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在光可寫的信息層中包括軸向取代的鈷酞菁的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲載體的制作方法

文檔序號:6750048閱讀:336來源:國知局
專利名稱:在光可寫的信息層中包括軸向取代的鈷酞菁的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲載體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及軸向取代的鈷酞菁在一次可寫入的光學(xué)數(shù)據(jù)載體的光可寫的信息層中作為吸光性化合物的應(yīng)用,涉及光學(xué)數(shù)據(jù)載體和它們的生產(chǎn)方法。
一次可寫入的光盤(CD-R)最近有了巨大的量的增長。這里信息層的吸光性化合物代表了光學(xué)數(shù)據(jù)載體的重要組分和必須滿足許多高要求。此類化合物的制備總是相應(yīng)地高成本的(參見WO-A-00/09522)。
因此本發(fā)明的目的是提供一種簡單合成的酞菁染料,它滿足了在一次可寫入的光學(xué)數(shù)據(jù)載體(尤其CD-R)的信息層中用作吸光性化合物的高要求(例如光穩(wěn)定性,良好的信號/噪聲比,高度的寫敏感性,無損害地施加于基材上等等)。
現(xiàn)已吃驚地發(fā)現(xiàn),軸向取代的鈷酞菁非??捎糜谶@一目的。
本發(fā)明因此提供了包括優(yōu)選透明的基材的光學(xué)數(shù)據(jù)載體,該基材任選地已涂敷了一個或多個反射涂層和在其表面上涂敷光可寫型信息層、任選的一個或多個反射涂層和任選的保護(hù)層或附加基材或覆蓋層,該載體能夠利用紅外光,優(yōu)選激光,特別優(yōu)選具有在750-800nm范圍,尤其在770-790nm范圍的波長的光進(jìn)行寫和讀,其中信息層包括吸光性化合物和任選的粘結(jié)劑,特征在于至少一種鈷(III)酞菁用作吸光性化合物,其中Co金屬中心攜帶兩個軸向取代基R1和R2,該兩個取代基彼此獨立地表示CN、SCN、烷氧基或烷硫基。
作為吸光性化合物,優(yōu)選使用通式(I)的鈷酞菁 其中CoPc表示鈷(III)酞菁,其中R1和R2是鈷的軸向基團(tuán)和基團(tuán)R3到R6對應(yīng)于酞菁的取代基,式中R1和R2彼此獨立地表示CN,SCN,烷氧基或烷硫基,
R3,R4,R5和R6彼此獨立地表示鹵素,氰基,烷基,芳基,烷基胺基,二烷基胺基,烷氧基,烷硫基,芳氧基,芳硫基,SO3H,SO2NR7R8,CO2R12,CONR7R8,NH-COR12或基團(tuán)-(B)m-D,B是選自直接鍵,CH2,CO,CH(烷基),C(烷基)2,NH,S,O或-CH=CH-中的橋單元,其中(B)m是橋單元B的化學(xué)上有意義的序列和m=1-10,優(yōu)選1,2,3或4,D表示以下通式的氧化還原體系的單價基團(tuán) (還原)或 (氧化)或表示金屬茂基或金屬茂羰基基團(tuán),其中金屬中心能夠是鈦,錳,鐵,釕或鋨,X1和X2彼此獨立地表示NR′R″,OR″或SR″,Y1表示NR′,O或S,Y2表示NR′,n表示1到10和R′和R″彼此獨立地表示氫,烷基,環(huán)烷基,芳基或雜芳基或形成直接鍵或連接到 或 鏈的一個碳原子上的橋基,w,x,y和z彼此獨立地表示0到4和w+x+y+z≤12,R7和R8彼此獨立地表示烷基胺基,羥烷基胺基,二烷基胺基,雙羥基烷基胺基或芳基胺基或R7和R8與它們所鍵接的N原子一起形成雜環(huán)族的5-,6-或7-元環(huán),有或者沒有其它雜原子(尤其選自O(shè),N和S)的參與,其中NR7R8尤其表示吡咯烷基,哌啶基或嗎啉基,R12表示烷基,芳基,雜芳基或氫,Kat+表示陽離子,尤其是堿金屬陽離子,銨陽離子,三烷基銨陽離子,三烷基氧鎓(oxonium)陽離子,三苯基碳鎓陽離子,二苯基碘鎓陽離子,N-烷基-吡啶鎓陽離子或代表金屬茂陽離子,其中金屬中心可以是鈦,錳,鐵,釕或鋨。
該烷基,烷氧基,芳基和雜環(huán)基可以任選地攜帶其它基團(tuán),如烷基,鹵素,羥基,羥烷基,氨基,烷基胺基,二烷基胺基,硝基,氰基,CO-NH2,烷氧基,烷氧基羰基,嗎啉基,哌啶基,吡咯烷基,pyrrolidono,三烷基甲硅烷基,三烷基硅氧基或苯基。該烷基和烷氧基基團(tuán)可以是飽和的,不飽和的,直鏈或支化的,該烷基可以部分地鹵化或全鹵化,該烷基和烷氧基基團(tuán)可以是乙氧基化或丙氧基化或甲硅烷基化的。在芳基或雜環(huán)基上的相鄰?fù)榛?或烷氧基基團(tuán)可以一起形成三-或四-元橋連基。
