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光記錄介質(zhì)及其制造方法

文檔序號(hào):6760655閱讀:137來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:光記錄介質(zhì)及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種光記錄介質(zhì)。更具體地說(shuō),本發(fā)明涉及一種從保護(hù)層側(cè)入射光束的多層光記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)
近年來(lái),光記錄介質(zhì)已經(jīng)用作記錄計(jì)算機(jī)領(lǐng)域、音頻視頻領(lǐng)域以及其它領(lǐng)域內(nèi)的各種信息的記錄介質(zhì)。此外,隨著移動(dòng)計(jì)算機(jī)變得普及并且更多種類的信息變得可用,需要小尺寸、大容量的光記錄介質(zhì)。
迄今為止,用于通過(guò)利用光來(lái)記錄或再現(xiàn)這些信息的光記錄介質(zhì)的公知例子包括具有單板(single plate)結(jié)構(gòu)的光記錄介質(zhì)和具有層疊結(jié)構(gòu)的光記錄介質(zhì)。前者光記錄介質(zhì)具有在襯底上形成的微細(xì)凸凹圖案(或不平圖案)如凹坑或引導(dǎo)凹槽,其用于獲得跟蹤伺服信號(hào)等。在該圖案上形成記錄層并且根據(jù)需要形成反射層。此外,在這些層上形成有機(jī)保護(hù)層。
后者光記錄介質(zhì)通過(guò)層疊兩個(gè)襯底而構(gòu)成,其中這兩個(gè)襯底的記錄層或反射層彼此相對(duì)。
近年來(lái),為了滿足記錄密度進(jìn)一步提高的要求,提出了通過(guò)在襯底的一個(gè)表面上形成多個(gè)記錄層而獲得的光記錄介質(zhì)。該記錄介質(zhì)在一個(gè)襯底表面上具有多個(gè)記錄層,而具有單板結(jié)構(gòu)或?qū)盈B結(jié)構(gòu)的記錄介質(zhì)在一個(gè)襯底表面上僅僅具有一個(gè)記錄層。在其上形成有信號(hào)圖案的支持襯底上形成記錄層。此外,通過(guò)在其上形成信號(hào)圖案的微細(xì)凸凹圖案形成層,在記錄層上形成另一個(gè)記錄層。根據(jù)需要,附加地重復(fù)形成信號(hào)圖案形成層和記錄層,并且在最后記錄層上形成有機(jī)保護(hù)層。用于記錄/再現(xiàn)和擦除信息的光入射平面可以在支持襯底側(cè),或者可以在最后記錄層上的有機(jī)保護(hù)層側(cè)。然而,當(dāng)光入射平面在有機(jī)保護(hù)層側(cè)時(shí),可以容易地減小透光襯底的厚度。因此,從有機(jī)保護(hù)層側(cè)入射光的類型對(duì)于記錄密度的提高是有利的,這是因?yàn)榭梢栽龃笫叭∑鞯奈镧R的數(shù)值孔徑(NA)。
將參考圖7描述多層記錄介質(zhì)的第一現(xiàn)有技術(shù)。作為數(shù)字多功能盤(DVD)的結(jié)構(gòu),該技術(shù)是公知的。在由聚碳酸酯制成且具有0.6mm厚度的、用于支持記錄層的支持襯底107上,形成了用于獲得跟蹤伺服信號(hào)等的微細(xì)凸凹圖案如引導(dǎo)凹槽。在支持襯底107的微細(xì)凸凹圖案上,施加第一記錄層104。當(dāng)?shù)谝挥涗泴?04由有機(jī)材料形成時(shí),光記錄介質(zhì)101變成一次寫多次讀型光記錄介質(zhì)。一次寫多次讀型光記錄介質(zhì)已經(jīng)普及,這是因?yàn)榭梢砸缘统杀局圃焖鼈儭?br> 將參考圖8描述用于施加有機(jī)材料的一般處理。在旋涂機(jī)(spincoater)轉(zhuǎn)動(dòng)部分23中設(shè)置支持襯底107。將有機(jī)材料24從有機(jī)材料供應(yīng)噴嘴25滴到支持襯底107上。此后,以預(yù)定轉(zhuǎn)數(shù)轉(zhuǎn)動(dòng)旋涂機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)部分23,以便施加具有預(yù)定厚度的有機(jī)材料24。
將再次參考圖7進(jìn)行描述。在根據(jù)這樣的制造方法而制造的光記錄介質(zhì)中,由于在凹槽171中形成的有機(jī)材料具有大于在支持襯底107上的兩個(gè)相鄰引導(dǎo)凹槽之間的平臺(tái)172處形成的有機(jī)材料的厚度,因此位于每個(gè)凹槽(引導(dǎo)凹槽)171中的有機(jī)材料便于用作記錄軌道。這是因?yàn)橛涗洉r(shí)記錄層的期望物理改變的發(fā)生要求記錄層具有足夠的厚度。實(shí)際上,在一次寫多次讀型DVD中,通過(guò)使用光束B(niǎo)向在凹槽171上形成的第一記錄層104記錄信息或者從其再現(xiàn)信息。根據(jù)需要可以在第一記錄層104上形成半透明膜(未示出)。
作為制造具有多層結(jié)構(gòu)的光記錄介質(zhì)的方法,存在下面將要描述的方法。首先,在第一記錄層104上施加紫外線可固化樹(shù)脂。接下來(lái),在紫外線可固化樹(shù)脂上重疊透明壓模(未示出)。接下來(lái),以通過(guò)透明壓模的紫外線光照射紫外線可固化樹(shù)脂,以使其固化。這樣,將在透明壓模上形成的微細(xì)凸凹圖案如引導(dǎo)凹槽轉(zhuǎn)印到紫外線可固化樹(shù)脂上,由此形成信號(hào)圖案形成層173。此后,從信號(hào)圖案形成層173剝離透明壓模。
形成信號(hào)圖案形成層173的方法利用傳統(tǒng)的光敏聚合物處理(以下被稱作“2P處理”)。在傳統(tǒng)的2P方法中,在金屬壓模上重疊紫外線可固化樹(shù)脂和透明支持襯底,并且從透明支持襯底側(cè)照射紫外線光,以固化紫外線可固化樹(shù)脂。另一方面,在具有多層結(jié)構(gòu)的光記錄介質(zhì)中,由于在支持襯底107上形成反射層或記錄層,因此即使當(dāng)從支持襯底107側(cè)照射紫外線光時(shí),紫外線光的能量減弱,其結(jié)果是不能充分地固化紫外線可固化樹(shù)脂。因此,采用了使用透明壓模并且從透明壓模側(cè)照射紫外線光的方法。
