gòu)成，該點(diǎn)陣式全像片是由多個(gè)干涉點(diǎn)群所構(gòu)成。
本發(fā)明與已有技術(shù)相比優(yōu)點(diǎn)和積極效果非常明顯。由以上的技術(shù)方案可知，因本發(fā)明利用多個(gè)干涉點(diǎn)構(gòu)成點(diǎn)陣式全像片，并進(jìn)一步構(gòu)成全像圖形使其可與數(shù)據(jù)信息共存于光盤上，因此，除具備美觀裝飾效果外，更可以作為真品識別標(biāo)記，防止光盤復(fù)制仿冒。
以下結(jié)合附圖進(jìn)一步說明本發(fā)明的具體結(jié)構(gòu)特征及目的。


圖1是用以表示決定一個(gè)干涉點(diǎn)參數(shù)的示意圖；圖2是本發(fā)明的流程圖；圖3是本發(fā)明的制程示意圖。
本發(fā)明數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法主要是利用點(diǎn)陣式全像片作為圖形，使其與數(shù)據(jù)信息共同附加儲存在光盤上，有關(guān)點(diǎn)陣式全像片(dot matrixhologram)的技術(shù)原理，略述如下所謂全像信息，由其介質(zhì)外形觀之，實(shí)際上是一組干涉條紋(相當(dāng)于不規(guī)則的光柵)。而生成干涉條紋的方式很多，此處采取的方式是利用每次生成一個(gè)干涉點(diǎn)，而將一群點(diǎn)拼組成所需圖形的“點(diǎn)陣式全像片”。
該點(diǎn)陣式全像片類似計(jì)算機(jī)影像圖檔，以點(diǎn)陣形式構(gòu)成圖形，其中每一個(gè)點(diǎn)即是一個(gè)干涉條紋，每個(gè)干涉條紋可由下列的參數(shù)決定其特性，請參閱圖1所示，S＝光柵之間距，d＝光柵深度，θ＝光柵角度，及一個(gè)干涉點(diǎn)的面積。經(jīng)改變這些參數(shù)，便可得到各種不同效果的干涉點(diǎn)，進(jìn)一步可拼組構(gòu)成具備回旋、漸層、多圖疊合及景深等多種不同效果的圖形。
經(jīng)上述可了解點(diǎn)陣式全像片的技術(shù)內(nèi)容，而本發(fā)明則利用點(diǎn)陣式全像片所構(gòu)成圖形與數(shù)據(jù)信息共存于光盤上，其具體的制造方法如圖2所示，具體包括下列步驟分別計(jì)算數(shù)據(jù)信息與全像圖形的大小及于光盤上所占用面積；在光盤上分別錄寫數(shù)據(jù)信息及全像圖形的刻制；在光盤表面形成薄金屬層的濺鍍；對光盤作增厚處理以生成復(fù)制母版的電鍍(ELECTROFORMING)；利用前述母版以注塑或壓印方式大量生產(chǎn)與母版所攜帶相同信息光盤的復(fù)制；其中在上述“計(jì)算數(shù)據(jù)信息于光盤上所占用面積”步驟中，是在刻制數(shù)據(jù)信息與全像圖形前，先計(jì)算出數(shù)據(jù)信息的大小及于光盤上占用的面積，再以光盤上除數(shù)據(jù)信息占用面積外的其他區(qū)域分布形成全像圖形，換言之，即以數(shù)據(jù)信息的錄寫為主，全像圖形的附加為輔。
除計(jì)算占用面積外，另一必須預(yù)估的項(xiàng)目為刻制的時(shí)間，由于數(shù)據(jù)信息與全像圖形是由不同的儀器生成，在形成數(shù)據(jù)信息及全像圖形時(shí)，是以所需時(shí)間少的步驟優(yōu)先刻制，即數(shù)據(jù)信息錄寫時(shí)間少時(shí)，即先刻制數(shù)據(jù)信息，反之，在全像圖形錄寫時(shí)間較短時(shí)，則優(yōu)先刻制全像圖形。
又上述全像圖形的刻制步驟，請參閱圖3所示，主要是在一清洗潔凈的玻璃基板10表面涂布光阻劑而形成光阻膜11，隨后進(jìn)行圖形疊合制程，主要是以兩組儀器生成的激光光束分別進(jìn)行數(shù)據(jù)信息錄寫及全像圖形錄寫，而玻璃基板10上經(jīng)過激光光束照射的部分將生成化學(xué)變化，經(jīng)過化學(xué)藥品進(jìn)行顯影后，將在化學(xué)變化部分形成坑洞，日后由光盤機(jī)讀取時(shí)即生成0與1的數(shù)據(jù)信號。
在上述刻制步驟中主要是以刻制數(shù)據(jù)信息的條件為基準(zhǔn)，并事先估算刻制完成的數(shù)據(jù)信息所須的顯影時(shí)間，該數(shù)據(jù)信息顯影時(shí)間亦即為全像圖形的顯影時(shí)間。
為在特定的顯影時(shí)間內(nèi)生成最佳的全像效果，可事先進(jìn)行試驗(yàn)
