專利名稱：：物鏡驅(qū)動裝置、光學(xué)拾取器及光盤裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種物鏡驅(qū)動裝置、采用該物鏡驅(qū)動裝置的光學(xué)拾取器以及光盤裝置。上述物鏡驅(qū)動裝置，用于對光盤等信息記錄介質(zhì)進(jìn)行記錄和/或再現(xiàn)的光學(xué)拾取器，上述物鏡驅(qū)動裝置的可動部能相對于固定部向聚焦方向、循跡方向及傾斜方向這3個方向動作。
背景技術(shù)：
：對光盤等信息記錄介質(zhì)進(jìn)行信息信號的記錄·再現(xiàn)的光盤裝置中設(shè)有光學(xué)拾取器，該光學(xué)拾取器沿光盤的半徑方向移動，對該光盤照射激光。在光學(xué)拾取器中設(shè)有物鏡驅(qū)動裝置，由該物鏡驅(qū)動裝置進(jìn)行聚焦調(diào)節(jié)、循跡調(diào)節(jié)，對通過物鏡照射到光盤上的激光進(jìn)行光點調(diào)節(jié)，使通過物鏡照射到光盤上的激光光點聚光到光盤的記錄軌道上。該聚焦調(diào)節(jié)是使保持在上述物鏡驅(qū)動裝置的可動部上的物鏡，沿離開或接近光盤的信號記錄面的方向、即聚焦方向動作，來進(jìn)行聚焦調(diào)節(jié)的。該循跡調(diào)節(jié)是使物鏡沿光盤的大致半徑方向、即循跡方向動作，來進(jìn)行循跡調(diào)節(jié)的。這樣，該光學(xué)拾取器中，通常是用物鏡驅(qū)動裝置進(jìn)行聚焦調(diào)節(jié)和循跡調(diào)節(jié)，近年來，為了提高激光光點對記錄軌道的追隨性等，提出了所謂3軸調(diào)節(jié)器等的物鏡驅(qū)動裝置(參照日本特開2001-93177號公報)。該3軸調(diào)節(jié)器，除了進(jìn)行聚焦調(diào)節(jié)和循跡調(diào)節(jié)這樣的2軸調(diào)節(jié)外，還能使可動部相對于光盤的信號記錄面傾斜，也能在旋轉(zhuǎn)中的光盤產(chǎn)生面振動等時進(jìn)行調(diào)節(jié)。該3軸調(diào)節(jié)器等的物鏡驅(qū)動裝置中，可動部能相對于固定部在聚焦方向、循跡方向以及傾斜方向動作。這里所述的傾斜方向，是指繞著與光盤的半徑方向正交、且與成為光盤切線方向的切線方向平行的軸轉(zhuǎn)動的方向。例如，公知有圖15所示的物鏡驅(qū)動裝置，該物鏡驅(qū)動裝置是這樣構(gòu)成的，保持物鏡的可動部通過支承彈簧可自由移動地支承在固定塊上，用于使可動塊相對于固定塊傾斜的傾斜線圈設(shè)在可動部上。如圖15所示，物鏡驅(qū)動裝置101具有插入到后述的聚焦線圈及傾斜線圈中的軛鐵102、保持物鏡103的可動部104、與可動部104相離開配置著的固定部105、設(shè)在固定部105上并與可動部104相對配置的一對磁體106、107、和彈性支承構(gòu)件108，該彈性支承構(gòu)件108支承可動部104并能使可動部104相對于固定部105向聚焦方向FCS及循跡方向TRK移動，并且能使可動部104向傾斜方向TIL傾斜。如圖15和圖16所示，在可動部105上設(shè)有在聚焦方向FCS有卷繞軸的聚焦線圈111、在切線方向TAN有卷繞軸的循跡線圈112、113、114、115、在聚焦方向FCS有卷繞軸的傾斜線圈116、117。如圖15和圖16所示，物鏡驅(qū)動裝置101中，當(dāng)向聚焦線圈111、循跡線圈112～115、以及傾斜線圈116、117供給驅(qū)動電流時，根據(jù)驅(qū)動電流的流向、和由一對磁體106、107及軛鐵102產(chǎn)生的磁通方向的關(guān)系，可動部104相對于固定部105在聚焦方向FCS、循跡方向TRK、及傾斜方向TIL移動。由此，物鏡驅(qū)動裝置101，除了能進(jìn)行聚焦調(diào)節(jié)和循跡調(diào)節(jié)外，還能在光盤上產(chǎn)生面振動等時進(jìn)行調(diào)節(jié)，可提高激光光點對記錄軌道的追隨性。由于該物鏡驅(qū)動裝置101是這樣的磁回路構(gòu)造，具有在聚焦方向FCS具有卷繞軸的音圈型聚焦線圈111、和插入該聚焦線圈111中的軛鐵102。所以，在聚焦響應(yīng)特性中，電感成分引起的相位延遲大，在高倍速記錄再現(xiàn)裝置中，在伺服設(shè)計上可能會產(chǎn)生問題。另外，如圖17所示，該物鏡驅(qū)動裝置101中，由于聚焦的驅(qū)動力FS3作用于循跡方向TRK的中央部，則該聚焦推力集中在中央，從而容易引起共振模式、即可動部的一次彎曲模式被激勵，使共振峰值高度增大。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種物鏡驅(qū)動裝置、光學(xué)拾取器及光盤裝置，本發(fā)明的物鏡驅(qū)動裝置，在聚焦響應(yīng)特性中能減小相位延遲，聚焦驅(qū)動力不會激勵可動部的一次彎曲模式，能得到良好的高頻共振特性。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的物鏡驅(qū)動裝置，包括可動部，其具有保持物鏡的透鏡座；固定部，其在與物鏡的聚焦方向及循跡方向正交的切線方向，與上述可動部隔有間隔地配置；彈性支承構(gòu)件，分別連接可動部和固定部，支承可動部并使可動部能相對于固定部在聚焦方向及循跡方向上移動，并且能使可動部朝相對于平行于上述切線方向的面傾斜的傾斜方向傾斜；第1磁體，其在切線方向上與透鏡座相對地配置，具有第1至第4分割區(qū)域，該第1至第4分割區(qū)域是通過將第1磁體在聚焦方向及循跡方向分割、并使被分割而成的各部分分別磁化成其磁化方向朝向切線方向而成的；第2磁體，其在切線方向上與第1磁體相對地配置，與第1磁體反向地被磁化；并且，透鏡座上設(shè)有循跡線圈、聚焦線圈、第1傾斜線圈和第2傾斜線圈；上述循跡線圈，設(shè)在分別與第1磁體的在循跡方向上相鄰的第1及第2分割區(qū)域、第1磁體的在循跡方向上相鄰的第3及第4分割區(qū)域、第2磁體的與第1及第2分割區(qū)域相對的區(qū)域、第2磁體的與第3及第4分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)、使該循跡線圈在循跡方向產(chǎn)生驅(qū)動力的4個部位；上述聚焦線圈，設(shè)在分別與第1磁體的在聚焦方向上相鄰的第1及第3分割區(qū)域、第1磁體的在聚焦方向上相鄰的第2及第4分割區(qū)域、第2磁體的與第1及第3分割區(qū)域相對的區(qū)域、第2磁體的與第2及第4分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)、使該聚焦線圈在聚焦方向產(chǎn)生驅(qū)動力的4個部位；上述第1傾斜線圈，將聚焦方向作為卷繞軸方向卷繞而成，與第1磁體的在循跡方向上相鄰的第1及第2分割區(qū)域、和第2磁體的與第1及第2分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)、使該第1傾斜線圈在傾斜方向產(chǎn)生驅(qū)動力；上述第2傾斜線圈，其卷繞方向與第1傾斜線圈的卷繞方向相反，與第1磁體的在循跡方向上相鄰的第3及第4分割區(qū)域、和第2磁體的與第3及第4分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)，使該第2傾斜線圈在傾斜方向產(chǎn)生驅(qū)動力。另外，為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的光學(xué)拾取器具有沿安裝在盤臺上的光盤的半徑方向移動的移動基座、和配置在該移動基座上的物鏡驅(qū)動裝置，該物鏡驅(qū)動裝置是采用上述的物鏡驅(qū)動裝置。另外，為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的光盤裝置具有安裝光盤的盤臺、和通過物鏡對安裝在該盤臺上的光盤照射激光的光學(xué)拾取器，光學(xué)拾取器具有沿安裝在盤臺上的光盤的半徑方向移動的移動基座、和配置在該移動基座上的物鏡驅(qū)動裝置，該物鏡驅(qū)動裝置是采用上述的物鏡驅(qū)動裝置。