優(yōu)選的是通式(I)的化合物,其中對于基團(tuán)R1-R8和R,R′,R″和R12術(shù)語“烷基”取代基優(yōu)選是C1-C16-烷基,尤其是C1-C6-烷基,它們是未被取代的或被鹵素,如氨、溴、氟,羥基,氰基和/或C1-C6-烷氧基取代;術(shù)語“烷氧基”取代基優(yōu)選是C1-C16-烷氧基,尤其是C1-C6-烷氧基,它們是未被取代的或被鹵素,如氯、溴、氟,羥基,氰基和/或C1-C6-烷基取代;術(shù)語“環(huán)烷基”取代基優(yōu)選是C4-C8-環(huán)烷基,尤其是C5-C6-環(huán)烷基,它們是未被取代的或被鹵素,如氯,溴或氟,羥基,氰基和/或C1-C6-烷基取代;術(shù)語“鏈烯基”取代基優(yōu)選是C6-C8-鏈烯基,它是未被取代的或被鹵素,如氯、溴或氟,羥基,氰基和/或C1-C6-烷基取代,其中鏈烯基特別是烯丙基;術(shù)語“雜芳基”取代基優(yōu)選是具有5-到7-元環(huán)的雜環(huán)基團(tuán),它優(yōu)選含有選自N,S和/或O中的雜原子和是任選地稠合到芳族環(huán)上或是任選地攜帶其它取代基,例如鹵素,羥基,氰基和/或烷基,特別優(yōu)選的是吡啶基,呋喃基,噻吩基,噁唑基,噻唑基,咪唑基,喹啉基,苯并噁唑基,苯并噻唑基和苯并咪唑基;術(shù)語“芳基”取代基優(yōu)選是C6-C10-芳基,尤其是苯基或萘基,它們是未被取代的或被鹵素,如氟,氯,羥基,C1-C6-烷基,C1-C6-烷氧基,NO2和/或CN取代。
優(yōu)選的是通式(I)的鈷酞菁,其中R3,R4,R5和R6彼此獨立地表示氯,氟,溴,碘,氰基,甲基,乙基,丙基,異丙基,丁基,異丁基,叔丁基,戊基,叔戊基,羥乙基,3-二甲基胺基丙基,3-二乙基胺基丙基,苯基,對-叔-丁基苯基,對-甲氧基苯基,異丙基苯基,三氟甲基苯基,萘基,甲基胺基,乙基胺基,丙基胺基,異丙基胺基,丁基胺基,異丁基胺基,叔-丁基胺基,戊基胺基,叔-戊基胺基,芐基胺基,甲基苯基己基胺基,羥乙基胺基,胺基丙基胺基,氨基乙基胺基,3-二甲基胺基-丙基胺基,3-二乙基胺基丙基胺基,二乙基胺基乙基胺基,二丁基胺基丙基胺基,嗎啉基丙基胺基,哌啶基(Piperidino)丙基胺基,吡咯烷基(Pyrrolidino)丙基胺基,吡咯烷酮基(Pyrrolidono)丙基胺基,3-(甲基-羥乙基-胺基)丙基胺基,甲氧基乙基胺基,乙氧基乙基胺基,甲氧基丙基胺基,乙氧基丙基胺基,甲氧基乙氧基丙基胺基,3-(2-乙基-己氧基)丙基胺基,異丙氧基丙基胺基,二甲基胺基,二乙基胺基,二乙醇胺基,二丙基胺基,二異丙基胺基,二丁基胺基,二異丁基胺基,二-叔-丁基胺基,二戊基胺基,二-叔-戊基胺基,雙(2-乙基己基)胺基,雙(胺基丙基)胺基,雙(氨基乙基)胺基,雙(3-二甲基胺基丙基)胺基,雙(3-二乙基胺基丙基)胺基,雙-(二乙基胺基乙基)胺基,雙(二丁基胺基丙基)胺基,二(嗎啉基-丙基)胺基,二(哌啶基丙基)胺基,二(吡咯烷基丙基)胺基,二-(吡咯烷酮基丙基)胺基,雙(3-(甲基-羥乙基胺基)丙基)胺基,二甲氧基乙基胺基,二乙氧基乙基胺基,二甲氧基丙基胺基,二乙氧基丙基胺基,二(甲氧基乙氧基乙基)胺基,二(甲氧基乙氧基-丙基)胺基,雙(3-(2-乙基己氧基)丙基)胺基,二(異丙氧基-異丙基)胺基,甲氧基,乙氧基,丙氧基,異丙氧基,丁氧基,異丁氧基,叔-丁氧基,戊氧基,叔-戊基氧基,甲氧基乙氧基,乙氧基乙氧基,甲氧基丙氧基,乙氧基丙氧基,甲氧基乙氧基-丙氧基,3-(2-乙基己氧基)丙氧基,甲硫基,乙硫基,丙硫基,異丙硫基,丁基硫基,異丁硫基,叔-丁基硫基,戊基硫基,叔-戊基硫基,苯基,甲氧基苯基,三氟甲基苯基,萘基,CO2R12,CONR7R8,NH-COR12,SO3H,SO2NR7R8,或以下通式的基團(tuán) 或
其中(B)m表示 或 其中該星號(*)表示連接到該5-元環(huán)上的連接點,M表示Mn或Fe,w,x,y和z彼此獨立地表示0到4和w+x+y+z≤12,Kat+表示鋰陽離子,鈉陽離子,鉀陽離子,四丁銨陽離子,四丙基銨陽離子,四乙基銨陽離子,四甲基銨陽離子,三乙基氧鎓陽離子,三苯基碳鎓陽離子,二苯基碘鎓陽離子,N-乙基吡啶鎓陽離子或二茂鐵陽離子,NR7R8表示氨基,甲基胺基,乙基胺基,丙基胺基,異丙基胺基,丁基胺基,異丁基胺基,叔-丁基胺基,戊基胺基,叔-戊基胺基,芐基胺基,甲基苯基己基胺基,2-乙基-1-己基胺基,羥乙基-胺基,氨基丙基胺基,氨基乙基胺基,3-二甲基胺基丙基胺基,3-二乙基胺基丙基胺基,嗎啉基丙基胺基,哌啶基丙基胺基,吡咯烷基丙基胺基,吡咯烷酮基丙基胺基,3-(甲基-羥乙基胺基)丙基胺基,甲氧基乙基胺基,乙氧基乙基胺基,甲氧基丙基胺基,乙氧基丙基胺基,甲氧基乙氧基丙基胺基,3-(2-乙基己氧基)丙基胺基,異丙氧基異丙基胺基,二甲基胺基,二乙基胺基,二丙基胺基,二異丙基胺基,二丁基胺基,二異丁基胺基,二-叔-丁基胺基,二戊基胺基,二-叔-戊基胺基,雙(2-乙基己基)