此后,重復(fù)參考圖8描述的處理,以將有機(jī)材料施加到信號(hào)圖案形成層173上,由此形成第二記錄層106。同樣在此時(shí),如同第一記錄層104的情況一樣,以有機(jī)材料填充信號(hào)圖案形成層173上的每個(gè)凹槽,使得該有機(jī)材料厚度大于兩個(gè)相鄰凹槽之間的平臺(tái)處的有機(jī)材料厚度??梢栽诘诙涗泴?06上提供反射層112。從而,可以增加來(lái)自與光入射平面相距更遠(yuǎn)的第二記錄層106的反射光的量。此外,以與圖8所示相同的方式,將粘合劑113施加到層106,并且通過(guò)粘合劑113在第二記錄層106上形成保護(hù)層102。例如,紫外線可固化樹(shù)脂可以用作粘合劑113。
多層記錄介質(zhì)的另一構(gòu)造是公知的。圖9是示出多層記錄介質(zhì)的第二現(xiàn)有技術(shù)的橫截面圖。在第二現(xiàn)有技術(shù)中,從保護(hù)層202側(cè)入射光束,而在第一現(xiàn)有技術(shù)中,從支持襯底107側(cè)入射光束。采用這樣的構(gòu)造的原因是從保護(hù)層202側(cè)入射光束使得易于減小透光襯底的厚度,從而可以增大拾取器的物鏡的數(shù)值孔徑(NA),這對(duì)于記錄密度的提高是有利的。保護(hù)層202的厚度需要根據(jù)所使用的物鏡的NA而減小,并且對(duì)于NA=0.85,厚度需要為至多0.3mm或更小,以便減輕由于光記錄介質(zhì)的傾斜而導(dǎo)致的彗形像差的影響。在第二現(xiàn)有技術(shù)的示例中,在具有1.1mm厚度的支持襯底207上提供具有厚度0.05mm的有機(jī)保護(hù)層,以便覆蓋兩個(gè)記錄層204、206。
因此,一般而言,形成記錄層的次序與第一現(xiàn)有技術(shù)的光記錄介質(zhì)的次序相反(由圖9中的輪廓線箭頭表示的方向)。首先,在支持襯底207上形成用于獲得跟蹤伺服信號(hào)等的微細(xì)凸凹圖案如引導(dǎo)凹槽,并且通過(guò)濺射等形成反射層212。在微細(xì)凸凹圖案上施加第二記錄層206。第二記錄層206例如由有機(jī)材料形成,并且在這樣的情況下,記錄介質(zhì)201變成一次寫多次讀型光記錄介質(zhì)。在如參考圖8所述的用于施加有機(jī)材料的步驟中使用旋轉(zhuǎn)涂敷。以有機(jī)材料填充支持襯底207上的每個(gè)凹槽(引導(dǎo)凹槽)271,使得該有機(jī)材料的厚度大于兩個(gè)相鄰凹槽271之間的平臺(tái)272處的有機(jī)材料厚度。
接下來(lái),在第二記錄層206上形成第一記錄層204。在該步驟中,使用如參考圖7所述的涉及透明壓模的使用的方法。也就是,施加紫外線可固化樹(shù)脂,并且將透明壓模壓在該樹(shù)脂上。從透明壓模側(cè)照射紫外線光,由此將在透明壓模上形成的微細(xì)凸凹圖案如引導(dǎo)凹槽轉(zhuǎn)印到樹(shù)脂層上。這樣,形成信號(hào)圖案形成層273。此后,從信號(hào)圖案形成層273剝離透明壓模。隨后,為了形成第一記錄層204,重復(fù)參考圖8所述的步驟,以便將有機(jī)材料施加到信號(hào)圖案形成層273上。同樣在此時(shí),如同第二記錄層206的情況一樣,以有機(jī)材料填充信號(hào)圖案形成層273上的每個(gè)凹槽,使得該有機(jī)材料的厚度大于兩個(gè)相鄰凹槽之間的平臺(tái)處的有機(jī)材料厚度。另外,根據(jù)需要,可以在第一記錄層204和信號(hào)圖案形成層273之間形成半透明膜(未示出)。此外,將粘合劑213施加在其上,并且最后將保護(hù)層202堆疊和粘合在其上。例如,紫外線可固化樹(shù)脂可用作粘合劑213。
圖10A和10B示出了第一和第二現(xiàn)有技術(shù)的光記錄介質(zhì)的記錄功率容限的估算模擬結(jié)果。圖10A示出了第一現(xiàn)有技術(shù)的示例,并且是當(dāng)記錄軌道目對(duì)于光束B(niǎo)凸起(或突起)時(shí)記錄軌道上的溫度分布。圖10B示出了第二現(xiàn)有技術(shù)的示例,并且是當(dāng)記錄軌道相對(duì)于光束B(niǎo)凹入(或凹進(jìn))時(shí)記錄軌道上的溫度分布。在每個(gè)圖中,橫坐標(biāo)軸表示垂直于軌道的方向(即徑向)上的距離,并且縱坐標(biāo)軸表示溫度。以405nm的記錄波長(zhǎng)、0.85的物鏡NA、以及0.32μm的軌道間距執(zhí)行模擬。就波長(zhǎng)、NA、以及軌道間距而言,代表第二現(xiàn)有技術(shù)的規(guī)格基本上相同于DVD的規(guī)格(記錄波長(zhǎng)660nm;物鏡NA0.6;軌道間距0.74μm)。因此,僅僅這些模擬結(jié)果對(duì)于記錄軌道上的溫度分布狀態(tài)趨勢(shì)和記錄功率容限的估算是足夠的。
在第一現(xiàn)有技術(shù)的示例中,由于光束B(niǎo)入射在相對(duì)于光束凸起的部分上,如圖10A所示,溫度大大提高的范圍局限于記錄軌道的凸部分71。由于抑制了向凹部分72的熱擴(kuò)散,因此相鄰軌道中的溫度升高是輕微的。另一方面,在第二現(xiàn)有技術(shù)的示例中,當(dāng)要向凹槽中的相對(duì)厚的有機(jī)材料層記錄信息或者從其再現(xiàn)信息時(shí),光束B(niǎo)需要入射在相對(duì)于光束凹入的部分73上。然而,在這種情況下,如圖10B所示,溫度分布的側(cè)峰值出現(xiàn)在相對(duì)于光束均凸起的部分74處,從而熱易于擴(kuò)散到相鄰的記錄軌道中。因此,記錄時(shí)串寫相鄰軌道的可能性增加,從而記錄功率容限變窄。
前文的總結(jié)如下所述。在光記錄介質(zhì)中,當(dāng)要增大拾取器的物鏡的數(shù)值孔徑(NA)從而提高記錄密度時(shí),從保護(hù)層側(cè)入射光束的模式是理想的,這是因?yàn)榭梢匀菀椎販p小透光襯底的厚度。也就是,第二現(xiàn)有技術(shù)比第一現(xiàn)有技術(shù)更有利。然而,在具有通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂敷來(lái)施加有機(jī)材料而形成的記錄層的記錄介質(zhì)中,當(dāng)在相對(duì)厚地分布有機(jī)材料層的部分中設(shè)置記錄軌道時(shí),這樣的部分將具有在與朝向保護(hù)層的方向相反的方向上凸起的形狀,也就是,將是相對(duì)于光束凹入的部分。這可歸因于在支持襯底上執(zhí)行堆疊的堆疊次序。結(jié)果,記錄功率容限變窄,從而使得難以提高軌道密度。