本發(fā)明的物鏡驅(qū)動裝置、光學(xué)拾取器及光盤裝置，在聚焦響應(yīng)特性上，能減小相位延遲，在高倍速記錄再現(xiàn)裝置中，可容易進(jìn)行伺服設(shè)計。另外，本發(fā)明的物鏡驅(qū)動裝置、光學(xué)拾取器和光盤裝置，可防止由聚焦驅(qū)動力引起可動部的一次彎曲模式的激勵，在高頻中能得到良好的共振特性。圖1是使用了本發(fā)明的記錄再現(xiàn)裝置的概略立體圖。圖2是本發(fā)明物鏡驅(qū)動裝置的立體圖。圖3是表示本發(fā)明物鏡驅(qū)動裝置的軛鐵基座、固定部及可動部分離了的狀態(tài)的立體圖。圖4是表示本發(fā)明物鏡驅(qū)動裝置背面?zhèn)鹊牧Ⅲw圖。圖5是表示本發(fā)明物鏡驅(qū)動裝置的磁體及線圈的位置關(guān)系的背面?zhèn)雀怕粤Ⅲw圖。圖6是表示本發(fā)明物鏡驅(qū)動裝置的磁體及印刷線圈的配置的概略分解立體圖。圖7是表示本發(fā)明物鏡驅(qū)動裝置的磁體的磁化方向的圖；(a)是第1磁體的面對透鏡座一側(cè)的平面圖；(b)是第2磁體的面對透鏡座一側(cè)的平面圖。圖8是表示本發(fā)明物鏡驅(qū)動裝置的磁體及線圈的配置的概略分解立體圖。圖9是表示用于說明本發(fā)明物鏡驅(qū)動裝置的可動部的一次彎曲共振模式中的共振和聚焦推力的關(guān)系的概略側(cè)視圖。圖10是用于說明形成本發(fā)明物鏡驅(qū)動裝置的傾斜線圈的順序的圖；(a)是左側(cè)視圖，表示垂直于循跡方向的一面，并且表示在卷繞開始用的突起部上開始卷繞線圈的狀態(tài)；(b)是表示第1傾斜線圈的卷繞方向的平面圖；(c)是右側(cè)視圖，表示垂直于循跡方向的另一面，并且表示第1傾斜線圈卷繞完成的狀態(tài)；(d)是左側(cè)視圖，表示使卷繞方向反轉(zhuǎn)，開始卷繞第2傾斜線圈的狀態(tài)；(e)是表示第2傾斜線圈的卷繞方向的平面圖；(f)是表示第2傾斜線圈卷繞完成狀態(tài)的右側(cè)視圖。圖11是表示本發(fā)明的物鏡驅(qū)動裝置和比較例的物鏡驅(qū)動裝置中的、相位及增益隨頻率變化而變化的圖；(a)是表示增益隨頻率變化而變化的圖；(b)是表示相位隨頻率變化而變化的圖。圖12是表示本發(fā)明的物鏡驅(qū)動裝置和比較例的物鏡驅(qū)動裝置中的、增益隨頻率變化而變化的圖。圖13是表示構(gòu)成本發(fā)明物鏡驅(qū)動裝置的第1及第2磁體的另一例；(a)是分解立體圖；(b)是表示將各磁體在循跡方向接合的狀態(tài)的立體圖。圖14是表示構(gòu)成本發(fā)明物鏡驅(qū)動裝置的第1及第2磁體的又一例；(a)是分解立體圖；(b)是表示將各磁體在聚焦方向接合的狀態(tài)的立體圖。圖15是已往的物鏡驅(qū)動裝置的立體圖。圖16是表示已往物鏡驅(qū)動裝置中的聚焦線圈、循跡線圈及傾斜線圈的位置關(guān)系的概略立體圖。圖17是表示用于說明已往的物鏡驅(qū)動裝置的可動部的一次彎曲共振模式中的共振和聚焦推力的關(guān)系的概略側(cè)視圖。具體實施例方式下面，參照使用本發(fā)明的記錄再現(xiàn)裝置。該記錄再現(xiàn)裝置1，是能對光盤2進(jìn)行信息信號的記錄和/或再現(xiàn)的記錄再現(xiàn)裝置。用該記錄再現(xiàn)裝置1進(jìn)行記錄和/或再現(xiàn)的光盤2，例如可使用CD(CompactDisc)、DVD(DigitalVersatileDisc)、可追加信息的CD-R(Recordable)及DVD-R(Recordable)、可改寫信息的CD-RW(Rewritable)、DVD-RW(Rewritable)、DVD+RW(Rewritable)等光盤，另外，還有采用發(fā)光波長短的、波長約為405nm左右(藍(lán)紫色)的半導(dǎo)體激光的可進(jìn)行高密度記錄的光盤、光磁盤等。具體地說，如圖1所示，該記錄再現(xiàn)裝置1，在外框3內(nèi)配置有所需的各構(gòu)件及各機(jī)構(gòu)，在外框3上形成有未圖示的盤插入口。在外框3內(nèi)配置有未圖示的底座，在安裝于該底座上的主軸電動機(jī)的電動機(jī)軸上固定有盤臺4。在底座上安裝有平行的導(dǎo)引軸5，并支承著由未圖示的進(jìn)給電動機(jī)驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的絲杠6。如圖1所示，光學(xué)拾取器7具有移動基座8、設(shè)在該移動基座8上的所需要的光學(xué)部件、和配置在移動基座8上的物鏡驅(qū)動裝置9，設(shè)在移動基座8兩端部的軸承部8a、8b分別可自由滑動地支承于導(dǎo)引軸5。設(shè)在移動基座8上的未圖示的螺母構(gòu)件與絲杠螺紋6接合，當(dāng)絲杠6由進(jìn)給電動機(jī)驅(qū)動而旋轉(zhuǎn)時，螺母構(gòu)件朝著與絲杠6的旋轉(zhuǎn)方向相應(yīng)的方向被移送，光學(xué)拾取器7沿安裝在盤臺4上的光盤2的半徑方向移動。如圖2、圖3、圖4所示，物鏡驅(qū)動裝置9具有軛鐵基座10、未圖示的固定板、可動部12、固定部11和多個彈性支承構(gòu)件16。未圖示的固定板固定在移動基座8上，在切線方向TAN上與軛鐵基座10相離開地設(shè)置；可動部12具有保持物鏡14的透鏡座15；固定部11在與物鏡14的聚焦方向FCS及循跡方向TRK正交的切線方向TAN上與可動部12隔有間隔地設(shè)置；多個彈性支承構(gòu)件16分別連接可動部12和固定部11，支承著可動部12并使可動部12能相對于固定部11在聚焦方向FCS及循跡方向TRK移動，并且支承可動部12能使可動部12朝著傾斜方向TIL傾斜，該傾斜方向TIL相對于與成為光盤切線方向的切線方向TAN平行的面傾斜。軛鐵基座10由磁性金屬材料形成，例如由SPCC(冷軋鋼板)、硅鋼板等形成，如圖2所示，該軛鐵基座10由固定在移動基座8上的基座部10a、和從該基座部10a垂直立起而成的軛鐵部10b、10c構(gòu)成。軛鐵部10b、10c在前后方向、即在光盤2的切線方向TAN上相離開地設(shè)置。在軛鐵部10b、10c的相對面、即面對透鏡座15的表面上，分別安裝有第1磁體21及第2磁體22。如圖3、圖6、圖7所示，第1磁體21在切線方向TAN上面對透鏡座15地配置，具有第1分割區(qū)域31、第2分割區(qū)域32、第3分割區(qū)域33、第4分割區(qū)域34，該第1分割區(qū)域31、第2分割區(qū)域32、第3分割區(qū)域33、第4分割區(qū)域34是通過將第1磁體21分別在聚焦方向FCS和循跡方向TRK分割，且使被分割而成的各部分分別磁化成各自的磁化方向朝向切線方向TAN而得到的。第1磁體21中，與透鏡座15相面對的、即與后述第1印刷線圈39、第1傾斜線圈51及第2傾斜線圈52相對的面一側(cè)的第1分割區(qū)域31、第2分割區(qū)域32、第3分割區(qū)域33、第4分割區(qū)域34是例如將第1磁體21分別在循跡方向TRK及聚焦方向FCS上分割成兩部分、一共分割成4部分而成的，形成為大致矩形，位于一對角位置的第1分割區(qū)域31及第4分割區(qū)域34形成為S極，位于另一對角位置的第2分割區(qū)域32及第3分割區(qū)域33形成為N極。如上所述，第1磁體21被四極磁化，各分割區(qū)域31～34之間是未磁化區(qū)域21a。第2磁體22在切線方向TAN上與第1磁體21相對地配置，相對于第1磁體21被反向地磁化。即，第2磁體22在切線方向TAN與透鏡座15面對地配置，具有第5分割區(qū)域35、第6分割區(qū)域36、第7分割區(qū)域37、第8分割區(qū)域38，這些分割區(qū)域35、36、37、38是將第2磁體22分別在聚焦方向FCS和循跡方向TRK進(jìn)行分割，并使被分割而成的各部分磁化成各自的磁化方向朝向切線方向TAN而得到的。