胺基,二羥基乙基胺基,雙(氨基丙基)胺基,雙(氨基乙基)胺基,雙(3-二甲基胺基丙基)胺基,雙(3-二乙基-胺基丙基)胺基,二(嗎啉基丙基)胺基,二(哌啶基丙基)胺基,二(吡咯烷基丙基)胺基,二(吡咯烷酮基丙基)胺基,雙(3-(甲基-羥乙基胺基)丙基)胺基,二甲氧基乙基胺基,二乙氧基-乙基胺基,二甲氧基丙基胺基,二乙氧基丙基胺基,二(甲氧基-乙氧基丙基)胺基,雙(3-(2-乙基己氧基)丙基)胺基,二(異丙氧基-異丙基)胺基,苯胺基,對-甲苯基胺基,對-叔-丁基苯胺基,對-甲氧苯胺基,異丙基苯胺基或萘基胺基或NR7R8表示吡咯烷基,哌啶基,哌嗪基或嗎啉基,R12表示氫,甲基,乙基,丙基,異丙基,丁基,異丁基,叔丁基,戊基,叔戊基,苯基,對-叔-丁基苯基,對-甲氧基苯基,異丙基苯基,對-三氟甲基苯基,氰基苯基,萘基,4-吡啶基,2-吡啶基,2-喹啉基,2-吡咯基或2-吲哚基,其中該烷基,烷氧基,芳基和雜環(huán)基可以,如果需要,攜帶其它基團(tuán),如烷基,鹵素,羥基,羥烷基,氨基,烷基胺基,二烷基胺基,硝基,氰基,CO-NH2,烷氧基,烷氧基羰基,嗎啉基,哌啶基,吡咯烷基,吡咯烷酮基,三烷基甲硅烷基,三烷基硅氧基或苯基,該烷基和/或烷氧基基團(tuán)可以是飽和的,不飽和的,直鏈的或支化的,該烷基可以部分地被鹵代或全鹵代,該烷基和/或烷氧基基團(tuán)可以是乙氧基化或丙氧基化或甲硅烷基化的,在芳基或雜環(huán)基上的相鄰?fù)榛?或烷氧基基團(tuán)可以一起形成三-或四-元橋連基。
對于本申請的目的,氧化還原體系尤其是在Angew.Chem.1978,927頁中,和在Topics of Current Chemistry,92卷,p.1(1980)中描述的氧化還原體系。
優(yōu)選的是對-苯二胺,吩噻嗪,二氫吩嗪,雙吡啶鎓鹽(Viologene),醌二甲烷(Chinodimethane)。
特別優(yōu)選的是與通式(Ic)對應(yīng)的通式(I)的鈷酞菁。
另外,本發(fā)明提供鈷(III)酞菁,它的Co金屬中心攜帶兩個軸向取代基R1和R2,兩者彼此獨立地表示CN,SCN,烷氧基或烷硫基和它的酞菁基團(tuán)是取代的。
這些優(yōu)選是通式(I)的鈷酞菁,其中w,x,y和z的總和是大于零,優(yōu)選1到12的數(shù)。
非常特別優(yōu)選的是具有通式Ic的根據(jù)本發(fā)明的化合物
其中Halogen表示氯,溴或氟,Alkoxy表示C1-C8-烷氧基,它可以是取代的或是未被取代的和a表示0到4的數(shù),b表示0到10的數(shù),c表示0到8的數(shù),其中a,b和c的總和是≤12,和R1,R2,R7,R8,Kat+和CoPc是如以上所定義。
本發(fā)明同時提供了制備通式(Ic)的化合物的方法,其特征在于鈷酞菁(它被通式SO2NR7R8的磺酰胺基團(tuán)(其中R7和R8如以上所定義)和任選地被鹵素和/或烷氧基基團(tuán)取代)被氧化和與KatCN、KatSCN、Kat烷氧基或Kat烷硫氧反應(yīng)。
該制備優(yōu)選從未被取代的或被鹵素-和/或烷氧基-取代的鈷酞菁開始,通過如下來進(jìn)行使用氯磺酸和亞硫酰氯在50-130℃下的氯磺化,和在pH=8-12下和在室溫到100℃下在水中與合適的胺反應(yīng)形成酰胺。軸向胺取代基的隨后引入優(yōu)選按照已知的方式在氧化性條件中,例如在氯或空氣中,優(yōu)選在空氣中來進(jìn)行,對于空氣的情況在過量KatCN、KatSCN、Kat烷氧基或Kat烷硫基的存在下。
作為吸光性化合物,光可寫的信息層特別優(yōu)選地還包括除上述鈷(III)酞菁化合物中的一種,尤其具有通式I的一種之外至少一種其它被取代的或未被取代的酞菁,以下稱作組分b),其有或者沒有中心原子。這一組分的可能的中心原子是,例如,選自Si,Zn,Al,Cu,Pd,Pt,Au和Ag中的原子,尤其Cu和Pd。
本發(fā)明因此還提供混合物,它包括a)鈷(III)酞菁,它的Co金屬中心攜帶兩個軸向取代基R1和R2,該兩個取代基彼此獨立地表示CN,SCN,烷氧基或烷硫基和b)不同于a)的酞菁,尤其無Co的酞菁。
對于該組分a)和b),優(yōu)選的是在各情況下以上所提及的優(yōu)選實施方式。
特別優(yōu)選的組分b)是,例如,從DE-A 19 925 712中已知的磺酰胺-取代的銅酞菁。特別優(yōu)選的是具有通式II的那些
其中CuPc是銅酞菁基團(tuán),A表示取代的或未被取代的、直鏈或支化的C2-C6-亞烷基,如亞乙基,亞丙基,亞丁基,亞戊基,亞己基,R9和R10彼此獨立地表示氫或各種情況下取代的或未被取代的、直鏈或支化C1-C6-烷基,如甲基,乙基,丙基,丁基,戊基,己基,尤其代表取代的C1-C6-羥烷基或代表未被取代的C1-C6-烷基,或R1和R2與它們所鍵接的N原子一起形成雜環(huán)族5-或6-元環(huán),如果需要,這些環(huán)含有其它雜原子,例如S,N或O,x表示2.0到4.0,y表示0到1.5和x和y的總和是2.0到4.0,優(yōu)選2.5到4.0。