避免此缺陷的可能措施是使光束入射在相對(duì)于光束凸起的部分上,以執(zhí)行記錄/再現(xiàn)。然而,由于這意味著將相對(duì)薄地分布有機(jī)材料層的部分用作記錄軌道,因此需要顯著增大記錄層的厚度,就制造效率和制造成本而言,這是不利的。

發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明的目的是提供一種在高軌道密度和優(yōu)良批量生產(chǎn)率之間達(dá)成平衡的光記錄介質(zhì),其具有這樣的結(jié)構(gòu),其中從保護(hù)層側(cè)入射光束,并且通過(guò)使用旋轉(zhuǎn)涂敷等施加有機(jī)材料來(lái)形成記錄層。
根據(jù)本發(fā)明的一方面,提供了一種光記錄介質(zhì),包括
支持襯底;保護(hù)層,在光束入射側(cè)提供,具有小于支持襯底的厚度;以及記錄層,在支持襯底和保護(hù)層之間形成,其中記錄層包括凹部分作為記錄軌道之間的間隙,并且包括凸部分作為記錄軌道,該凸部分具有大于凹(或凹進(jìn))部分的厚度,并且被形成為朝向保護(hù)層凸起(或突起)。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面,提供了一種制造光記錄介質(zhì)的方法,包括以下步驟在片狀基礎(chǔ)構(gòu)件(sheet-shaped base member)上形成凸凹圖案;在片狀基礎(chǔ)構(gòu)件的凸凹圖案上形成記錄層;接合片狀基礎(chǔ)構(gòu)件和支持襯底,使得在其上形成有記錄層的片狀基礎(chǔ)構(gòu)件的表面和支持襯底的支持表面彼此面對(duì)。


圖1是示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光記錄介質(zhì)的層構(gòu)造的橫截面圖;圖2是示意性地示出制造圖1所示的光記錄介質(zhì)的方法的制造步驟的視圖;圖3是示出片狀基礎(chǔ)構(gòu)件的制造步驟的示意圖;圖4是示出通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂敷來(lái)施加記錄層的方法的示意圖;圖5是示出堆疊薄片(sheet)的步驟的示意圖;圖6是示出光記錄介質(zhì)的形狀形成步驟的示意圖;圖7是示出多層記錄介質(zhì)的第一現(xiàn)有技術(shù)的橫截面圖;圖8是示出現(xiàn)有技術(shù)的施加有機(jī)材料的一般步驟的說(shuō)明圖;圖9是示出多層記錄介質(zhì)的第二現(xiàn)有技術(shù)的橫截面圖;以及圖10A和10B是各自示出記錄功率容限的估算模擬結(jié)果的圖示。
具體實(shí)施例方式
以下,將參考附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。
圖1是示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的光記錄介質(zhì)的層構(gòu)造的橫截面圖。
雖然本發(fā)明的光記錄介質(zhì)也適用于具有一個(gè)記錄層或者三個(gè)或更多記錄層的記錄介質(zhì)并且這樣的記錄介質(zhì)可以具有類似的構(gòu)造,但是將以兩層構(gòu)造為例進(jìn)行描述。
光記錄介質(zhì)1包括支持襯底7以及保護(hù)層2,其中保護(hù)層2具有小于支持襯底7的厚度,并且在光束B(niǎo)入射的一側(cè)提供。在從保護(hù)層2到支持襯底7的方向上,在支持襯底7和保護(hù)層2之間形成第一薄片3和第二薄片5。第一薄片3具有第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33、以及在該基礎(chǔ)構(gòu)件的表面上形成的第一記錄層4。
第二薄片5具有第二片狀基礎(chǔ)構(gòu)件53、以及在該基礎(chǔ)構(gòu)件的表面上形成的第二記錄層6。如上所述,由于可以容易地減小透光襯底的厚度,并且因此由于可以增大拾取器的物鏡的數(shù)值孔徑(NA),因此從保護(hù)層2側(cè)入射光束B(niǎo)的類型對(duì)于記錄密度的提高是有利的。保護(hù)層2的厚度需要根據(jù)所使用的物鏡的數(shù)值孔徑NA而減小。在NA=0.85的情況下,為了減輕由于光盤的傾斜而導(dǎo)致的彗形像差的影響,厚度需要大于0mm,并且為0.3mm或更小。在本實(shí)施例中,保護(hù)層2的厚度為0.05mm,并且支持襯底7的厚度為1.1mm。
在保護(hù)層2上提供第一薄片3。在第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33上,形成了由用于獲得跟蹤伺服信號(hào)等的凹槽(引導(dǎo)凹槽)31和兩個(gè)相鄰凹槽31之間的平臺(tái)32組成的微細(xì)凸凹圖案。第一記錄層4由有機(jī)材料組成,并且在第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33的表面上形成,以便填充第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33的凹槽31,并且遍布在該基礎(chǔ)構(gòu)件的整個(gè)表面上。第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33的每個(gè)凹槽31以有機(jī)材料填充,使得該有機(jī)材料的厚度大于平臺(tái)32的有機(jī)材料厚度。結(jié)果,在第一記錄層4中,形成了對(duì)應(yīng)于平臺(tái)32的凹部分41和對(duì)應(yīng)于凹槽31的凸部分42,其中凸部分42的厚度大于凹部分41的厚度。每個(gè)凸部分42用作記錄信息的記錄軌道,并且被形成為相對(duì)于入射光束B(niǎo)凸起,也就是,朝向保護(hù)層2凸起。每個(gè)凹部分41變成相鄰記錄軌道之間的間隙。
在第一記錄層4上涂敷粘合劑11,并且在該粘合劑上提供第二片狀基礎(chǔ)構(gòu)件53。根據(jù)需要,可以在第一記錄層4和第二片狀基礎(chǔ)構(gòu)件53之間形成半透明膜(未示出)。如同第一薄片3的情況一樣,在第二片狀基礎(chǔ)構(gòu)件53上形成由凹槽51和兩個(gè)相鄰凹槽51之間的平臺(tái)52組成的微細(xì)凸凹圖案。在第二片狀基礎(chǔ)構(gòu)件53的表面上形成如同第一記錄層4一樣由有機(jī)材料組成的第二記錄層6,以便填充第二片狀基礎(chǔ)構(gòu)件53的凹槽51,并且遍布在該基礎(chǔ)構(gòu)件的整個(gè)表面上。在第二記錄層6中,如同第一記錄層4的情況一樣,形成了凹部分61和凸部分62,其中每個(gè)凸部分62具有大于凹部分61的厚度。每個(gè)凸部分62用作記錄軌道,并且相對(duì)于入射光束B(niǎo)凸起,也就是,朝向保護(hù)層2凸起。凹部分61各自變成相鄰記錄軌道之間的間隙。
