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能隙參考電路的制作方法

文檔序號:6282331閱讀:276來源:國知局

專利名稱::能隙參考電路的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
:本發(fā)明涉及能隙電壓(BandgapVoltage)的產(chǎn)生,特別是涉及一種能隙參考電路(BandgapReferenceCircuit)。
背景技術(shù)
:請參考圖1,圖1為已知的能隙參考電路(BandgapReferenceCircuit)100的示意圖。如圖l所示,能隙參考電路100中的電流Il為與絕對溫度成正比(ProportionalToAbsoluteTemperature,PTAT)的電流(一般通稱為PTAT電流)。電流Il與雙才及結(jié)型晶體管(BipolarJunctionTransistor,BJT)Ql-O、Ql-l、Ql-2.....與Ql-N以及電阻R1相關(guān),并可通過下列方程式來表示11=VT*ln(N)/Rl;其中熱當(dāng)電壓(ThermalVoltage)VT=(k*T)/q,而k則代表波茲曼常數(shù)(BoltzmannConstant),T代表絕對溫度,以及q代表電荷電量。另外,能隙參考電路100中的電流12可稱為與絕對溫度成互補(ComplementaryToAbsoluteTemperature,CTAT)的電流(一^:通稱為CTAT電流,其具有隨著絕對溫度增加而減少的特性)。電流I2與雙極結(jié)型晶體管Ql-0以及電阻R2相關(guān),并可通過下列方程式來表示12=VEB0/R2;其中VEBo代表雙極結(jié)型晶體管Ql-0的射極(Emitter)對基極(Base)電壓。能隙參考電路100在其輸出端子所輸出的能隙電壓VREF依據(jù)(Il+12)來產(chǎn)生,能隙電壓VREF可通過下列方程式來表示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>.參考圖2,圖2為已知的能隙參考電路200的示意圖,其中P型金屬氧化物半導(dǎo)體(MetalOxideSemiconductor,MOS)晶體管Ml'、M2'、與M3,也可分別采用圖1所示的P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管Ml、M2、與M3來實施,放大器210也可采用圖1所示的放大器110來實施,而二極管D2-0、D2-l、D2-2.....與D2-N也可分別采用所述的雙極結(jié)型晶體管Ql-O、Ql-l、Ql-2.....與Q1-N來實施。能隙參考電路200中的電流I1,可通過下列方程式來表示ir=AVEB,/Rl,................................................(1);其中AVeb,在此代表二板管跨圧V則與V組(VD2-2、VD2-3.....V訓(xùn))的差值;二極管跨壓即二極管兩端子之間的電壓。請注意,電壓veb,如果依據(jù)廣義的觀點則可代表二極管(例如二極管D2-0)兩端子之間的電壓,若依據(jù)狹義的觀點則可代表采用上述的雙極結(jié)型晶體管來實施二極管(例如二極管D2-0)時,二極管兩端子之間的電壓。另外,能隙參考電路200中的電流I2,可通過下列方程式來表示12,二(Veb,-VREF,)/R2,.......................................(2);其中VREF,代表能隙參考電路200在其輸出端子所輸出的能隙電壓。能隙電壓VREF,也可通過下列方程式來表示VREF,=(11,+3*12,)*R3,....................................(3)。將方程式(1)與(2)代入方程式(3),可得VREF,=C*((R2,/(3*Rl,))*AVEB,+VEB,)............(4);其中C=(3*R3,)/(R2,+3*R3')。將AVEB,=VT*In(N)代入方程式(4),可得VREF,=C*((R2,/(3*Rl,))*VT*ln(N)+VEB,)。依據(jù)已知技術(shù),若想利用如圖2所示的較新框架來產(chǎn)生能隙電壓,通常需要相當(dāng)大的電路面積來實施電阻R2,。尤其是在低電壓條件時,圖2所示的二極管D2-1、D2-2.....D2-N的每一個都需要較大的電路面積,所以其數(shù)量N相當(dāng)受限,不能依據(jù)設(shè)計所需來隨意增加。由于上述的二極管的數(shù)量N不能隨意增加,采用更大的電路面積來實施電阻R2,會成為在某些狀況下必然的結(jié)果;這便會降低批量生產(chǎn)時的經(jīng)濟效益。因此,已知技術(shù)尚有進一步改善的空間。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的之一在于提供能隙參考電路(BandgapReferenceCircuit)。