特別優(yōu)選地在混合物中的組分b)是具有通式(II)的化合物,它對應(yīng)于通式(IIa)CuPc-[SO2NH-CH2CH2CH2N(CH2)3(IIa),其中CuPc是銅酞菁。
其它優(yōu)選的附加吸光性化合物是從例如EP-A-519 395中已知的磺酰胺-或酰胺基-取代的酞菁。
對于各種吸光性化合物的混合物而言,通式(I)的化合物在混合物中的比例優(yōu)選是10-90wt%。
特別優(yōu)選的是通式(I)和(II)的兩種化合物按照10∶90到90∶10,優(yōu)選20∶80到80∶20,特別優(yōu)選40∶60到60∶40的重量比的混合物。
信息層能夠不僅包括吸光性化合物,而且包括粘結(jié)劑,潤濕劑,穩(wěn)定劑,稀釋劑和增感劑以及其它成分。
該基材能夠從光學(xué)透明的塑料生產(chǎn),如果必要,它已經(jīng)進(jìn)行了表面處理。優(yōu)選的塑料是聚碳酸酯和聚丙烯酸酯,以及聚環(huán)烯烴或聚烯烴。
該反射層能夠從通常用于可寫入的光學(xué)數(shù)據(jù)載體中的任何金屬或金屬合金來制造。合適的金屬或金屬合金可以是蒸氣沉積和噴濺而成并包括,例如,金,銀,銅,鋁和它們彼此的合金或與其它金屬的合金。
在反射層之上的可能的保護(hù)層可以由UV固化的丙烯酸酯類組成。
保護(hù)該反射層,例如避免氧化的可能的中間層同樣地可以存在。
本發(fā)明還提供生產(chǎn)本發(fā)明的光學(xué)數(shù)據(jù)載體的方法,它的特征在于,光可寫入的信息層通過涂敷至少一種具有通式I的鈷酞菁配合物,如果需要的話與其它吸光性化合物(尤其組分b)的那些)、合適粘結(jié)劑、添加劑和溶劑相結(jié)合而施涂于透明基材上,然后如果需要,該涂敷過的基材被提供反射層,如果需要的話其它中間層和如果需要的話保護(hù)層。
該基材用通式I的吸光性化合物,如果需要的話,與其它染料、粘結(jié)劑和/或溶劑相結(jié)合的涂敷優(yōu)選是通過旋涂或噴涂來進(jìn)行。
為了進(jìn)行該涂敷,通式I的吸光性化合物,優(yōu)選有或者沒有添加劑,溶于合適的溶劑或溶劑混合物中,使得通式I的化合物以100重量份或更低,例如以10-20重量份的量存在,以每100重量份的溶劑計。該可寫入的信息層然后通過噴涂或汽相淀積方法,優(yōu)選在減壓下,來金屬化(反射層),和隨后可能地提供防護(hù)涂層(保護(hù)層)或附加的基材或覆蓋層。具有半透明的反射層的多層組合結(jié)構(gòu)也是可能的。
為了將通式I的吸光性化合物或?qū)⒃摶衔锱c添加劑和/或粘結(jié)劑以及其它吸光性化合物的混合物形成涂料所需要的溶劑或溶劑混合物一方面根據(jù)所述溶劑對于通式I的吸光性化合物和其它添加劑的溶解能力和另一方面它們對于該基材有最低的影響來進(jìn)行選擇。對基材有很少影響的合適溶劑例如是醇,醚,烴類,鹵代烴,烷氧基醇,酮。此類溶劑的例子是甲醇,乙醇,丙醇,2,2,3,3-四氟丙醇,丁醇,雙丙酮醇,芐醇,四氯乙烷,二氯甲烷,乙醚,二丙醚,二丁醚,甲基叔丁基醚,甲氧基乙醇,乙氧基乙醇,1-甲基-2-丙醇,甲基乙基酮,4-羥基-4-甲基-2-戊酮,己烷,環(huán)己烷,乙基環(huán)己烷,辛烷,苯,甲苯,二甲苯。優(yōu)選的溶劑是烴類和醇類,因為它們對基材有最低的影響。
可寫入的信息層所用的合適添加劑是穩(wěn)定劑,潤濕劑,粘結(jié)劑,稀釋劑和增感劑。
吸光性化合物應(yīng)該優(yōu)選能夠以加熱途徑來改變。該熱變化優(yōu)選在<600℃的溫度下發(fā)生。該變化能夠是,例如,吸光性化合物的發(fā)色中心的分解或化學(xué)變化。
除信息層外,其它的層如金屬層,電介質(zhì)層和保護(hù)層可以存在于該光學(xué)數(shù)據(jù)載體中。金屬和電介質(zhì)層,尤其,用于調(diào)節(jié)反射率和熱吸收/保留(Wrmehaushalts)。取決于激光波長,金屬能夠金,銀,鋁等等。電介質(zhì)層的例子是二氧化硅和氮化硅。保護(hù)層是,例如,可光致固化的涂層,(壓敏)粘合層和保護(hù)膜。
壓敏粘合劑層主要由丙烯酸粘合劑組成。在專利JP-A 11-273147中公開的Nitto Denko DA-8320或DA-8310能夠例如用于這一目的。
該光學(xué)數(shù)據(jù)載體具有,例如,下列層狀結(jié)構(gòu)(參見

圖1)透明基材(1),如果需要的話保護(hù)層(2),信息層(3),如果需要的話保護(hù)層(4),如果需要的話粘合劑層(5),覆蓋層(6)。