通過(guò)濺射等在第二記錄層6上形成反射層12。通過(guò)層12和支持襯底7之間的粘合劑13在層12上堆疊用于支持第一薄片3和第二薄片5的支持襯底7。支持襯底7是平坦的,并且在其上沒(méi)有形成包括用于獲得跟蹤伺服信號(hào)等的引導(dǎo)凹槽的微細(xì)凸凹圖案。
由于光束B(niǎo)入射在相對(duì)于光束B(niǎo)凸起的記錄軌道上,因此具有如上所述的構(gòu)造的光記錄介質(zhì)提供如圖10A所示的溫度分布。溫度大大提高的范圍局限于凸部分42、62,并且相鄰軌道中的溫度升高是輕微的,從而產(chǎn)生擴(kuò)大記錄功率容限的效果。由于相對(duì)于相對(duì)大厚度的凸部分42、62執(zhí)行記錄/再現(xiàn),因此無(wú)需施加超過(guò)必要厚度的有機(jī)材料,就制造成本和制造效率而言,這是有利的。
接下來(lái),將描述制造上述光記錄介質(zhì)的方法。圖2是示意性地示出制造光記錄介質(zhì)的方法的制造步驟的視圖。
首先,如步驟1所示,將諸如平臺(tái)和凹槽的微細(xì)凸凹圖案從其上形成有該微細(xì)凸凹圖案的壓模14轉(zhuǎn)印到基礎(chǔ)構(gòu)件,由此形成第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33。接下來(lái),如步驟2所示,通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂敷將有機(jī)材料43施加到其上轉(zhuǎn)印有微細(xì)凸凹圖案的第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33上,以便填充凸凹圖案的凹部分,并且遍布在該圖案的整個(gè)表面上,由此形成第一記錄層4。根據(jù)需要,可以在有機(jī)材料43上提供半透明膜(未示出)。接下來(lái),如步驟3所示,將粘合劑11施加到第一記錄層4上,由此完成其中形成了第一記錄層4的第一薄片3。
接下來(lái),如步驟4所示,將諸如平臺(tái)和凹槽的微細(xì)凸凹圖案從其上形成有該微細(xì)凸凹圖案的壓模15轉(zhuǎn)印到基礎(chǔ)構(gòu)件,由此形成第二片狀基礎(chǔ)構(gòu)件53。接下來(lái),如步驟5所示,通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂敷將有機(jī)材料63施加到其上轉(zhuǎn)印了微細(xì)凸凹圖案的第二片狀基礎(chǔ)構(gòu)件53上。這樣,產(chǎn)生第二記錄層6。接下來(lái),如步驟6所示,通過(guò)濺射等在第二記錄層6上形成反射層12。接下來(lái),如步驟7所示,將粘合劑13施加到反射層12上,由此完成其中形成了第二記錄層6的第二薄片5。
這里,制造第一薄片3的步驟1到3和制造第二薄片5的步驟4到7相互獨(dú)立。因此,可以在步驟4到7之前執(zhí)行步驟1到3,或者可以在步驟1到3之前執(zhí)行步驟4到7??蛇x地,可以同時(shí)執(zhí)行步驟1到3和步驟4到7。
接下來(lái),如步驟8所示,將分別在其上轉(zhuǎn)印了微細(xì)凸凹圖案并且分別在其中形成了第一或第二記錄層4、6的兩個(gè)薄片3、5與支持襯底7對(duì)齊,并且相互堆疊和接合在一起。不同于圖9所示的第二現(xiàn)有技術(shù),以記錄層4、6各自形成接近于支持襯底7的表面(以便面對(duì)支持襯底7)的方式,將在片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33、53上形成的記錄層4、6相互對(duì)齊和接合。此外,保護(hù)層2被形成為與相距支持襯底7最遠(yuǎn)的片狀基礎(chǔ)構(gòu)件(在本例中為第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33)相接觸。保護(hù)層2可以根據(jù)需要通過(guò)施加粘合劑來(lái)接合,或者可以是具有粘合劑的薄片??蛇x地,保護(hù)層2可以通過(guò)以厚度小于支持襯底的厚度施加樹(shù)脂等來(lái)形成。
接下來(lái),如步驟9所示,固化粘合劑,并且將所堆疊的薄片3、5均處理成預(yù)定形狀,由此完成光記錄介質(zhì)1。附帶地,當(dāng)通過(guò)涂敷處理形成保護(hù)層2時(shí),可以在該步驟中執(zhí)行該處理。
下面將參考圖3到6更詳細(xì)地描述上述制造光記錄介質(zhì)的方法。
首先,將描述在圖2的步驟1或4中通過(guò)從壓模轉(zhuǎn)印引導(dǎo)凹槽等而形成片狀基礎(chǔ)構(gòu)件的步驟(將通過(guò)以步驟1為例來(lái)給出描述,但是對(duì)于步驟4也同樣適用)。圖3是示出片狀基礎(chǔ)構(gòu)件的制造步驟的示意圖。
首先制備被處理成片狀的基礎(chǔ)構(gòu)件34。如下所述,可以使用各種方法中的任一種在基礎(chǔ)構(gòu)件34上形成引導(dǎo)凹槽等。首先,當(dāng)基礎(chǔ)構(gòu)件34由熱塑樹(shù)脂組成時(shí),可以采用涉及將基礎(chǔ)構(gòu)件34重疊在壓模14上并且使熱塑樹(shù)脂經(jīng)受加壓和加熱中的任一個(gè)或兩者的方法。此后,根據(jù)需要冷卻該熱塑樹(shù)脂,并且剝離壓模14,由此在基礎(chǔ)構(gòu)件34上直接形成引導(dǎo)凹槽等。可選地,可以采用另一方法,其涉及在基礎(chǔ)構(gòu)件34或壓模14上形成紫外線可固化樹(shù)脂、熱固樹(shù)脂或干光敏聚合物的膜(未示出),將保留下來(lái)的壓模14或基礎(chǔ)構(gòu)件34重疊在紫外線可固化樹(shù)脂上,并且通過(guò)諸如紫外線光的能量射線或者通過(guò)加熱來(lái)固化樹(shù)脂層。此后,剝離壓模14,由此在基礎(chǔ)構(gòu)件34上形成信號(hào)圖案形成層。