第2磁體22中，與透鏡座15相對的、即與后述第2印刷線圈40、第1傾斜線圈51及第2傾斜線圈52相對的面一側(cè)的第5分割區(qū)域35、第6分割區(qū)域36、第7分割區(qū)域37、第8分割區(qū)域38是例如將第2磁體22分別在循跡方向TRK及聚焦方向FCS分割成兩部分、一共分割成4部分而成的，形成為大致矩形，位于一對角位置的第5分割區(qū)域35及第8分割區(qū)域38形成為S極，位于另一對角位置的第6分割區(qū)域36及第7分割區(qū)域37形成為N極。如上所述，第2磁體22被四極磁化，各分割區(qū)域35～38之間是未磁化區(qū)域22a。第1磁體21及第2磁體22形成為相同的形狀，它們的磁化方向是反向的。即，如圖7所示，在從透鏡座15一側(cè)看時，第1磁體21中配置于右上的第1分割區(qū)域31和配置于左下的第4分割區(qū)域34是S極，其它的分割區(qū)域32、33是N極。另一方面，從透鏡座15一側(cè)看時，第2磁體22中配置于右上的第6分割區(qū)域36和配置于左下的第7分割區(qū)域37是N極，其它的分割區(qū)域35、38是S極。如上所述，第1磁體21及第2磁體22形成為相同形狀，并被分割成相同的形狀，被磁化成其磁化方向在切線方向TAN上是反向的狀態(tài)。如圖4所示，固定部11固定在固定板的板基座上，在固定部11的背面安裝有中繼基板18。中繼基板18由位于中央部的基部18g和設(shè)在該基部左右兩端部的6個連接部18a～18f構(gòu)成。在該連接部18a～18f上，例如用錫焊連接有各彈性支承構(gòu)件16的一端部17a～17f。一端部17a～17f配置在固定部11的背面的循跡方向TRK的兩端部，每側(cè)3個，共計6個，并在聚焦方向FCS彼此相離開地配置。在安裝于固定部11背面的中繼基板18上，安裝連接與未圖示的電源電路連接著的供電用基板。供電用基板例如是撓性印刷配線基板。多個彈性支承構(gòu)件16通過中繼基板18的各連接部18a～18f與供電用基板的各連接線連接。彈性支承構(gòu)件16被配置成從固定部11沿著切線方向TAN伸出，且設(shè)置在可動部12上。可動部12具有物鏡14、和保持物鏡14的透鏡座15。如圖3、圖5、圖6、圖8所示，在透鏡座15上設(shè)有第1至第4循跡線圈41、42、43、44、第1至第4聚焦線圈45、46、47、48、和第1傾斜線圈51及第2傾斜線圈52。該第1至第4循跡線圈41、42、43、44設(shè)在使之在光盤2的大致半徑方向即循跡方向TRK產(chǎn)生驅(qū)動力的4個部位。該第1至第4聚焦線圈45、46、47、48設(shè)在使之在接近及遠(yuǎn)離光盤2的方向即聚焦方向FCS產(chǎn)生驅(qū)動力的4個部位。該第1傾斜線圈51及第2傾斜線圈52設(shè)在使之在傾斜方向(徑向傾斜方向)TIL產(chǎn)生驅(qū)動力的2個部位，該傾斜方向TIL是以與聚焦方向FCS及循跡方向TRK正交的切線方向TAN為軸時的繞軸轉(zhuǎn)動的方向。如圖3及圖6所示，第1至第4循跡線圈41、42、43、44分別與第1磁體21的在循跡方向TRK上相鄰的第1分割區(qū)域31及第2分割區(qū)域32、第1磁體21的在循跡方向TRK上相鄰的第3分割區(qū)域33及第4分割區(qū)域34、第2磁體22的與第1分割區(qū)域31及第2分割區(qū)域32相對的區(qū)域35、36、第2磁體22的與第3分割區(qū)域33及第4分割區(qū)域34相對的區(qū)域37、38對應(yīng)地，使上述循跡線圈在循跡方向TRK產(chǎn)生驅(qū)動力。即，第1循跡線圈41配置在與第1磁體21的第1分割區(qū)域31及第2分割區(qū)域32相對的位置，借助在切線方向TAN上被反向磁化的第1分割區(qū)域31及第2分割區(qū)域32產(chǎn)生的磁場、和流過第1循跡線圈41本身的電流，使得在循跡方向TRK產(chǎn)生驅(qū)動力。第2循跡線圈42配置在與第1磁體21的第3分割區(qū)域33及第4分割區(qū)域34相對的位置，借助在切線方向TAN上被反向磁化的第3分割區(qū)域33及第4分割區(qū)域34產(chǎn)生的磁場、和流過第2循跡線圈42本身的電流，使得在循跡方向TRK產(chǎn)生驅(qū)動力。第3循跡線圈43配置在與第2磁體22的第5分割區(qū)域35及第6分割區(qū)域36相對的位置，借助在切線方向TAN上被反向磁化的第5分割區(qū)域35及第6分割區(qū)域36產(chǎn)生的磁場、和流過第3循跡線圈43本身的電流，使得在循跡方向TRK產(chǎn)生驅(qū)動力。第4循跡線圈44配置在與第2磁體22的第7分割區(qū)域37及第8分割區(qū)域38相對的位置，借助在切線方向TAN上被反向磁化的第7分割區(qū)域37及第8分割區(qū)域38產(chǎn)生的磁場、和流過第4循跡線圈44本身的電流，使得在循跡方向TRK產(chǎn)生驅(qū)動力。第1至第4聚焦線圈45、46、47、48，分別與第1磁體21的在聚焦方向FCS上相鄰的第1分割區(qū)域31及第3分割區(qū)域33、第1磁體21的在聚焦方向FCS上相鄰的第2分割區(qū)域32及第4分割區(qū)域34、第2磁體22的與第1分割區(qū)域31、第3分割區(qū)域33相對的區(qū)域35、37、第2磁體22的與第2分割區(qū)域32、第4分割區(qū)域34相對的區(qū)域36、38對應(yīng)地，使上述聚焦線圈在聚焦方向FCS產(chǎn)生驅(qū)動力。即，第1聚焦線圈45配置在與第1磁體21的第1分割區(qū)域31及第3分割區(qū)域33相對的位置，借助在切線方向TAN上被反向磁化的第1分割區(qū)域31及第3分割區(qū)域33產(chǎn)生的磁場、和流過第1聚焦線圈45本身的電流，使得在聚焦方向FCS產(chǎn)生驅(qū)動力。第2聚焦線圈46配置在與第1磁體21的第2分割區(qū)域32及第4分割區(qū)域34相對的位置，借助在切線方向TAN上被反向磁化的第2分割區(qū)域32及第4分割區(qū)域34產(chǎn)生的磁場、和流過第2聚焦線圈46本身的電流，使得在聚焦方向FCS產(chǎn)生驅(qū)動力。第3聚焦線圈47，配置在與第2磁體22的第5分割區(qū)域35及第7分割區(qū)域37相對的位置，借助在切線方向TAN上被反向磁化的第5分割區(qū)域35及第7分割區(qū)域37產(chǎn)生的磁場、和流過第3聚焦線圈47本身的電流，使得在聚焦方向FCS產(chǎn)生驅(qū)動力。第4循跡線圈48，配置在與第2磁體22的第6分割區(qū)域36及第8分割區(qū)域38相對的位置，借助在切線方向TAN上被反向磁化的第6分割區(qū)域36及第8分割區(qū)域38產(chǎn)生的磁場、和流過第4聚焦線圈48本身的電流，使得在聚焦方向FCS產(chǎn)生驅(qū)動力。第1至第4循跡線圈41、42、43、44和第1至第4聚焦線圈45、46、47、48，形成在第1印刷線圈39及第2刷線圈40上。即，第1印刷線圈39及第2刷線圈40分別與第1磁體21及第2磁體22的彼此相對的面、即面對透鏡座15的面相對配置。在與第1磁體21相對的第1印刷線圈39上，形成有第1及第2循跡線圈41、42、和第1及第2聚焦線圈45、46。另外，在與第2磁體22相對的第2印刷線圈40上，形成有第3及第4循跡線圈43、44、和第3及第4聚焦線圈47、48。在物鏡驅(qū)動裝置9中，第1至第4聚焦線圈45～48借助第1磁體21及第2磁體22形成的開放磁路，產(chǎn)生聚焦方向FCS的驅(qū)動力，所以，可以消除電感的影響，可以減小相位延遲。即，物鏡驅(qū)動裝置9，不是已往那樣的將軛鐵插入于聚焦線圈中的構(gòu)造，所以，可以防止由于將軛鐵插入于聚焦線圈中而產(chǎn)生的電感影響所導(dǎo)致的相位延遲。另外，在該物鏡驅(qū)動裝置9中，由于第1及第3聚焦線圈45、47和第2及第4聚焦線圈46、48在循跡方向TRK上是相離開地設(shè)置的，所以，可以防止聚焦驅(qū)動力引起可動部的一次彎曲模式的激勵。在此，如圖9所示，在接近共振模式的節(jié)點部分，分開配置聚焦推力FS1、FS2，其共振不被激勵，峰值高度可得到改善。即，物鏡驅(qū)動裝置9可以防止由聚焦驅(qū)動力引起可動部的一次彎曲模式的激勵，可在高頻的頻帶中得到很好的共振特性。