光學(xué)數(shù)據(jù)載體的結(jié)構(gòu)優(yōu)選-包括優(yōu)選透明的基材(1),它的表面涂敷了能夠利用光(優(yōu)選激光)進(jìn)行寫的至少一層光可寫的信息層(3),如果需要的話保護(hù)層(4),如果需要的話粘合劑層(5)和透明覆蓋層(6)。
-包括優(yōu)選透明的基材(1),它的表面涂敷了保護(hù)層(2),能夠利用光(優(yōu)選激光)進(jìn)行寫的至少一層光可寫的信息層(3),如果需要的話保護(hù)層(5)和透明覆蓋層(6)。
-包括優(yōu)選透明的基材(1),它的表面任選地涂敷了保護(hù)層(2),可利用光(優(yōu)選激光)進(jìn)行寫的至少一層光可寫的信息層(3),如果需要的話保護(hù)層(4),如果需要的話粘合劑層(5)和透明覆蓋層(6)。
-包括優(yōu)選透明的基材(1),它的表面涂敷了能夠利用光(優(yōu)選激光)進(jìn)行寫的至少一層光可寫的信息層(3),如果需要的話粘合劑層(5)和透明覆蓋層(6)。
另外地,光學(xué)數(shù)據(jù)載體具有例如下列層狀結(jié)構(gòu)(參見圖2)優(yōu)選透明的基材(11),信息層(12),如果需要的話反射層(13),如果需要的話粘合劑層(14),附加的優(yōu)選透明的基材(15)。
另外地,光學(xué)數(shù)據(jù)載體具有例如下列層狀結(jié)構(gòu)(參見圖3)優(yōu)選透明的基材(21),信息層(22),如果需要的話反射層(23),保護(hù)層(24)。
本發(fā)明進(jìn)一步提供了利用藍(lán)光,紅光或紅外光,尤其激光,尤其紅外激光進(jìn)行寫的根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)數(shù)據(jù)載體。
下列實施例用于說明本發(fā)明的主題。
實施例下面的制備實施例說明了根據(jù)本發(fā)明所用的染料的制備方法。
實施例1將11.5g的鈷酞菁在室溫下引入到700ml的干燥乙醇中。添加19.5g的KCN,混合物回流6小時。在冷卻到RT之后,混合物進(jìn)行抽濾和固體用水和乙醇洗滌。所獲得的染料在減壓下干燥。
這得到了12.5g的以下通式的染料 λmax689nm(NMP)。
下面的化合物能夠以相同的摩爾量使用其它鈷酞菁來類似地制備。
Fe=二茂鐵基實施例17將11.5g的鈷酞菁在室溫下引入到700ml的干燥乙醇中。添加29.5g的KSCN,混合物回流10小時。在冷卻到RT之后,混合物進(jìn)行抽濾和固體用水和乙醇洗滌。所獲得的染料在減壓下干燥。
這得到了10.5g的以下通式的染料 實施例18將11.5g的鈷酞菁在室溫下引入到700ml的干燥乙醇中。添加31g的叔丁醇鉀,混合物回流10小時。在冷卻到RT之后,混合物進(jìn)行抽濾和固體用水和乙醇洗滌。所獲得的染料在減壓下干燥。
這得到了8.5g的以下通式的染料 λmax685nm(NMP)。
實施例19將5g的實施例6的染料在室溫下引入到700ml的干燥乙醇中。添加0.5g的高氯酸鋰,混合物在RT下攪拌12小時。在冷卻到5℃之后,混合物進(jìn)行抽濾。溶液在旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器上蒸干。將殘留物懸浮于水中,進(jìn)行抽濾和用水洗滌。所獲得的染料在減壓下干燥。
這得到了4.1g的以下通式的染料
λmax709nm(NMP)。
實施例20將11g的實施例6的染料在室溫下引入到1升干燥乙醇中。添加3g的二茂鐵四氟硼酸鹽,混合物在RT下攪拌12小時。沉淀的染料進(jìn)行抽濾。所獲得的染料在減壓下干燥。
這得到了4.1g的以下通式的染料 λmax711nm(NMP)。
實施例21將10g的四-α-(2,4-二甲基-3-戊氧基)-Co-酞菁在室溫下引入到500ml的干燥乙醇中。添加3.6g的四乙基銨氰化物,混合物回流8小時。在冷卻之后,混合物被傾倒在水中,然后進(jìn)行抽濾。該殘留物用水洗滌。所獲得的染料在減壓下干燥。
這得到了11g的以下通式的染料 λmax707nm(NMP)。
實施例22將10g的四-α-(2,4-二甲基-3-戊氧基)-Co-酞菁在室溫下引入到500ml的干燥乙醇中。添加4.5g的四丁基銨氰化物,混合物回流8小時。在冷卻之后,混合物被傾倒在水中,然后進(jìn)行抽濾。該殘留物用水洗滌。所獲得的染料在減壓下干燥。
這得到了11g的以下通式的染料 λmax706nm(NMP)。
實施例23在室溫下將10g的四-α-(2-丁基硫基)-Co-酞菁引入到500ml的干燥乙醇中。添加4.5g的四乙基銨氰化物,混合物回流8小時。在冷卻之后,混合物被傾倒在水中,然后進(jìn)行抽濾。該殘留物用水洗滌。所獲得的染料在減壓下干燥。
這得到了12g的以下通式的染料 λmax711nm(NMP)。