此外,可以通過(guò)將未固化或半固化、液體或者片狀樹(shù)脂施加到或者重疊在壓模14上,并且通過(guò)紫外線光、通過(guò)加熱或者通過(guò)使用任何其它手段固化樹(shù)脂來(lái)形成具有引導(dǎo)凹槽等的第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33。作為樹(shù)脂,可以使用紫外線可固化樹(shù)脂、熱固樹(shù)脂、或者干光敏聚合物。可以在樹(shù)脂的至少一個(gè)表面上形成可以在后續(xù)步驟中剝離的保護(hù)片。保護(hù)片的形成使得能夠隔著樹(shù)脂和保護(hù)片在壓模上進(jìn)行加壓,使得可以容易地獲得具有均勻厚度的第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33,并且也有助于基礎(chǔ)構(gòu)件34的傳送和操縱。在本發(fā)明中,只需在基礎(chǔ)構(gòu)件34上形成預(yù)定引導(dǎo)凹槽等,并且形成引導(dǎo)凹槽等的方法不局限于上述方法。
另外,可以根據(jù)需要在各個(gè)步驟中在基礎(chǔ)構(gòu)件34的至少一個(gè)表面上形成可剝離保護(hù)片,并且可以在任何步驟中剝離保護(hù)片。這樣,保護(hù)了基礎(chǔ)構(gòu)件34,并且可以容易地解決例如在傳送或定位基礎(chǔ)構(gòu)件34的步驟中的操縱方面的問(wèn)題。可以任意地選擇保護(hù)片的厚度。當(dāng)剝離保護(hù)片時(shí),易于產(chǎn)生靜電,從而易于發(fā)生由于粘附灰塵而造成的缺陷。因此,優(yōu)選的是,使保護(hù)片經(jīng)過(guò)防靜電處理,或者在除電環(huán)境中執(zhí)行剝離工作。
當(dāng)層間距離小時(shí),由于需要減小基礎(chǔ)構(gòu)件34的厚度,因此優(yōu)選的是,在基礎(chǔ)構(gòu)件34上不形成樹(shù)脂層。
基礎(chǔ)構(gòu)件34和用于形成引導(dǎo)凹槽等的樹(shù)脂層的材料不受到特別限制,只要這些材料在記錄、再現(xiàn)和擦除時(shí)不引起光學(xué)問(wèn)題即可。然而,由于要被使用的光的波長(zhǎng)對(duì)于CD為785nm并且對(duì)于DVD為660nm,并且由于在本發(fā)明中可以使用諸如405nm的短波長(zhǎng),因此在這樣的波長(zhǎng)區(qū)域內(nèi)顯示出較少的吸收或反射和較少的雙折射的材料是理想的。適于各自用作形成信號(hào)圖案形成層的基礎(chǔ)的片狀基礎(chǔ)構(gòu)件和熱塑薄片基礎(chǔ)構(gòu)件的材料的特定例子包括但不限于聚碳酸酯樹(shù)脂、聚烯烴樹(shù)脂和丙烯酸樹(shù)脂。紫外線可固化樹(shù)脂、熱固樹(shù)脂、以及干光敏聚合物的材料的例子包括丙烯酸材料、環(huán)氧材料、聚氨基甲酸酯材料、苯酚材料、以及各種變性材料。然而,優(yōu)選的是,使用在上述波長(zhǎng)區(qū)域內(nèi)顯示出較少吸收的材料,尤其是使用光致聚合引發(fā)劑的吸收波長(zhǎng)區(qū)域不同于用于記錄、再現(xiàn)或擦除的光的波長(zhǎng)區(qū)域的材料。
基礎(chǔ)構(gòu)件34可以具有任意厚度,并且其厚度優(yōu)選地為約1μm到300μm??梢愿鶕?jù)例如要被構(gòu)造的記錄層的數(shù)目、以及球面像差補(bǔ)償機(jī)構(gòu)的動(dòng)態(tài)范圍來(lái)選擇最佳厚度。另外,可以使得要被堆疊的片狀基礎(chǔ)構(gòu)件的每個(gè)薄片和粘合層的厚度針對(duì)每層而不同。優(yōu)化每個(gè)薄片的厚度使得有可能以高準(zhǔn)確度形成任意層間距離。
從生產(chǎn)率的角度,要被使用的基礎(chǔ)構(gòu)件34優(yōu)選地纏繞成輥形。然而,基礎(chǔ)構(gòu)件不一定纏繞成輥形,并且可以具有切割成對(duì)于每個(gè)薄片所需的尺寸的片狀。此時(shí),形狀是任意的,并且可以是四邊形或者圓形??梢蕴峁┗虿惶峁┳鳛橹行目椎拈_(kāi)口。然而,優(yōu)選的是,基礎(chǔ)構(gòu)件被形成為獲得可以在定位或傳送期間適當(dāng)?shù)貖A持(hold)薄片的區(qū)域的形狀。
下面將以熱塑樹(shù)脂用于基礎(chǔ)構(gòu)件34的情況為例進(jìn)行描述?;A(chǔ)構(gòu)件34由諸如傳送輥16的傳送裝置傳送到定形裝置17。在圖3中,使用輥?zhàn)鳛閭魉脱b置。然而,只要滿足傳送的所需準(zhǔn)確性,傳送裝置就可以是帶式傳送器系統(tǒng)、工業(yè)機(jī)器人等,并且不受到特別限制。在所傳送的基礎(chǔ)構(gòu)件34上,由附于定形裝置17的金屬模18上的壓模14轉(zhuǎn)印引導(dǎo)凹槽等。隨后,將在其上轉(zhuǎn)印了引導(dǎo)凹槽的基礎(chǔ)構(gòu)件34傳送到?jīng)_壓裝置(punching device)19,并且由用于形成外部形狀的金屬模20沖壓成圓形形狀。通過(guò)上述步驟,完成在其上轉(zhuǎn)印了引導(dǎo)凹槽的第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33。
定形裝置17可以為用于通過(guò)加熱或加壓中的任一個(gè)或兩者轉(zhuǎn)印壓模形狀的壓印型。根據(jù)需要,可以在轉(zhuǎn)印步驟之后執(zhí)行冷卻,由此可以從壓模剝離薄片基礎(chǔ)構(gòu)件。諸如溫度、壓力、移動(dòng)距離和冷卻時(shí)間的定形條件不受到特別限制,并且可以根據(jù)引導(dǎo)凹槽、轉(zhuǎn)印材料、薄片厚度等來(lái)適當(dāng)?shù)剡x擇最優(yōu)制造條件。