另外，該物鏡驅(qū)動裝置9中，第1至第4循跡線圈和第1至第4聚焦線圈都形成為印刷線圈，但并不限定于此，例如，也可以將切線方向TAN作為卷繞軸方向進(jìn)行卷繞來形成上述的各線圈。第1傾斜線圈51及第2傾斜線圈52是在聚焦方向FCS上相離開地配置，通過卷繞成為大致同樣大小的大致方筒狀來形成的。第1傾斜線圈51，將聚焦方向FCS作為卷繞軸方向卷繞而成，與第1磁體21的在循跡方向TRK相鄰的第1分割區(qū)域31及第2分割區(qū)域32、第2磁體22的與第1分割區(qū)域31及第2分割區(qū)域32相對的區(qū)域35、36對應(yīng)地，在傾斜方向TIL產(chǎn)生驅(qū)動力。即，如圖5和圖8所示，第1傾斜線圈51卷繞成截面為大致矩形，其與第1磁體21相對的一邊53配置在與第1磁體21的第1分割區(qū)域31及第2分割區(qū)域32相對的位置，借助在切線方向TAN上被反向磁化的第1分割區(qū)域31及第2分割區(qū)域32產(chǎn)生的磁場、和流過第1傾斜線圈51的一邊53本身的電流，使得在傾斜方向TIL產(chǎn)生驅(qū)動力。具體地說，例如，在第1傾斜線圈51的一邊53的、與第1分割區(qū)域31相對的部分處，產(chǎn)生了在聚焦方向FCS上接近光盤2的方向TIL1的驅(qū)動力時，在一邊53的與第2分割區(qū)域32相對的部分處，產(chǎn)生在聚焦方向FCS上遠(yuǎn)離光盤2的方向TIL1的驅(qū)動力。這是由于第1傾斜線圈51的一邊53的、與第1分割區(qū)域31相對的部分、和與第2分割區(qū)域32相對的部分，它們的磁場方向相反的緣故。另外，第1傾斜線圈51的一邊54與上述的一邊53相對，并且與第2磁體22相對。該一邊54配置在與第2磁體22的第5及第6分割區(qū)域35、36相對的位置，借助在切線方向TAN上被反向磁化的第5及第6分割區(qū)域35、36產(chǎn)生的磁場、和流過第1傾斜線圈51的一邊54本身的電流，使得在傾斜方向TIL產(chǎn)生驅(qū)動力。具體地說，如上所述，在第1傾斜線圈51的一邊53的、與第1分割區(qū)域31相對的部分處，產(chǎn)生了在聚焦方向FCS上接近光盤2的方向TIL1的驅(qū)動力時，在第1傾斜線圈51的一邊54的、與第5分割區(qū)域35相對的部分中，電流的方向在循跡方向TRK上與一邊53是相反的，并且，第1及第5分割區(qū)域都是S極，所以，磁場的方向在切線方向TAN上也是相反的，因此，產(chǎn)生在聚焦方向FCS上接近光盤2的方向TIL1的驅(qū)動力。另外，在第1傾斜線圈51的一邊54的、與第6分割區(qū)域36相對的部分處，產(chǎn)生在聚焦方向FCS上遠(yuǎn)離光盤2的方向TIL1的驅(qū)動力。這是由于第1傾斜線圈51的一邊54的、與第5分割區(qū)域35相對的部分、和與第6分割區(qū)域36相對的部分，它們的磁場方向相反的緣故。第2傾斜線圈52，將聚焦方向FCS作為卷繞軸方向，與第1傾斜線圈51反方向地卷繞而成，與第1磁體21的在循跡方向TRK上相鄰的第3分割區(qū)域33及第4分割區(qū)域34、和第2磁體22的與第3及第4分割區(qū)域相對的區(qū)域37、38對應(yīng)地，在傾斜方向TIL產(chǎn)生驅(qū)動力。即，第2傾斜線圈52被卷繞成截面為大致矩形，其與第1磁體21相對的一邊55配置在與第1磁體21的第3分割區(qū)域33及第4分割區(qū)域34相對的位置，借助在切線方向TAN上被反向磁化的第3分割區(qū)域33及第4分割區(qū)域34產(chǎn)生的磁場、和流過第2傾斜線圈52的一邊55本身的電流，使上述第2傾斜線圈52在傾斜方向TIL產(chǎn)生驅(qū)動力。具體地說，如上所述，在第1傾斜線圈51的一邊53的、與第1分割區(qū)域31相對的部分處，產(chǎn)生了在聚焦方向FCS上接近光盤2的方向TIL1的驅(qū)動力時，在第2傾斜線圈52的一邊55的、與第3分割區(qū)域33相對的部分中，沿與第1傾斜線圈51反方向的卷繞，電流方向在循跡方向TRK上與一邊53是相反的，并且，第1分割區(qū)域是S極，第3分割區(qū)域是N極，所以，磁場的方向在切線方向TAN上也是相反的，因此，產(chǎn)生在聚焦方向FCS上接近光盤2的方向TIL1的驅(qū)動力。另外，在第2傾斜線圈52的一邊55的、與第4分割區(qū)域34相對的部分處，產(chǎn)生在聚焦方向FCS上遠(yuǎn)離光盤2的方向TIL1的驅(qū)動力。這是由于第2傾斜線圈52的一邊55的、與第3分割區(qū)域33相對的部分、和與第4分割區(qū)域34相對的部分，它們的磁場方向相反的緣故。另外，第2傾斜線圈52的一邊56，與上述的一邊55相對，并且與第2磁體22相對。該一邊56配置在與第2磁體22的第7及第8分割區(qū)域37、38相對的位置，借助在切線方向TAN上被反向磁化的第7及第8分割區(qū)域37、38產(chǎn)生的磁場、和流過第2傾斜線圈52的一邊56本身的電流，使得在傾斜方向TIL產(chǎn)生驅(qū)動力。具體地說，如上所述，在第1傾斜線圈51的一邊53的、與第1分割區(qū)域31相對的部分處，產(chǎn)生了在聚焦方向FCS上接近光盤2的方向TIL1的驅(qū)動力時，與上述同樣的理由，在第2傾斜線圈52的一邊56的、與第7分割區(qū)域37相對的部分處，產(chǎn)生在聚焦方向FCS上接近光盤2的方向TIL1的驅(qū)動力，在與第8分割區(qū)域38相對的部分中，在聚焦方向FCS中的遠(yuǎn)離光盤2的方向TIL1產(chǎn)生驅(qū)動力。如圖10(a)所示，可動部12的透鏡座15的與循跡方向TRK垂直的表面15b上，在第1傾斜線圈51與第2傾斜線圈52之間設(shè)有突部24e。如圖10(a)～(f)所示，第1及第2傾斜線圈51、52是這樣形成的，朝著規(guī)定的方向?qū)⒌?傾斜線圈51卷繞形成后，將繞線掛在突部24e上，將卷繞方向反轉(zhuǎn)，朝著與規(guī)定方向相反的方向卷繞形成第2傾斜線圈52。并且，該突部24e用作多個彈性支承構(gòu)件16的安裝部之一。即，在透鏡座15的垂直于循跡方向TRK的表面15a、15b上，分別設(shè)有用作彈性支承構(gòu)件16的安裝部的突部24a～24c、突部24d～24f。該突部24a～24f上分別安裝并支承多個彈性支承構(gòu)件16的一端部，該多個彈性支承構(gòu)件16的另一端部17a～17f連接并支承于連接部18a～18f。并且，該多個突部24a～24f之中的、位于聚焦方向FCS正中間的一個，用于使第1傾斜線圈51及第2傾斜線圈52的卷繞方向反轉(zhuǎn)。另外，在透鏡座15上，在垂直于循跡方向TRK的表面15b上設(shè)有傾斜線圈的卷繞開始用的突起部25a，在垂直于循跡方向TRK的表面15a上設(shè)有卷繞結(jié)束用的突起部25b。聚焦調(diào)節(jié)用、循跡調(diào)節(jié)用及傾斜調(diào)節(jié)用的驅(qū)動電流，從電源電路通過供電用基板的各連接線、和中繼基板18的各連接部18a～18f，供給到彈性支承構(gòu)件16。因此，多個彈性支承構(gòu)件16中的每2根，分別起到向第1至第4聚焦線圈45～48、第1至第4循跡線圈41～44、第1傾斜線圈51及第2傾斜線圈52供電的各供電構(gòu)件的作用。上述構(gòu)造的物鏡驅(qū)動裝置9中，驅(qū)動電流從電源電路通過供電用基板、中繼基板18及彈性支承構(gòu)件16，供給到第1至第4聚焦線圈45～48、第1至第4循跡線圈41～44、或者第1及第2傾斜線圈51、52時，根據(jù)這些驅(qū)動電流的流向、和第1磁體21及第2磁體22及軛鐵部10b、10c產(chǎn)生的磁通方向的關(guān)系，可動部12可朝聚焦方向FCS、循跡方向TRK、或傾斜方向TIL移動?？蓜硬?2朝聚焦方向FCS、循跡方向TRK、傾斜方向TIL移動時，彈性支承構(gòu)件16產(chǎn)生彈性變形。在驅(qū)動電流未供給到第1至第4聚焦線圈45～48的狀態(tài)下，透鏡座15保持在聚焦方向FCS的中立位置。另外，在驅(qū)動電流未供給到第1至第4循跡線圈41～44的狀態(tài)下，透鏡座15保持在循跡方向TRK的中立位置。