實施例24在室溫下制備實施例6的染料在2,2,3,3-四氟丙醇中的3.8%濃度的溶液。這一溶液利用旋涂法被施涂于預(yù)先刻槽的(pregrooved)聚碳酸酯基材上。預(yù)先刻槽的聚碳酸酯基材已經(jīng)利用注射模塑法作為盤片形式制得。盤片的尺寸和凹槽結(jié)構(gòu)對應(yīng)于通常用于CD-R的那些。有染料層作為信息載體的該盤片通過汽相淀積法涂敷了100nm的Ag。UV可固化的丙烯酸涂料隨后通過旋涂法進(jìn)行涂敷和利用UV燈來固化。在6mW的寫功率和簡單的寫速率(1.4m/s)下在CD-R的商業(yè)試驗寫裝置(PulstecOMT 2000×4)中進(jìn)行寫之后,讀取該信息可得到對于11T信號來說的75%的調(diào)制高度(>60%是CD-R的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn))。
實施例25
在室溫下制備實施例19的染料在2,2,3,3-四氟丙醇中的3.8%濃度的溶液。這一溶液利用旋涂法被施涂于預(yù)先刻槽的(pregrooved)聚碳酸酯基材上。預(yù)先刻槽的聚碳酸酯基材已經(jīng)利用注射模塑法作為盤片形式制得。盤片的尺寸和凹槽結(jié)構(gòu)對應(yīng)于通常用于CD-R的那些。有染料層作為信息載體的該盤片通過汽相淀積法涂敷了100nm的Ag。UV可固化的丙烯酸涂料隨后通過旋涂法進(jìn)行涂敷和利用UV燈來固化。在6mW的寫功率和簡單的寫速率(1.4m/s)下在CD-R的商業(yè)試驗寫裝置(PulstecOMT 2000×4)中進(jìn)行寫之后,讀取該信息可得到對于11T信號來說的73%的調(diào)制高度(>60%是CD-R的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn))。
權(quán)利要求
1.包括優(yōu)選透明的基材的光學(xué)數(shù)據(jù)載體,該基材任選地已涂敷了一個或多個反射涂層和在其表面上涂敷光可寫型信息層、如果需要的話一個或多個反射層和如果需要的話保護(hù)層或附加基材或覆蓋層,該載體能夠利用紅外光,優(yōu)選激光,特別優(yōu)選具有在750-800nm范圍,尤其在770-790nm范圍的波長的光進(jìn)行寫和讀,其中信息層包括吸光性化合物和如果需要的話粘結(jié)劑,特征在于至少一種鈷(III)酞菁用作吸光性化合物,其中Co金屬中心攜帶兩個軸向取代基R1和R2,該兩個取代基彼此獨立地表示CN、SCN、烷氧基或烷硫基。
2.光學(xué)數(shù)據(jù)載體,其包括作為吸光性化合物的通式I的酞菁 其中CoPc表示鈷(III)酞菁,其中R1和R2相應(yīng)于軸向基團(tuán)和基團(tuán)R3到R6相應(yīng)于酞菁的取代基,式中R1和R2彼此獨立地表示CN,SCN,烷氧基或烷硫基,R3,R4,R5和R6彼此獨立地表示鹵素,氰基,烷基,芳基,烷基胺基,二烷基胺基,烷氧基,芳氧基,芳硫基,烷硫基,SO3H,SO2NR7R8,CO2R12,CONR7R8,NH-COR12或基團(tuán)-(B)m-D,B是選自直接鍵,CH2,CO,CH(烷基),C(烷基)2,NH,S,O或-CH=CH-中的連接單元,其中(B)m是連接單元B的化學(xué)上有意義的組合和m表示1-10,優(yōu)選m=1,D表示以下通式的氧化還原體系的單價基團(tuán) (還原)或 (氧化)或表示金屬茂基或金屬茂羰基基團(tuán),其中金屬中心可以是鈦,錳,鐵,釕或鋨,X1和X2彼此獨立地表示NR′R″,OR″或SR″,Y1表示NR′,O或S,Y2表示NR′,n表示1到10和R′和R″彼此獨立地表示氫,烷基,環(huán)烷基,芳基或雜芳基或形成直接鍵或連接到 或. 鏈的一個碳原子上的橋基,w,x,y和z彼此獨立地表示0到4和w+x+y+z≤12,R7和R8彼此獨立地表示烷基胺基,羥烷基胺基,二烷基胺基,雙羥基烷基胺基,芳基胺基或R7和R8與它們所鍵接的N原子一起形成雜環(huán)族5-,6-或7-元環(huán),有或者沒有其它雜原子,尤其選自O(shè),N和S的雜原子的參與,其中NR7R8尤其表示吡咯烷基,哌啶基或嗎啉基,和Kat+表示陽離子,和R12表示烷基,芳基,雜芳基或氫。