接下來(lái)將參考圖4描述將記錄層施加到第一和第二片狀基礎(chǔ)構(gòu)件中的每一個(gè)上的步驟。這對(duì)應(yīng)于步驟2或5(將以步驟2為例進(jìn)行描述,但是對(duì)于步驟5也同樣適用)。圖4是示出通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂敷來(lái)施加記錄層的方法的示意圖。隨后,將在其上轉(zhuǎn)印了引導(dǎo)凹槽等的第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33傳送到記錄層涂敷裝置30。在記錄層涂敷裝置30中,通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂敷將用作第一記錄層4的有機(jī)材料43施加到引導(dǎo)凹槽形成表面。作為有機(jī)材料43,可以使用基于有機(jī)染料的材料,如基于青色素的材料、基于酞花青的材料、或者基于偶氮基的材料??梢匀我獾卦O(shè)置第一記錄層4的厚度。然而,由于光從光入射平面開(kāi)始在記錄和反射層的每一個(gè)中將減弱,因此優(yōu)選的是,更接近于光入射平面的層在所使用的光的波長(zhǎng)處具有更高的透射率。也就是,優(yōu)選的是,使第一記錄層4的透射率高于第二記錄層6的透射率。另外,同時(shí),優(yōu)選的是,調(diào)節(jié)記錄和反射層中的每一個(gè)的組成和厚度,以便在記錄、再現(xiàn)和擦除期間不引起任何問(wèn)題。通過(guò)優(yōu)化片狀基礎(chǔ)構(gòu)件和支持襯底中的每一個(gè)的組成、厚度、膜形成條件等,可以形成具有任意透射率和任意反射率的記錄層。在本發(fā)明中,只要使用適于所需光記錄介質(zhì)的記錄層材料,組成、厚度和膜形成條件就不受到特別限制。
第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33附于薄片固定夾具(sheet fixing jig)21上,然后通過(guò)例如吸附固定而附于旋涂機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)部分23上。將有機(jī)材料43從有機(jī)材料供應(yīng)噴嘴25滴到第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33的有效部分22上。能夠根據(jù)需要收集有機(jī)材料43的過(guò)量部分的有機(jī)材料貯存器26布置在第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33的有效部分22之外。有機(jī)材料貯存器26可以通過(guò)設(shè)計(jì)薄片固定夾具21的形狀而容易地形成。
可以在包括與光入射平面相距較遠(yuǎn)的記錄層的第二薄片5上形成反射層12。這對(duì)應(yīng)于圖2的步驟6。作為用于反射層的材料,使用鋁、鋁合金、硅、SiN、銀、銀合金等。
隨后,將描述堆疊具有在信號(hào)圖案上形成的記錄層的各個(gè)薄片的步驟。圖5是示出堆疊薄片的步驟的示意圖。
通過(guò)其間的粘合劑11相互重疊各個(gè)薄片3和5,在這些薄片3和5中形成了與要被產(chǎn)生的記錄層的數(shù)目相對(duì)應(yīng)的記錄層,并且它們附于薄片固定夾具21。在相互重疊這些薄片之前,可以如圖4所示通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂敷器施加粘合劑,或者可以將其滴到薄片的有效部分22上。必要的是,在重疊各個(gè)薄片時(shí),在要被堆疊的薄片之間不留空氣。另外,可以將粘合劑施加到薄片的兩個(gè)表面,或者可以將其施加到薄片的僅僅一個(gè)表面。還可以使用夾在保護(hù)片之間的片狀粘合層??蛇x地,通過(guò)使用具有被施加到其相對(duì)于轉(zhuǎn)印層的表面的粘著劑或粘合劑的片狀基礎(chǔ)構(gòu)件,可以省略施加粘合劑的步驟。可用粘合劑的例子包括陽(yáng)離子粘合劑、熱可固化粘合劑、兩部分粘合劑、紫外線粘合劑、熱熔、壓敏粘合劑等。然而,只要滿足光記錄介質(zhì)所需的規(guī)格如光透射率和反射率,粘合劑就不受到特別限制。對(duì)于第二薄片5和支持襯底7的重疊,前面描述也成立。當(dāng)堆疊各個(gè)薄片和支持襯底時(shí),可以通過(guò)粘合劑臨時(shí)固定各層,或者可以通過(guò)真空吸附或者通過(guò)靜電力而不使用粘合劑臨時(shí)固定各層。
圖6是示出用于形成光記錄介質(zhì)的形狀的處理步驟的示意圖。首先,通過(guò)形狀形成裝置27,將多個(gè)薄片的層疊品一起形成為光記錄介質(zhì)1的形狀。當(dāng)粘合劑用于臨時(shí)堆疊各層時(shí),然后固化粘合劑??梢栽谛螤钚纬商幚碇皥?zhí)行固化粘合劑的步驟。在重疊各個(gè)薄片的步驟中,為了防止空氣或雜質(zhì)的污染,理想地在真空中重疊各個(gè)薄片。此外,也是優(yōu)選的是,多個(gè)薄片的層疊品在真空中或者在空氣中從上和下夾在平板之間,然后水平加壓,由此使各層之間的距離變得均勻,并且固化粘合層。此外,更安全和優(yōu)選的是,當(dāng)處于在真空中或者在空氣中對(duì)多個(gè)薄片從上和下水平加壓的狀態(tài)時(shí)執(zhí)行形狀形成??梢酝ㄟ^(guò)沖壓機(jī)或者任何其它方法如激光處理或機(jī)械切割執(zhí)行形狀形成,并且用于形狀形成的方法不受到特別限制。
當(dāng)執(zhí)行片狀基礎(chǔ)構(gòu)件的重疊和形狀形成時(shí),可以插入具有記錄層或反射層的支持襯底,或者可以插入沒(méi)有記錄層或反射層的支持襯底。作為支持襯底的材料,主要使用熱塑樹(shù)脂如聚碳酸酯樹(shù)脂、聚烯烴樹(shù)脂或丙烯酸樹(shù)脂,但是對(duì)此沒(méi)有具體限制。支持襯底可以在被插入之前預(yù)先重疊在薄片基礎(chǔ)構(gòu)件上,或者可以在將薄片層疊品形成為光記錄介質(zhì)形狀之后重疊。
通過(guò)諸如機(jī)械臂的操縱裝置(未示出)從形狀形成裝置27取出被處理成光記錄介質(zhì)形狀的記錄介質(zhì)。由形狀形成裝置27執(zhí)行的形狀形成步驟需要具有各個(gè)記錄層的中心位置對(duì)齊的步驟(以下被稱作“中心化”)。在垂直于薄片傳送方向的方向和薄片傳送方向上的對(duì)齊通過(guò)薄片固定夾具21由內(nèi)置于引導(dǎo)部分28中的、用于對(duì)齊的驅(qū)動(dòng)裝置精確地執(zhí)行。
在本實(shí)施例中,通過(guò)提供一定程度的粘合的堆疊并且通過(guò)向引導(dǎo)部分28提供粗略的位置調(diào)整機(jī)構(gòu)來(lái)執(zhí)行中心化,但是對(duì)齊方法不受到特別限制。