并且，在驅(qū)動電流未供給到第1傾斜線圈51及第2傾斜線圈52的狀態(tài)下，透鏡座15保持在傾斜方向TIL的中立位置。在上述構(gòu)造的光盤裝置1中，當(dāng)盤臺4隨著主軸電動機(jī)的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)時，安裝在該盤臺4上的光盤2旋轉(zhuǎn)，并且，光學(xué)拾取器7沿光盤2的半徑方向移動，對光盤2進(jìn)行記錄動作和/或再現(xiàn)動作。在該記錄動作和/或再現(xiàn)動作中，當(dāng)驅(qū)動電流供給到第1至第4聚焦線圈45～48時，如上所述，物鏡驅(qū)動裝置9的可動部12相對于固定部11朝圖2所示的聚焦方向FCS動作，進(jìn)行聚焦調(diào)節(jié)，使得從設(shè)在移動基座8上的未圖示的光源射出并通過物鏡14照射的激光光點，聚光到光盤2的記錄軌道上。另外，當(dāng)驅(qū)動電流供給到第1至第4循跡線圈41～44時，如上所述，物鏡驅(qū)動裝置9的可動部12相對于固定部11沿圖2所示的循跡方向TRK動作，進(jìn)行循跡調(diào)節(jié)，使得從光源射出并通過物鏡14照射的激光光點，聚光到光盤2的記錄軌道上。另外，當(dāng)驅(qū)動電流供給到第1傾斜線圈51及第2傾斜線圈52時，如上所述，物鏡驅(qū)動裝置9的可動部12相對于固定部11沿圖2所示的傾斜方向TIL動作，進(jìn)行傾斜調(diào)節(jié)，使得從光源射出并通過物鏡14照射的激光光點，與光盤2的面振動等對應(yīng)地大致垂直地聚光。圖11表示上述構(gòu)造的物鏡驅(qū)動裝置9中的、相位及增益(Gain)隨頻率變化而變化的圖形。圖11中，實線部L11、L12表示本發(fā)明物鏡驅(qū)動裝置9中的、相位及增益隨頻率變化而變化的圖形。虛線部L21、L22表示作為本發(fā)明比較例的上述物鏡驅(qū)動裝置101中的、相位及增益隨頻率變化而變化的圖形。如圖11所示，物鏡驅(qū)動裝置9可以減小相位延遲，可容易地進(jìn)行高倍速記錄再現(xiàn)裝置中的伺服設(shè)計。另外，圖12表示物鏡驅(qū)動裝置9中的、增益隨頻率變化而變化的圖形。在圖12中，實線部L13表示本發(fā)明物鏡驅(qū)動裝置9中的增益的變化。虛線部L23表示作為本發(fā)明比較例的上述物鏡驅(qū)動裝置101中的、增益隨頻率變化而變化的圖形。如圖12所示，相對于虛線L23所示的比較例由一次彎曲共振的激勵引起峰值高度增大，而物鏡驅(qū)動裝置9可防止一次彎曲共振的激勵，在高頻的頻帶中可得到良好的共振特性。如上所述，本發(fā)明的物鏡驅(qū)動裝置9，采用開放的磁路，不產(chǎn)生已往那樣將軛鐵插入聚焦線圈的構(gòu)造引起的電感影響導(dǎo)致的相位延遲，所以，本發(fā)明的物鏡驅(qū)動裝置9可以減小相位延遲，例如，可容易地進(jìn)行高倍速記錄再現(xiàn)裝置中的伺服設(shè)計。另外，本發(fā)明的物鏡驅(qū)動裝置9由于在循跡方向TRK上彼此相離開地設(shè)置多個第1至第4聚焦線圈45～48，所以，可防止聚焦驅(qū)動力引起可動部的一次彎曲模式的激勵，在高頻的頻帶中可得到良好的共振特性。另外，本發(fā)明的物鏡驅(qū)動裝置9由于可將第1傾斜線圈51及第2傾斜線圈52連續(xù)地卷繞在透鏡座15上，所以，可實現(xiàn)構(gòu)造簡單化、低成本化。另外，本發(fā)明的物鏡驅(qū)動裝置9由于第1磁體21及第2磁體22形成為相同形狀，僅磁化方向是反向，所以，便于批量生產(chǎn)，可減低成本。另外，構(gòu)成上述物鏡驅(qū)動裝置9的第1磁體21及第2磁體22，是通過四極磁化而形成為一體的。但并不限定于此，例如也可以將在循跡方向TRK分割為兩部分大小的、二極磁化的磁體組合起來，形成第1及第2磁體。如圖13(a)所示，第1磁體61是將分割為兩部分的、被磁化成上下二極的第3磁體63及第4磁體64在循跡方向TRK上排列配置并接合而形成的。第2磁體62是將分割為兩部分的、被磁化成上下二極的第5磁體65及第6磁體66在循跡方向TRK上排列配置并接合而形成的。第3至第6磁體63～66完全相同。第3磁體63及第4磁體64這樣配置其磁化方向分別朝向切線方向TAN，并且其分割區(qū)域在聚焦方向FCS排列配置，并且，任何一方磁體的分割區(qū)域和在循跡方向TRK上相鄰的另一方磁體的分割區(qū)域，它們的磁化方向是反向的。即，第3磁體63在被配置的狀態(tài)下，在切線方向TAN面對透鏡座15的面上，具有通過將該第3磁體63在聚焦方向FCS分割、并使被分割而成的各部分分別磁化成其磁化方向朝向切線方向TAN而成的第9分割區(qū)域71及第10分割區(qū)域72。第9分割區(qū)域71形成為S極，第10分割區(qū)域72形成為N極。如上所述，第3磁體63被二極磁化，各分割區(qū)域71、72之間是未磁化區(qū)域63a。第4磁體64，在被配置的狀態(tài)下，在切線方向TAN面對透鏡座15的面上，具有通過將該第4磁體64在聚焦方向FCS分割、并使被分割而成的各部分分別磁化成磁化方向朝向切線方向TAN而成的第11分割區(qū)域73及第12分割區(qū)域74。在此，第11分割區(qū)域73形成為N極，第12分割區(qū)域74形成為S極。如上所述，第4磁體64被二極磁化，各分割區(qū)域73、74之間是未磁化區(qū)域64a。第3磁體63的分割區(qū)域即第9及第10分割區(qū)域71、72、以及第4磁體64的分割區(qū)域即第11及第12分割區(qū)域73、74是分別沿聚焦方向FCS排列配置著。并且，第3磁體63的第9分割區(qū)域71被配置成與在循跡方向TRK上與其相鄰的第4磁體64的第11分割區(qū)域73的磁化方向反向，并與第11分割區(qū)域73接合，如圖13(b)所示，從而形成第1磁體61。另外，在該狀態(tài)下，第3磁體63的第10分割區(qū)域72與在循跡方向TRK上與其相鄰的第4磁體64的第12分割區(qū)域74，磁化方向是反向的。在此，第3磁體63及第4磁體64的接合可以用粘接劑接合，也可以僅靠它們的磁力接合。并且，第3磁體63及第4磁體64的第9至第12分割區(qū)域71、72、73、74，分別起到第1磁體61的第1至第4分割區(qū)域的功能。與上述第1磁體21同樣地，與流過各聚焦線圈、各循跡線圈、各傾斜線圈的電流共同地，形成在聚焦方向FCS、循跡方向TRK、及傾斜方向TIL產(chǎn)生驅(qū)動力的磁場。第5磁體65及第6磁體66這樣配置其磁化方向分別朝向切線方向TAN，并且其分割區(qū)域分別沿聚焦方向FCS排列配置，并且，任何一方磁體的分割區(qū)域和在循跡方向TRK上與其相鄰的另一方磁體的分割區(qū)域，它們的磁化方向是反向的。即，第5磁體65，在被配置的狀態(tài)下，在切線方向TAN面對透鏡座15的面上，具有通過將該第5磁體65在聚焦方向FCS分割、并使被分割而成的部分磁化成其磁化方向分別朝向切線方向TAN而成的第13及第14分割區(qū)域75、76。在此，第13分割區(qū)域75形成為S極，第14分割區(qū)域76形成為N極。如上所述，第5磁體65被二極磁化，各分割區(qū)域75、76之間是未磁化區(qū)域65a。第6磁體66，在被配置的狀態(tài)下，在切線方向TAN面對透鏡座15的面上，具有將第6磁體66在聚焦方向FCS分割、并使被分割的部分磁化成其磁化方向分別朝向切線方向TAN而成的第15及第16分割區(qū)域77、78。在此，第15分割區(qū)域77形成為N極，第16分割區(qū)域78形成為S極。如上所述，第6磁體66被二極磁化，各分割區(qū)域77、78之間是未磁化區(qū)域66a。第5磁體65及第6磁體66，它們的分割區(qū)域即第13分割區(qū)域75及第14分割區(qū)域76以及第15分割區(qū)域77及第16分割區(qū)域78，分別在聚焦方向FCS上排列配置著。并且，第5磁體65的第13分割區(qū)域75被配置成，其與在循跡方向TRK上相鄰的第6磁體66的第15分割區(qū)域77的磁化方向反向，并與其接合，從而形成了第2磁體62。另外，在該狀態(tài)下，第5磁體65的第14分割區(qū)域76與在循跡方向TRK上相鄰的第6磁體66的第16分割區(qū)域78，磁化方向是反向的。