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2至少一項的光學(xué)數(shù)據(jù)載體,特征在于光可寫入的信息層包括具有通式I的至少一種鈷酞菁,其中,對于基團(tuán)R1到R8,R,R′,R″,R12術(shù)語“烷基”取代基是C1-C16-烷基,尤其C1-C6-烷基,它們是未被取代的或被鹵素如氯、溴、氟、羥基、氰基和/或C1-C6-烷氧基取代,術(shù)語“烷氧基”取代基是C1-C16-烷氧基,尤其C1-C6-烷氧基,它們是未被取代的或被鹵素如氯、溴、氟、羥基、氰基和/或C1-C6-烷基取代,術(shù)語“環(huán)烷基”取代基優(yōu)選是C4-C8-環(huán)烷基,尤其C5-C6-環(huán)烷基,它們是未被取代的或被鹵素如氯、溴、氟、羥基、氰基和/或C1-C6-烷基取代,術(shù)語“鏈烯基”取代基優(yōu)選是C6-C8-鏈烯基,它是未被取代的或被鹵素如氯、溴、氟、羥基、氰基和/或C1-C6-烷基取代,鏈烯基特別是烯丙基,術(shù)語“雜芳基”取代基優(yōu)選是具有5-到7-元環(huán)的雜環(huán)基團(tuán),它優(yōu)選含有選自N,S和/或O中的雜原子和任選地稠合到芳族環(huán)上或任選地攜帶其它取代基,例如鹵素,羥基,氰基和/或烷基,其中特別優(yōu)選的是吡啶基,呋喃基,噻吩基,噁唑基,噻唑基,咪唑基,喹啉基,苯并噁唑基,苯并噻唑基和苯并咪唑基,術(shù)語“芳基”取代基是C6-C10-芳基,優(yōu)選苯基或萘基,它們是未被取代的或被鹵素如氟,Cl,羥基,C1-C6-烷基,C1-C6-烷氧基,NO2和/或CN取代。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)數(shù)據(jù)載體,特征在于該鈷酞菁相應(yīng)于該通式Ic。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)數(shù)據(jù)載體,特征在于該光可寫入的信息層包括至少一種具有通式I的鈷酞菁,其中R3,R4,R5和R6彼此獨立地表示氯,氟,溴,碘,氰基,甲基,乙基,丙基,異丙基,丁基,異丁基,叔丁基,戊基,叔戊基,羥乙基,3-二甲基胺基丙基,3-二乙基胺基丙基,苯基,對-叔-丁基苯基,對-甲氧基苯基,異丙基苯基,三氟甲基苯基,萘基,甲基胺基,乙基胺基,丙基胺基,異丙基胺基,丁基胺基,異丁基胺基,叔-丁基胺基,戊基胺基,叔-戊基胺基,芐基胺基,甲基苯基己基胺基,羥乙基胺基,氨基丙基胺基,氨基乙基胺基,3-二甲基胺基丙基胺基,3-二乙基胺基丙基-胺基,二乙基胺基乙基胺基,二丁基胺基丙基胺基,嗎啉基丙基胺基,哌啶基丙基胺基,吡咯烷基丙基胺基,吡咯烷酮基丙基胺基,3-(甲基-羥乙基胺基)-丙基胺基,甲氧基乙基胺基,乙氧基乙基胺基,甲氧基丙基胺基,乙氧基丙基胺基,甲氧基乙氧基丙基胺基,3-(2-乙基-己氧基)丙基胺基,異丙氧基丙基胺基,二甲基胺基,二乙基胺基,二乙醇胺基,二丙基胺基,二異丙基胺基,二丁基胺基,二異丁基胺基,二-叔-丁基胺基,二戊基胺基,二-叔-戊基胺基,雙(2-乙基己基)胺基,雙(胺基丙基)胺基,雙(氨基乙基)胺基,雙(3-二甲基胺基丙基)胺基,雙(3-二乙基胺基丙基)胺基,雙-(二乙基胺基乙基)胺基,雙(二丁基胺基丙基)胺基,二(嗎啉基-丙基)胺基,二(哌啶基丙基)胺基,二(吡咯烷基丙基)胺基,二-(吡咯烷酮基丙基)胺基,雙(3-(甲基-羥乙基胺基)丙基)胺基,二甲氧基乙基胺基,二乙氧基乙基胺基,二甲氧基丙基胺基,二乙氧基丙基胺基,二(甲氧基乙氧基乙基)胺基,二(甲氧基乙氧基-丙基)胺基,雙(3-(2-乙基己氧基)丙基)胺基,二(異丙氧基-異丙基)胺基,甲氧基,乙氧基,丙氧基,異丙氧基,丁氧基,異丁氧基,叔-丁氧基,戊氧基,叔-戊基氧基,甲氧基乙氧基,乙氧基乙氧基,甲氧基丙氧基,乙氧基丙氧基,甲氧基乙氧基-丙氧基,3-(2-乙基己氧基)丙氧基,苯基,甲硫基,乙硫基,丙硫基,異丙硫基,丁基硫基,異丁硫基,叔-丁基硫基,戊基硫基,叔-戊基硫基,甲氧基苯基,三氟甲基苯基,萘基,CO2R12,CONR7R8,NH-COR12,SO3H,SO2NR7R8,或以下通式的基團(tuán) 或 其中(B)m表示 或 其中該星號(*)表示連接到該5-元環(huán)上的連接點,w,x,y和z彼此獨立地表示0到4和w+x+y+z≤12,Kat+表示鋰陽離子,鈉陽離子,鉀陽離子,四丁基銨陽離子,四丙基銨陽離子,四乙基銨陽離子,四甲基銨陽離子,三乙基氧鎓陽離子,三苯基碳鎓陽離子,二苯基碘鎓陽離子,N-乙基吡啶鎓陽離子或二茂鐵陽離子,NR7R8表示氨基,甲基胺基,乙基胺基,丙基胺基,異丙基胺基,丁基胺基,異丁基胺基,叔-丁基胺基,戊基胺基,叔-戊基胺基,芐基胺基,甲基苯基己基胺基,2-乙基-1-己基胺基,羥乙基-胺基,胺基丙基胺基,胺基乙基胺基,3-二甲基胺基丙基胺基,3-二乙基胺基丙基胺基,嗎啉基丙基胺基,哌啶基丙基胺基,吡咯烷基丙基胺基,吡咯烷酮基丙基胺基,3-(甲基-羥乙基胺基)丙基胺基,甲氧基乙基胺基,乙氧基乙基胺基,甲氧基丙基胺基,乙氧基丙基胺基,甲氧基乙氧基丙基胺基,3-(2-乙基己氧基)丙基胺基,異丙氧基異丙基胺基,二甲基胺基,二乙基胺基,二丙基胺基,二異丙基胺基,二丁基胺基,二異丁基胺基,二-叔-丁基胺基,二戊基胺基,二-叔-戊基胺基,雙(2-乙基己基)胺基,二羥基乙基胺基,雙(氨基丙基)胺基,雙(氨基乙基)胺基,雙(3-二甲基胺基丙基)胺基,