通過(guò)在每個(gè)薄片的信息記錄部分之外提供對(duì)齊標(biāo)記(未示出)并且由在沖壓部分的一側(cè)提供的傳感器29檢測(cè)對(duì)齊標(biāo)記,可以獲得用于中心化的位置信息。在壓模14的有效區(qū)域之外提供對(duì)齊標(biāo)記,并且可以由形狀形成裝置17與信號(hào)圖案形式的轉(zhuǎn)印同時(shí)地轉(zhuǎn)印到片狀基礎(chǔ)構(gòu)件上。然而,應(yīng)當(dāng)注意,膜形成不應(yīng)產(chǎn)生不能檢測(cè)標(biāo)記的狀態(tài)。因此,優(yōu)選的是,執(zhí)行膜形成的區(qū)域大于有效區(qū)域,但是不到達(dá)光記錄介質(zhì)形狀的外周線,另外在該區(qū)域之外形成對(duì)齊標(biāo)記。根據(jù)讀取系統(tǒng),可以通過(guò)膜形成來(lái)提高反射率,以便可以提高標(biāo)記檢測(cè)的準(zhǔn)確度。因此,可以在任意區(qū)域內(nèi)提供對(duì)齊標(biāo)記。
(示例)以下將參考圖1到6描述本發(fā)明的示例。
首先,為了將微細(xì)凸凹圖案轉(zhuǎn)印到基礎(chǔ)構(gòu)件34上,制備由鎳(Ni)制成的壓模14。壓模14可以通過(guò)廣泛使用的傳統(tǒng)方法來(lái)容易地制造。在根據(jù)本發(fā)明的制造光記錄介質(zhì)的方法中,有可能使用可以重復(fù)使用很多次的、由鎳制成的壓模14,以便無(wú)需使用在每次定形使用之后必須被丟棄的、由樹(shù)脂制成的透明壓模。
接下來(lái),制備片狀基礎(chǔ)構(gòu)件34,其由聚碳酸酯樹(shù)脂制成并且可以在其一個(gè)表面上轉(zhuǎn)印凸凹圖案。基礎(chǔ)構(gòu)件34具有25μm的厚度,并且在基礎(chǔ)構(gòu)件34的一個(gè)表面上形成具有100μm厚度的保護(hù)片,以向基礎(chǔ)構(gòu)件提供使得能夠容易地夾持和固定基礎(chǔ)構(gòu)件的厚度?;A(chǔ)構(gòu)件34在被供應(yīng)之前纏繞成輥形。
基礎(chǔ)構(gòu)件34由傳送輥16傳送到壓印型形狀形成裝置17,其中傳送輥16也用作引導(dǎo)機(jī)構(gòu)(guide mechanism),并且所傳送的基礎(chǔ)構(gòu)件34由附有壓模14的金屬模18加熱/加壓,由此轉(zhuǎn)印微細(xì)凸凹圖案形狀。此時(shí),將在后續(xù)堆疊步驟中使用的三個(gè)對(duì)齊標(biāo)記(未示出)轉(zhuǎn)印到最終形成的襯底的外周線之外的區(qū)域上。
接下來(lái),冷卻金屬模18,使得基礎(chǔ)構(gòu)件34的溫度變得低于其玻變點(diǎn)和熱變形溫度,然后打開(kāi)金屬模,并且相互剝離基礎(chǔ)構(gòu)件34和壓模14。聚碳酸酯樹(shù)脂的玻變點(diǎn)和熱變形溫度分別是140℃和約120℃,并且在打開(kāi)金屬模時(shí)基礎(chǔ)構(gòu)件的溫度是約30℃到40℃。
接下來(lái),將在其上轉(zhuǎn)印了微細(xì)凸凹圖案形狀的基礎(chǔ)構(gòu)件34傳送到?jīng)_壓裝置19。由附于用于形成外部形狀的沖壓裝置19的金屬模20將基礎(chǔ)構(gòu)件34沖壓成圓形形狀。此時(shí),處理基礎(chǔ)構(gòu)件34,以使其具有直徑為140mm的圓形形狀,以便在有效直徑區(qū)域之外留出在后續(xù)步驟中附于薄片固定夾具的余量。這樣,完成了在其上轉(zhuǎn)印了引導(dǎo)凹槽的第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33。類似地制造第二片狀基礎(chǔ)構(gòu)件53。
接下來(lái),將第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33附于薄片固定夾具21,并且在旋轉(zhuǎn)涂敷裝置中以25nm的厚度將有機(jī)材料43施加到第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33的微細(xì)凸凹圖案上,由此形成第一記錄層4。另外,類似地將第二片狀基礎(chǔ)構(gòu)件53附于薄片固定夾具21,并且在旋轉(zhuǎn)涂敷裝置中以25nm的厚度將有機(jī)材料施加到第二片狀基礎(chǔ)構(gòu)件53的微細(xì)凸凹圖案上,以形成第二記錄層6。此后,由膜形成裝置形成由銀合金制成的反射層12。附帶地,在最終形成的具有多層構(gòu)造的光記錄介質(zhì)中,第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33上的第一記錄層4的反射率小于第二片狀基礎(chǔ)構(gòu)件53上的第二記錄層6的反射率。不是通過(guò)改變施加條件以改變厚度,而是通過(guò)添加反射層12來(lái)優(yōu)化反射率。
接下來(lái),將用于層疊的粘合劑11、13分別施加到第一薄片3和第二薄片5。對(duì)于每個(gè)粘合劑11、13使用陽(yáng)離子粘合劑,并且將每個(gè)粘合劑施加到薄片的凸凹圖案形成側(cè)。在將每個(gè)粘合劑11、13的適當(dāng)量滴到薄片上之后,如圖5所示通過(guò)薄片固定夾具21將這些薄片重疊并且壓在一起,并且通過(guò)壓力來(lái)控制膜厚度。膜厚度為3μm。
接下來(lái),將兩個(gè)薄片3、5與薄片固定夾具21一起安置在形狀形成裝置27上,并且這些薄片在一定程度上相互接觸的狀態(tài)中堆疊這些薄片,同時(shí)薄片固定夾具21由引導(dǎo)部分28夾持。此后,將由聚碳酸酯制成并且具有1.1mm厚度、120mm外徑以及15mm內(nèi)徑的支持襯底7插入到安置在形狀形成裝置27上的薄片的最下部分中。此時(shí),以在引導(dǎo)部分28中堆疊的薄片之間既沒(méi)有殘留空氣也沒(méi)有殘留雜質(zhì)的方式在形狀形成裝置27的內(nèi)部建立真空狀態(tài)。支持襯底7的形狀不局限于盤形狀,并且可以是片狀。
在由形狀形成裝置27執(zhí)行的沖壓步驟中,在中心化的時(shí)候,由在沖壓部分的一側(cè)提供的傳感器29檢測(cè)對(duì)齊標(biāo)記(未示出)。在本示例中,通過(guò)三個(gè)對(duì)齊標(biāo)記對(duì)齊圖案的中心位置。這些薄片由內(nèi)置于引導(dǎo)部分28中的、用于位置調(diào)整的驅(qū)動(dòng)裝置精確對(duì)齊。
在堆疊之后,由形狀形成裝置27對(duì)第一薄片3和第二薄片5一起沖壓,以使其具有與支持襯底7相同的內(nèi)徑和外徑,并且將其形成為光記錄介質(zhì)的形狀,然后固化粘合劑。此后,通過(guò)諸如機(jī)械臂(未示出)的操縱裝置從形狀形成裝置27取出光記錄介質(zhì)。