在此，第5磁體65及第6磁體66的接合可以用粘接劑接合，也可以僅靠它們的磁力接合。并且，第5磁體65及第6磁體66的第13至第16分割區(qū)域75、76、77、78，分別起到第2磁體62的第5至第8分割區(qū)域的功能。與上述第2磁體22同樣地，與流過各聚焦線圈、各循跡線圈、各傾斜線圈的電流共同地，形成在聚焦方向FCS、循跡方向TRK、傾斜方向TIL產(chǎn)生驅(qū)動力的磁場。如上所述，具有第1及第2磁體61、62的本發(fā)明物鏡驅(qū)動裝置，與上述物鏡驅(qū)動裝置9同樣地，是采用開放磁路，不產(chǎn)生已往那樣將軛鐵插入于聚焦線圈的構(gòu)造引起的電感影響所導(dǎo)致的相位延遲，可減小相位延遲，例如可容易地進(jìn)行高倍速記錄再現(xiàn)裝置中的伺服設(shè)計。另外，由于在循跡方向TRK彼此相離開地設(shè)置多個聚焦線圈，所以，可防止由聚焦驅(qū)動力引起可動部的一次彎曲模式的激勵，在高頻的頻帶可得到良好的共振特性。另外，具有第1磁體61及第2磁體62的物鏡驅(qū)動裝置，其第3至第6磁體63～66是相同的，所以，便于批量生產(chǎn)，可降低成本。另外，具有第1磁體61及第2磁體62的物鏡驅(qū)動裝置，在第3磁體63及第4磁體64的接合部即交界部、以及在第5及第6磁體65、66的接合部即交界部，沒有未磁化區(qū)域，所以，能提高循跡靈敏度。另外，構(gòu)成物鏡驅(qū)動裝置9的第1及第2磁體，也可以是將在聚焦方向FCS大致分割成兩部分大小的、被磁化成二極的磁體組合起來形成。如圖14(a)所示，第1磁體81是將分割成兩部分的、被磁化成左右二極的第7磁體83及第8磁體84在聚焦方向FCS排列配置并接合而成的。第2磁體82是將分割成兩部分的、被磁化成左右二極的第9磁體85及第10磁體86在聚焦方向FCS排列配置并接合而成的。第7至第10磁體83～86是完全相同的。第7磁體83及第8磁體84這樣配置其磁化方向分別朝向切線方向TAN，同時其分割區(qū)域分別在循跡方向TRK上排列，并且，任何一方磁體的分割區(qū)域和在聚焦方向FCS與其相鄰的另一方磁體的分割區(qū)域，它們的磁化方向是反向的。即，第7磁體83，在被配置的狀態(tài)下，在切線方向TAN上面對透鏡座15的面上，具有通過將該第7磁體83在循跡方向TRK分割、且使被分割而成的部分磁化成其磁化方向分別朝向切線方向TAN而成的第17分割區(qū)域91及第18分割區(qū)域92。在此，第17分割區(qū)域91形成為S極，第18分割區(qū)域92形成為N極。如上所述，第7磁體83被二極磁化，各分割區(qū)域91、92之間是未磁化區(qū)域83a。第8磁體84，在被配置的狀態(tài)下，在切線方向TAN上面對透鏡座15的面上，具有通過將該第8磁體84在循跡方向TRK分割、且使被分割而成的部分磁化成其磁化方向分別朝向切線方向TAN而成的第19分割區(qū)域93及第20分割區(qū)域94。在此，第19分割區(qū)域93形成為N極，第20分割區(qū)域94形成為S極。如上所述，第8磁體84被二極磁化，各分割區(qū)域93、94之間是未磁化區(qū)域84a。第7磁體83及第8磁體84，它們的分割區(qū)域即第17分割區(qū)域91及第18分割區(qū)域92以及第19分割區(qū)域93及第20分割區(qū)域94，分別在循跡方向TRK上排列配置著。并且，第7磁體83的第17分割區(qū)域91被配置成與在聚焦方向FCS上與其相鄰的第8磁體84的第19分割區(qū)域93，磁化方向反向，并與其接合，如圖14(b)所示，從而形成了第1磁體81。另外，在該狀態(tài)下，第7磁體83的第18分割區(qū)域92與在聚焦方向FCS上與其相鄰的第8磁體84的第20分割區(qū)域94，磁化方向是反向的。在此，第7磁體83及第8磁體84的接合可以用粘接劑接合，也可以僅靠它們的磁力接合。并且，第7磁體83及第8磁體84的第17至第20分割區(qū)域91、92、93、94，分別起到第1磁體81的第1至第4分割區(qū)域的功能。與上述第1磁體21同樣地，與流過各聚焦線圈、各循跡線圈、各傾斜線圈的電流共同地，形成在聚焦方向FCS、循跡方向TRK、傾斜方向TIL產(chǎn)生驅(qū)動力的磁場。第9磁體85及第10磁體86這樣配置其磁化方向分別朝向切線方向TAN，同時其分割區(qū)域在循跡方向TRK上排列配置，并且，任何一方磁體的分割區(qū)域和在聚焦方向FCS上與其相鄰的另一方磁體的分割區(qū)域，它們的磁化方向是反向的。即，第9磁體85，在被配置的狀態(tài)下，在切線方向TAN上面對透鏡座15的面上，具有通過將該第9磁體85在循跡方向TRK分割、且使被分割而成的部分磁化成其磁化方向分別朝向切線方向TAN而成的第21分割區(qū)域95及第22分割區(qū)域96。在此，第21分割區(qū)域95形成為S極，第22分割區(qū)域96形成為N極。如上所述，第9磁體85被二極磁化，各分割區(qū)域95、96之間是未磁化區(qū)域85a。第10磁體86，在被配置的狀態(tài)下，在切線方向TAN上面對透鏡座15的面上，具有通過將該第10磁體86在循跡方向TRK分割、且使被分割而成的部分磁化成其磁化方向分別朝向切線方向TAN而成的第23分割區(qū)域97及第24分割區(qū)域98。在此，第23分割區(qū)域97形成為N極，第24分割區(qū)域98形成為S極。如上所述，第10磁體86被二極磁化，各分割區(qū)域97、98之間是未磁化區(qū)域86a。第9磁體85及第10磁體86，它們的分割區(qū)域即第21分割區(qū)域95及第22分割區(qū)域96以及第23分割區(qū)域97及第24分割區(qū)域98，分別在循跡方向TRK上排列配置著。并且，第9磁體85的第21分割區(qū)域95被配置成與在聚焦方向FCS上與其相鄰的第10磁體86的第23分割區(qū)域97的磁化方向反向，并雙方被接合，從而形成了第2磁體82。另外，在該狀態(tài)下，第9磁體85的第22分割區(qū)域96與在聚焦方向FCS上與其相鄰的第10磁體86的第24分割區(qū)域98，磁化方向是反向的。在此，第9磁體85及第10磁體86的接合可以用粘接劑接合，也可以僅靠它們的磁力接合。并且，第9磁體85及第10磁體86的第21至第24分割區(qū)域95、96、97、98，分別起到第2磁體82的第5至第8分割區(qū)域的功能。與上述第2磁體22同樣地，與流過各聚焦線圈、各循跡線圈、各傾斜線圈的電流共同地，形成在聚焦方向FCS、循跡方向TRK、傾斜方向TIL產(chǎn)生驅(qū)動力的磁場。如上所述，具有第1及第2磁體81、82的本發(fā)明物鏡驅(qū)動裝置，與上述物鏡驅(qū)動裝置9同樣地，是采用開放磁路，不產(chǎn)生已往那樣將軛鐵插入聚焦線圈的構(gòu)造引起的電感影響所導(dǎo)致的相位延遲，所以可減小相位延遲，例如可容易地進(jìn)行高倍速記錄再現(xiàn)裝置中的伺服設(shè)計。另外，由于沿循跡方向TRK相離開地設(shè)置多個聚焦線圈，所以，可防止由聚焦驅(qū)動力引起可動部的一次彎曲模式的激勵，在高頻的頻帶中可得到良好的共振特性。另外，具有第1磁體81及第2磁體82的物鏡驅(qū)動裝置，其第7至第10磁體83～86是相同的，所以，便于批量生產(chǎn)，可降低成本。另外，具有第1磁體81及第2磁體82的物鏡驅(qū)動裝置，在第7磁體83及第8磁體84的接合部即交界部、以及在第9磁體85及第10磁體86的接合部即交界部，沒有未磁化區(qū)域，所以，能提高聚焦靈敏度。另外，構(gòu)成物鏡驅(qū)動裝置9的第1及第2磁體，也可以將在循跡方向TRK及聚焦方向FCS分別分割成2部分的、大致共分割成4部分大小的磁體組合起來形成。用形成為同一形狀的4個磁體形成第1及第2磁體，可提高批量生產(chǎn)性，降低成本。另外，本發(fā)明的光學(xué)拾取器7，由于具有上述的物鏡驅(qū)動裝置9，所以，通過聚焦調(diào)節(jié)、循跡調(diào)節(jié)、傾斜調(diào)節(jié)這樣3軸調(diào)節(jié)，可提高激光光點對記錄軌道的追隨性，并且在聚焦響應(yīng)特性中，可以減小相位延遲，在高倍速記錄再現(xiàn)裝置中容易進(jìn)行伺服設(shè)計。