雙(3-二乙基-胺基丙基)胺基,二(嗎啉基丙基)胺基,二(哌啶基丙基)胺基,二(吡咯烷基丙基)胺基,二(吡咯烷酮基丙基)胺基,雙(3-(甲基-羥乙基胺基)丙基)胺基,二甲氧基乙基胺基,二乙氧基-乙基胺基,二甲氧基丙基胺基,二乙氧基丙基胺基,二(甲氧基-乙氧基丙基)胺基,雙(3-(2-乙基己氧基)丙基)胺基,二(異丙氧基-異丙基)胺基,苯胺基,對-甲苯基胺基,對-叔-丁基苯胺基,對-甲氧苯胺基,異丙基苯胺基或萘基胺基或NR7R8尤其表示吡咯烷基,哌啶基,哌嗪基或嗎啉基,R12表示氫,甲基,乙基,丙基,異丙基,丁基,異丁基,叔丁基,戊基,叔戊基,苯基,對-叔-丁基苯基,對-甲氧基苯基,異丙基苯基,對-三氟甲基苯基,氰基苯基,萘基,4-吡啶基,2-吡啶基,2-喹啉基,2-吡咯基或2-吲哚基,其中該烷基,烷氧基,芳基和雜環(huán)基可以,如果需要,攜帶其它基團(tuán)如烷基,鹵素,羥基,羥烷基,氨基,烷基胺基,二烷基胺基,硝基,氰基,CO-NH2,烷氧基,烷氧基羰基,嗎啉基,哌啶基,吡咯烷基,吡咯烷酮基,三烷基甲硅烷基,三烷基硅氧基或苯基,該烷基和/或烷氧基基團(tuán)可以是飽和的,不飽和的,直鏈的或支化的,該烷基可以部分地鹵代或全鹵代,該烷基和/或烷氧基基團(tuán)可以是乙氧基化或丙氧基化或甲硅烷基化的,在芳基或雜環(huán)基上的相鄰?fù)榛?或烷氧基基團(tuán)可以一起形成三-或四-元橋連基。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)數(shù)據(jù)載體,特征在于光可寫入的信息層另外含有與(I)不同的含金屬或不含金屬的酞菁,其中該中心原子是選自Si,Zn,Al,Cu,Pd,Pt,Au和Ag,尤其Cu或Pd。
7.具有已經(jīng)寫的信息層的光學(xué)數(shù)據(jù)載體,它可利用700到830nm,優(yōu)選750-800nm的波長的光在根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)數(shù)據(jù)載體上進(jìn)行寫操作來獲得。
8.生產(chǎn)根據(jù)權(quán)利要求1的光學(xué)數(shù)據(jù)載體的方法,特征在于該光可寫入的信息層可通過利用通式I的鈷酞菁,如果需要的話與合適的粘結(jié)劑、添加劑和合適的溶劑相結(jié)合進(jìn)行涂敷而施涂于透明基材上,然后這一涂敷過的基材提供有如果需要的話反射層,如果需要的話附加的中間層和,如果需要的話保護(hù)層。
9.通式(I)的鈷酞菁在光學(xué)數(shù)據(jù)存儲體的光可寫的信息層中作為吸光性化合物的用途。
10.通式Ic的化合物 其中Halogen表示氯,溴或氟,Alkoxy表示C1-C8-烷氧基,它是取代的或未被取代的和a表示0到4的數(shù),b表示0到10的數(shù),c表示0到8的數(shù),其中a,b和c的總和是≤12,和R1,R2,R7,R8,Kat+和CoPc是如以上所定義。
11.制備根據(jù)權(quán)利要求10的化合物的方法,其特征在于被通式SO2NR7R8的磺酰胺基團(tuán),其中R7和R8如以上所定義,和任選地被鹵素和/或烷氧基基團(tuán)取代的鈷酞菁被氧化和與KatCN、KatSCN、Kat烷氧基或Kat烷硫基反應(yīng)。
12.混合物,包括a)鈷(III)酞菁,它的Co金屬中心攜帶兩個軸向取代基R1和R2,該兩個取代基彼此獨立地表示CN,SCN,烷氧基或烷硫基和b)不同于a)的酞菁,尤其無Co的酞菁。
全文摘要
本發(fā)明涉及包括優(yōu)選透明的基材的光學(xué)數(shù)據(jù)載體,該基材任選地已涂敷了一個或多個反射涂層和在其的表面上涂敷光可寫型信息層、如果需要的話一個或多個反射層和如果需要的話保護(hù)層或附加基材或覆蓋層,該載體能夠利用紅外光,優(yōu)選激光,特別優(yōu)選具有在750-800nm范圍,尤其在770-790nm范圍的波長的光進(jìn)行寫和讀,其中信息層包括吸光性化合物和如果需要的話粘結(jié)劑,特征在于至少一種鈷(III)酞菁用作吸光性化合物,其中Co金屬中心攜帶兩個軸向取代基R
文檔編號G11B7/247GK1513174SQ02810891
公開日2004年7月14日 申請日期2002年3月20日 優(yōu)先權(quán)日2001年3月28日
發(fā)明者H·伯內(nèi)斯, H 伯內(nèi)斯, F·-K·布魯?shù)? げ悸車, W·黑澤, 攬, R·哈根, 固羋廾啄, K·哈森呂克, 遣 , S·科斯特羅米尼, 蠖 , P·蘭登伯格, な┧ , R·奧澤爾, 指穸, T·索默曼, J·-W·施塔維茨, T·比林格爾 申請人:拜爾公司
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