主要是改變每個(gè)干涉點(diǎn)接受激光光照射的時(shí)間(即曝光時(shí)間)，依不同的曝光時(shí)間在涂布光阻的同一片玻璃基板上的不同位置上依次打上圖形。經(jīng)過特定的時(shí)間顯影后，即可分辨出最佳效果的圖形，隨即采用該圖形的曝光時(shí)間，將全像圖形與數(shù)據(jù)信息刻制在同一玻璃基板上。
以上所述者即包括刻制及顯影兩步驟，在完成前述步驟后，即依次進(jìn)行濺鍍、電鍍、注塑或壓印等步驟，仍請參閱圖3所示，經(jīng)過顯影步驟后的玻璃基板10即進(jìn)行濺鍍步驟，主要是在玻璃基板10表面著一層薄金屬層12，再經(jīng)電鍍步驟后以提高薄金屬層12的厚度，隨即構(gòu)成一母版(MASTER)，而利用該母版即可通過注塑或壓印方式(如圖2右側(cè)所示的第一、二道步驟)大量生產(chǎn)具有母版所攜帶相同信息的光盤。
最后再將注塑或壓印完成的光盤表面以濺鍍方式鍍上一反射層13及以旋涂方式涂布保護(hù)膠而構(gòu)成保護(hù)膜14。
權(quán)利要求
1.一種數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法，其特征在于它包括下列步驟a)分別計(jì)算數(shù)據(jù)信息與全像圖形的大小及于光盤上所占用面積，b)在光盤上分別錄寫數(shù)據(jù)信息及全像圖形的刻制，c)在光盤表面形成薄金屬層的濺鍍，d)對光盤作增厚處理以生成復(fù)制母版的電鍍，e)利用前述母版以注塑或壓印方式大量生產(chǎn)與母版所攜帶相同信息光盤的復(fù)制。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法，其特征在于所述的步驟a)，計(jì)算是在刻制數(shù)據(jù)信息與全像圖形前，先計(jì)算出數(shù)據(jù)信息的大小及于光盤上占用的面積，再以光盤上除數(shù)據(jù)信息占用面積外的其他區(qū)域分布形成全像圖形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法，其特征在于所述的步驟b)，刻制是于一清洗潔凈的玻璃基板表面涂布光阻劑而形成光阻膜，爾后進(jìn)行圖形疊合制程，該圖形疊合制程主要是以兩組儀器生成的激光光束分別進(jìn)行數(shù)據(jù)信息錄寫及全像圖形錄寫。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法，其特征在于所述的刻制是以刻制數(shù)據(jù)信息的條件為基準(zhǔn)，并事先估算刻制完成的數(shù)據(jù)信息所須的顯影時(shí)間，而以數(shù)據(jù)信息的顯影時(shí)間作為全像圖形的顯影時(shí)間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法，其特征在于所述的刻制為在特定的顯影時(shí)間內(nèi)生成最佳的全像效果，可事先進(jìn)行試驗(yàn)，主要是改變每個(gè)干涉點(diǎn)的曝光時(shí)間，并使不同曝光時(shí)間的圖形依次打至涂布光阻的同一片玻璃基板上，經(jīng)特定的時(shí)間顯影后，即可分辨出最佳效果的圖形，隨即采用該圖形的曝光時(shí)間，將全像圖形與數(shù)據(jù)信息刻制在同一玻璃基板上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法，其特征在于所述的全像圖形是由點(diǎn)陣式全像片構(gòu)成，該點(diǎn)陣式全像片是由多個(gè)干涉點(diǎn)群所構(gòu)成。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種數(shù)據(jù)光盤附加全像圖形的制造方法,主要是將數(shù)據(jù)信息與全像圖形同時(shí)形成于光盤的同一面上,其制造方法是先計(jì)算出數(shù)據(jù)信息的大小及占用光盤的面積,該光盤上剩余的面積則供全像圖形布設(shè),隨后通過刻制、顯像、測鍍、電鍍等步驟制成母版,再經(jīng)注塑或壓印步驟制成于同一面上同時(shí)具有數(shù)據(jù)信息及全像圖形的光盤,利用所述制造方法構(gòu)成的光盤具有美觀及杜絕仿冒等功效。
文檔編號G11B7/24GK1263341SQ9910235
公開日2000年8月16日 申請日期1999年2月12日 優(yōu)先權(quán)日1999年2月12日
發(fā)明者劉瑞哲, 賴鍵模 申請人:恩基科技股份有限公司