另外，可以防止聚焦驅(qū)動力引起可動部的一次彎曲模式的激勵，在高頻中能得到良好的共振特性，同時實現(xiàn)低成本化。另外，本發(fā)明的記錄再現(xiàn)裝置1，由于具有上述的物鏡驅(qū)動裝置9，所以，通過聚焦調(diào)節(jié)、循跡調(diào)節(jié)、傾斜調(diào)節(jié)這樣3軸調(diào)節(jié)，可提高激光光點對記錄軌道的追隨性，提高記錄再現(xiàn)特性。并且在聚焦響應(yīng)特性中，可以減小相位延遲，在高倍速記錄再現(xiàn)裝置中容易進(jìn)行伺服設(shè)計。另外，可以防止聚焦驅(qū)動力引起可動部的一次彎曲模式的激勵，在高頻能得到良好的共振特性，同時實現(xiàn)低成本化。權(quán)利要求1.一種物鏡驅(qū)動裝置，包括可動部、固定部、彈性支承構(gòu)件、第1磁體、第2磁體；上述可動部具有保持物鏡的透鏡座；上述固定部在與上述物鏡的聚焦方向及循跡方向正交的切線方向上與上述可動部隔有間隔地配置；上述彈性支承構(gòu)件，分別連接上述可動部和上述固定部，支承上述可動部并使該可動部能相對于上述固定部在上述聚焦方向及循跡方向上移動、并且能使該可動部朝相對于平行于上述切線方向的面傾斜的傾斜方向傾斜；上述第1磁體在上述切線方向上與上述透鏡座相對地配置，具有第1至第4分割區(qū)域，該第1至第4分割區(qū)域是通過將第1磁體在上述聚焦方向及上述循跡方向分割、并使被分割而成的各部分分別磁化成其磁化方向朝向上述切線方向而形成的；上述第2磁體在上述切線方向上與上述第1磁體相對地配置，與上述第1磁體反向地被磁化；上述透鏡座上設(shè)有循跡線圈、聚焦線圈、第1傾斜線圈和第2傾斜線圈；上述循跡線圈，設(shè)在分別與上述第1磁體的在上述循跡方向上相鄰的第1及第2分割區(qū)域、上述第1磁體的在上述循跡方向上相鄰的第3及第4分割區(qū)域、上述第2磁體的與上述第1及第2分割區(qū)域相對的區(qū)域、上述第2磁體的與上述第3及第4分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)、使該循跡線圈在上述循跡方向產(chǎn)生驅(qū)動力的4個部位；上述聚焦線圈，設(shè)在分別與上述第1磁體的在上述聚焦方向上相鄰的第1及第3分割區(qū)域、上述第1磁體的在上述聚焦方向上相鄰的第2及第4分割區(qū)域、上述第2磁體的與上述第1及第3分割區(qū)域相對的區(qū)域、上述第2磁體的與上述第2及第4分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)、使該聚焦線圈在上述聚焦方向產(chǎn)生驅(qū)動力的4個部位；上述第1傾斜線圈，將上述聚焦方向作為卷繞軸方向而卷繞，與上述第1磁體的在上述循跡方向上相鄰的第1及第2分割區(qū)域、和上述第2磁體的與上述第1及第2分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)，使該第1傾斜線圈在上述傾斜方向產(chǎn)生驅(qū)動力；上述第2傾斜線圈，其卷繞方向與上述第1傾斜線圈的卷繞方向相反，與上述第1磁體的在上述循跡方向上相鄰的第3及第4分割區(qū)域、和上述第2磁體的與上述第3及第4分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)，使該第2傾斜線圈在上述傾斜方向產(chǎn)生驅(qū)動力。2.一種光學(xué)拾取器，具有能向安裝在盤臺上的光盤的半徑方向移動的移動基座、和配置在該移動基座上的物鏡驅(qū)動裝置，上述物鏡驅(qū)動裝置包括可動部、固定部、彈性支承構(gòu)件、第1磁體、第2磁體；上述可動部具有保持物鏡的透鏡座；上述固定部在與上述物鏡的聚焦方向及循跡方向正交的切線方向上與上述可動部隔有間隔地配置；上述彈性支承構(gòu)件，分別連接上述可動部和上述固定部，支承上述可動部并使該可動部能相對于上述固定部在上述聚焦方向及循跡方向上移動、并且能使該可動部朝相對于平行于上述切線方向的面傾斜的傾斜方向傾斜；上述第1磁體在上述切線方向上與上述透鏡座相對地配置，具有第1至第4分割區(qū)域，該第1至第4分割區(qū)域是通過將第1磁體在上述聚焦方向及上述循跡方向分割、并使被分割而成的各部分分別磁化成其磁化方向朝向上述切線方向而形成的；上述第2磁體在上述切線方向上與上述第1磁體相對地配置，與上述第1磁體反向地被磁化；上述透鏡座上設(shè)有循跡線圈、聚焦線圈、第1傾斜線圈和第2傾斜線圈；上述循跡線圈，設(shè)在分別與上述第1磁體的在上述循跡方向上相鄰的第1及第2分割區(qū)域、上述第1磁體的在上述循跡方向上相鄰的第3及第4分割區(qū)域、上述第2磁體的與上述第1及第2分割區(qū)域相對的區(qū)域、上述第2磁體的與上述第3及第4分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)、使該循跡線圈在上述循跡方向產(chǎn)生驅(qū)動力的4個部位；上述聚焦線圈，設(shè)在分別與上述第1磁體的在上述聚焦方向上相鄰的第1及第3分割區(qū)域、上述第1磁體的在上述聚焦方向上相鄰的第2及第4分割區(qū)域、上述第2磁體的與上述第1及第3分割區(qū)域相對的區(qū)域、上述第2磁體的與上述第2及第4分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)、使該聚焦線圈在聚焦方向產(chǎn)生驅(qū)動力的4個部位；上述第1傾斜線圈，將上述聚焦方向作為卷繞軸方向卷繞而成，與上述第1磁體的在上述循跡方向上相鄰的第1及第2分割區(qū)域、和上述第2磁體的與上述第1及第2分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)，使該第1傾斜線圈在上述傾斜方向產(chǎn)生驅(qū)動力；上述第2傾斜線圈，其卷繞方向與上述第1傾斜線圈的卷繞方向相反，與上述第1磁體的在上述循跡方向上相鄰的第3及第4分割區(qū)域、和上述第2磁體的與上述第3及第4分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)，使該第2傾斜線圈在上述傾斜方向產(chǎn)生驅(qū)動力。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)拾取器，其特征在于，上述第1及第2磁體形成為同一形狀，其磁化方向是反向的。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)拾取器，其特征在于，在上述透鏡座的與上述循跡方向垂直的表面上，在上述第1傾斜線圈與上述第2傾斜線圈之間設(shè)有突部；上述第1及第2傾斜線圈是這樣形成的，朝規(guī)定方向?qū)⑸鲜龅?傾斜線圈卷繞形成后，掛于上述突部上，使卷繞方向反轉(zhuǎn)，朝著與上述規(guī)定方向相反的方向進(jìn)行卷繞而形成上述第2傾斜線圈。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)拾取器，其特征在于，上述突部是上述多個彈性支承構(gòu)件的安裝部之一。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)拾取器，其特征在于，上述第1磁體，是將分割成兩部分的、被磁化成上下二極的第3及第4磁體沿上述循跡方向排列配置而形成的；上述第2磁體，是將分割成兩部分的、被磁化成上下二極的第5及第6磁體在上述循跡方向排列配置而形成的；上述第3及第4磁體這樣配置各自的磁化方向朝向上述切線方向，并且各自的分割區(qū)域在上述聚焦方向排列，并且，任何一方磁體的分割區(qū)域和在上述循跡方向上與其相鄰的另一方磁體的分割區(qū)域，它們的磁化方向是反向的；上述第5及第6磁體這樣配置各自的磁化方向朝向上述切線方向，并且各自的分割區(qū)域在上述聚焦方向排列，并且，任何一方磁體的分割區(qū)域和在上述循跡方向上與其相鄰的另一方磁體的分割區(qū)域，它們的磁化方向是反向的。