在取出了所產(chǎn)生的具有兩層構(gòu)造的光記錄介質(zhì)之后,通過(guò)普通的旋轉(zhuǎn)涂敷,將紫外線可固化樹(shù)脂(INC-118(商標(biāo)名);由NIPPON KAYAKUCO.,LTD.制造)施加到堆表面上。此后,由紫外線固化裝置完全固化所施加的樹(shù)脂。結(jié)果,形成具有50μm厚度以及完全均勻表面的保護(hù)層2,由此完成具有兩層構(gòu)造的光記錄介質(zhì)1。
代替施加樹(shù)脂作為保護(hù)層2,在重疊各個(gè)薄片時(shí)通過(guò)使用粘合劑在第一薄片上重疊沒(méi)有信號(hào)圖案的片狀基礎(chǔ)構(gòu)件,并且將該基礎(chǔ)構(gòu)件和各個(gè)薄片一起處理成盤形狀??蛇x地,在其上形成第一記錄層4的第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件33的厚度可以設(shè)為75μm,并且可以一起制造第一片狀基礎(chǔ)構(gòu)件和保護(hù)涂敷層。由于該技術(shù)消除了通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂敷等形成保護(hù)層的需要,并且由于只需堆疊也用作保護(hù)層2的基礎(chǔ)構(gòu)件,因此可以提高生產(chǎn)率。
允許光束從保護(hù)層2側(cè)入射在所完成的具有兩層構(gòu)造的光記錄介質(zhì)上,以執(zhí)行信息記錄/再現(xiàn)??梢院翢o(wú)故障地在每層中執(zhí)行記錄/再現(xiàn),并且可以獲得±30%或更多的記錄功率容限。此外,還可以在5℃的低溫環(huán)境中和在45℃的高溫環(huán)境中執(zhí)行記錄/再現(xiàn)。另一方面,根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的、通過(guò)使用相同有機(jī)材料而制造的具有兩層構(gòu)造的光記錄介質(zhì)能夠獲得僅僅±10%的記錄功率容限,并且不能在45℃的高溫環(huán)境中執(zhí)行記錄/再現(xiàn)。
如上所述,根據(jù)本發(fā)明的光記錄介質(zhì)及其制造方法,可以采用從保護(hù)層側(cè)入射光束的系統(tǒng),并且可以容易地減小透光襯底的厚度。因此,可以增大拾取器的物鏡的數(shù)值孔徑(NA),從而導(dǎo)致記錄密度的提高。
另外,由于使用記錄層的凸部分作為記錄軌道,因此可以有效地利用記錄層中具有大厚度的部分,并且可以減少要被施加的記錄層的數(shù)量。
此外,由于凸部分被形成為朝向保護(hù)層凸起,因此入射在凸部分上的光束的熱影響幾乎不作用于與凸部分相鄰的凹部分以及與凹部分相鄰的凸部分上,并且?guī)缀醪话l(fā)生諸如串寫的問(wèn)題。
此外,本發(fā)明的制造光記錄介質(zhì)的方法允許這樣的光記錄介質(zhì)的高效制造。結(jié)果,根據(jù)本發(fā)明,可以提供一種在高軌道密度和優(yōu)良批量生產(chǎn)率之間達(dá)成平衡的光記錄介質(zhì)。
另外,記錄功率容限的擴(kuò)大可以在高軌道密度和優(yōu)良批量生產(chǎn)率之間達(dá)成平衡。
權(quán)利要求
1.一種光記錄介質(zhì),包括支持襯底;保護(hù)層,在光束入射側(cè)提供,具有小于支持襯底的厚度;以及記錄層,在支持襯底和保護(hù)層之間形成,其中記錄層包括凹部分作為記錄軌道之間的間隙,并且包括凸部分作為記錄軌道,該凸部分具有大于凹部分的厚度,并且被形成為朝向保護(hù)層凸起。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì),其中形成多個(gè)記錄層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì),其中記錄層包括有機(jī)材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光記錄介質(zhì),其中保護(hù)層具有大于0nm但不大于0.3mm的厚度。
5.一種制造光記錄介質(zhì)的方法,包括以下步驟在片狀基礎(chǔ)構(gòu)件上形成凸凹圖案;在片狀基礎(chǔ)構(gòu)件的凸凹圖案上形成記錄層;以及接合片狀基礎(chǔ)構(gòu)件和支持襯底,使得在其上形成有記錄層的片狀基礎(chǔ)構(gòu)件的表面和支持襯底的支持表面彼此面對(duì)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制造光記錄介質(zhì)的方法,其中,在接合步驟中,制備多個(gè)在其上形成有凸凹圖案和記錄層的片狀基礎(chǔ)構(gòu)件,并且將該多個(gè)片狀基礎(chǔ)構(gòu)件相互對(duì)齊并相互堆疊和接合。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制造光記錄介質(zhì)的方法,其中在記錄層形成步驟中,通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂敷來(lái)形成記錄層。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制造光記錄介質(zhì)的方法,在接合步驟之后還包括在片狀基礎(chǔ)構(gòu)件上形成保護(hù)層的步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供一種從保護(hù)層側(cè)入射光束的類型的光記錄介質(zhì),其在高軌道密度和優(yōu)良批量生產(chǎn)率之間達(dá)成平衡并且包括支持襯底;保護(hù)層,在光束入射側(cè)提供,具有小于支持襯底的厚度;以及記錄層,在支持襯底和保護(hù)層之間形成,其中記錄層包括凹部分作為記錄軌道之間的間隙,并且包括凸部分作為記錄軌道,該凸部分具有大于凹部分的厚度,并且被形成為朝向保護(hù)層凸起。
文檔編號(hào)G11B7/26GK1881438SQ200610092649
公開(kāi)日2006年12月20日 申請(qǐng)日期2006年6月13日 優(yōu)先權(quán)日2005年6月13日
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