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)拾取器，其特征在于，上述第3至第6磁體是完全相同的。8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)拾取器，其特征在于，上述第1磁體，是將分割成兩部分的、被磁化成左右二極的第7及第8磁體在上述聚焦方向上排列配置而形成的；上述第2磁體，是將分割成兩部分的、被磁化成左右二極的第9及第10磁體在上述聚焦方向上排列配置而形成的；上述第7及第8磁體這樣配置各自的磁化方向朝向上述切線方向，并且各自的分割區(qū)域在上述循跡方向排列配置，并且，任何一方磁體的分割區(qū)域和在上述聚焦方向上與其相鄰的另一方磁體的分割區(qū)域，它們的磁化方向是反向的；上述第9及第10磁體這樣配置各自的磁化方向朝向上述切線方向，并且各自的分割區(qū)域在上述循跡方向排列配置，并且，任何一方磁體的分割區(qū)域和在上述聚焦方向上與其相鄰的另一方磁體的分割區(qū)域，它們的磁化方向是反向的。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)拾取器，其特征在于，上述第7至第10磁體是完全相同的。10.一種光盤裝置，具有用于安裝光盤的盤臺、和通過物鏡對安裝在該盤臺上的光盤照射激光的光學(xué)拾取器；上述光學(xué)拾取器具有能向安裝在盤臺上的光盤的半徑方向移動的移動基座、和配置在該移動基座上的物鏡驅(qū)動裝置；上述物鏡驅(qū)動裝置包括可動部、固定部、彈性支承構(gòu)件、第1磁體、第2磁體；上述可動部具有保持物鏡的透鏡座；上述固定部在與上述物鏡的聚焦方向及循跡方向正交的切線方向與上述可動部隔有間隔地配置；上述彈性支承構(gòu)件，分別連接上述可動部和上述固定部，支承上述可動部并使該可動部能相對于上述固定部在上述聚焦方向及循跡方向上移動、并且能使該可動部朝相對于平行于上述切線方向的面傾斜的傾斜方向傾斜；上述第1磁體在上述切線方向上與上述透鏡座相對地配置，具有第1至第4分割區(qū)域，該第1至第4分割區(qū)域是通過將第1磁體在上述聚焦方向及上述循跡方向分割、并使被分割而成的各部分磁化成其磁化方向分別朝向上述切線方向而形成的；上述第2磁體在上述切線方向與上述第1磁體相對地配置，與上述第1磁體反向地被磁化；上述透鏡座上設(shè)有循跡線圈、聚焦線圈、第1傾斜線圈和第2傾斜線圈；上述循跡線圈設(shè)在分別與上述第1磁體的在上述循跡方向上相鄰的第1及第2分割區(qū)域、上述第1磁體的在上述循跡方向上相鄰的第3及第4分割區(qū)域、上述第2磁體的與上述第1及第2分割區(qū)域相對的區(qū)域、上述第2磁體的與上述第3及第4分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)、使該循跡線圈在上述循跡方向產(chǎn)生驅(qū)動力的4個部位；上述聚焦線圈，設(shè)在分別與上述第1磁體的在上述聚焦方向上相鄰的第1及第3分割區(qū)域、上述第1磁體的在上述聚焦方向上相鄰的第2及第4分割區(qū)域、上述第2磁體的與上述第1及第3分割區(qū)域相對的區(qū)域、上述第2磁體的與上述第2及第4分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)、使該聚焦線圈在上述聚焦方向產(chǎn)生驅(qū)動力的4個部位；上述第1傾斜線圈，將上述聚焦方向作為卷繞軸方向卷繞而成，與上述第1磁體的在上述循跡方向上相鄰的第1及第2分割區(qū)域、和上述第2磁體的與上述第1及第2分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)，使該第1傾斜線圈在上述傾斜方向產(chǎn)生驅(qū)動力；上述第2傾斜線圈，其卷繞方向與上述第1傾斜線圈的卷繞方向相反，與上述第1磁體的在上述循跡方向上相鄰的第3及第4分割區(qū)域、和上述第2磁體的與上述第3及第4分割區(qū)域相對的區(qū)域?qū)?yīng)，使該第2傾斜線圈在上述傾斜方向產(chǎn)生驅(qū)動力。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光盤裝置，其特征在于，上述第1及第2磁體形成為同一形狀，它們的磁化方向是反向的。12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光盤裝置，其特征在于，在上述透鏡座的與上述循跡方向垂直的表面上，在上述第1傾斜線圈與上述第2傾斜線圈之間設(shè)有突部；上述第1及第2傾斜線圈是這樣形成的朝規(guī)定方向?qū)⑸鲜龅?傾斜線圈卷繞形成后，掛于上述突部上，使卷繞方向反轉(zhuǎn)，朝著與上述規(guī)定方向相反的方向進(jìn)行卷繞而形成上述第2傾斜線圈。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光盤裝置，其特征在于，上述突部是上述多個彈性支承構(gòu)件安裝部之一。14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光盤裝置，其特征在于，上述第1磁體，是將分割成兩部分的、被磁化成上下二極的第3及第4磁體在上述循跡方向上排列配置而形成的；上述第2磁體，是將分割成兩部分的、被磁化成上下二極的第5及第6磁體在上述循跡方向上排列配置而形成的；上述第3及第4磁體這樣配置各自的磁化方向朝向上述切線方向，并且各自的分割區(qū)域在上述聚焦方向上排列，并且，任何一方磁體的分割區(qū)域與在上述循跡方向上與其相鄰的另一方磁體的分割區(qū)域，它們的磁化方向是反向的；上述第5及第6磁體這樣配置各自的磁化方向朝向上述切線方向，并且各自的分割區(qū)域在上述聚焦方向上排列，并且，任何一方磁體的分割區(qū)域與在上述循跡方向上與其相鄰的另一方磁體的分割區(qū)域，它們的磁化方向是反向的。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光盤裝置，其特征在于，上述第3至第6磁體是完全相同的。16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光盤裝置，其特征在于，上述第1磁體，是將分割成兩部分的、被磁化成左右二極的第7及第8磁體在上述聚焦方向上排列配置而形成的；上述第2磁體，是將分割成兩部分的、被磁化成左右二極的第9及第10磁體在上述聚焦方向上排列配置而形成的；上述第7及第8磁體這樣配置各自的磁化方向朝向上述切線方向，并且各自的分割區(qū)域在上述循跡方向上排列，并且，任何一方磁體的分割區(qū)域和在上述聚焦方向上與其相鄰的另一方磁體的分割區(qū)域，它們的磁化方向是反向的；上述第9及第10磁體這樣配置各自的磁化方向朝向上述切線方向，并且各自的分割區(qū)域在上述循跡方向上排列，并且，任何一方磁體的分割區(qū)域和在上述聚焦方向上與其相鄰的另一方磁體的分割區(qū)域，它們的磁化方向是反向的。17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的光盤裝置，其特征在于，上述第7至第10磁體是完全相同的。全文摘要本發(fā)明提供一種物鏡驅(qū)動裝置、光學(xué)拾取器及光盤裝置，在聚焦響應(yīng)特性中減小相位延遲，提高高頻的共振特性。包括可動部(12)，具有保持物鏡(14)的透鏡座(15)；固定部(11)，在切線方向上與可動部隔有間隔地配置；彈性支承構(gòu)件(16)，支承可動部并使可動部能相對于固定部在聚焦方向及循跡方向上移動，并且能使可動部朝傾斜方向傾斜；第1磁體(21)；第2磁體(22)，其相對于第1磁體反向地被磁化。在透鏡座(15)上設(shè)有循跡線圈、聚焦線圈、以聚焦方向作為卷軸方向卷繞而成、在傾斜方向產(chǎn)生驅(qū)動力的第1傾斜線圈(51)和卷繞方向與第1線圈(51)相反、在傾斜方向產(chǎn)生驅(qū)動力的第2傾斜線圈(52)。文檔編號G11B7/095GK1811932SQ20061000104公開日2006年8月2日申請日期2006年1月17日優(yōu)先權(quán)日2005年1月17日發(fā)明者大熊英生,花岡早苗申請人:索尼株式會社