本發(fā)明的一實施例中提供一種能隙參考電路,用來產(chǎn)生一能隙電壓(BandgapVoltage)。該能隙參考電路包含有一電流產(chǎn)生器,用來產(chǎn)生一輸出電流,該電流產(chǎn)生器包含多個參考單元,該多個參考單元包含一第一參考單元與多個平行的第二參考單元,該電流產(chǎn)生器可依據(jù)該多個參考單元決定該輸出電流的大小,其中該輸出電流的第一部分為具有負溫度系數(shù)的電流,以及該輸出電流的第二部分為具有正溫度系數(shù)的電流;一第一電阻,耦接于該第一參考單元的一第一端子(Terminal)與一節(jié)點之間,用來傳送(Transmit)—第一電流;一第二電阻,耦接至該節(jié)點與每一個第二參考單元的第一端子,用來傳送一第二電流;一第三電阻,耦接于該節(jié)點與該能隙參考電路的一輸出端子之間,用來傳送一第三電流,該第三電流的大小等于該第一電流的大小與該第二電流的大小的和;以及一電流/電壓轉(zhuǎn)換器(Current-to-voltageConverter),耦接至該第三電阻,用來依據(jù)該輸出電流與該第三電流產(chǎn)生該能隙電壓。本發(fā)明在提供上述的能隙參考電路的同時,也對應(yīng)地提供一種用來產(chǎn)生能隙電壓的方法。該方法包含有提供一電流產(chǎn)生器,該電流產(chǎn)生器包含多個參考單元,用來決定一輸出電流的大小,該多個參考單元包含一第一參考單元與多個平行的第二參考單元;提供一第一電阻、一第二電阻、以及一第三電阻;提供一電流/電壓轉(zhuǎn)換器;將該第一電阻耦接于該第一參考單元的一第一端子與一節(jié)點之間,以傳送一第一電流;將該第二電阻耦接至該節(jié)點與每一第二參考單元的第一端子,以傳送一第二電流;將該第三電阻耦接于該節(jié)點與該能隙參考電路的一輸出端子之間,以傳送一第三電流,該第三電流的大小等于該第一電流的大小與該第二電流的大小的和;利用(Utilize)該電流產(chǎn)生器產(chǎn)生該輸出電流,其中該輸出電流的第一部分為具有負溫度系數(shù)的電流,以及該輸出電流的第二部分為具有正溫度系數(shù)的電流;以及利用該電流/電壓轉(zhuǎn)換器依據(jù)該輸出電流與該第三電流產(chǎn)生該能隙電壓。圖1為已知的能隙參考電路(BandgapReferenceCircuit)的示意圖。圖2為已知的能隙參考電路的示意圖。圖3為本發(fā)明的一實施例中所提供的能隙參考電路的示意圖。圖4為圖2所示的能隙參考電路在PTNT條件下所產(chǎn)生的能隙電壓的示意圖。圖5為圖3所示的能隙參考電路在PTNT條件下所產(chǎn)生的能隙電壓的示意圖。圖6為圖2所示的能隙參考電路在PFNF條件下所產(chǎn)生的能隙電壓的示意圖。圖7為圖3所示的能隙參考電路在PFNF條件下所產(chǎn)生的能隙電壓的示意圖。圖8為圖2所示的能隙參考電路在PSNS條件下所產(chǎn)生的能隙電壓的示意圖。圖9為圖3所示的能隙參考電路在PSNS條件下所產(chǎn)生的能隙電壓的示意圖。圖10為本發(fā)明的一實施例中針對圖3所示的能隙參考電路與圖2所示的能隙參考電路的相對應(yīng)電阻值的比銀表。附圖符號說明<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>VREF,VREP,VREF,,能隙電壓具體實施例方式請參考圖3,圖3為本發(fā)明的第一實施例中所提供的能隙參考電路(BandgapReferenceCircuit)300的示意圖。能隙參考電路300包含有一電流產(chǎn)生器,其中該電流產(chǎn)生器包含多個參考單元,該多個參考單元包含一第一參考單元與多個平行的第二參考單元。在本實施例中,該第一參考單元為二極管D3-0,而該多個第二參考單元為二極管D3-l、D3-2.....與D3-N,其中二極管D3-0、D3-l、D3-2.....與D3-N可分別采用圖2所示的二極管D2-0、D2-l、D2-2.....與D2-N來實施,也可分別采用圖1所示的雙極結(jié)型晶體管(BipolarJunctionTransistor,BJT)Ql-O、Ql-l、Ql-2、…、與Q1-N來實施。依據(jù)圖3所示的實施例,該電流產(chǎn)生器還包含電阻R1"、放大器310、多個P型金屬氧化物半導(dǎo)體(MetalOxideSemiconductor,MOS)晶體管,其中放大器310也可采用上述的放大器210或U0來實施,而P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管M1"、M2"、與M3"可分別采用上述的P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管M1'、M2'、與M3,來實施,也可分別采用上述的P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管M1、M2、與M3來實施。如圖3所示,P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管M1"、M2"、與M3"中每一個的柵極(Gate)都耦接至放大器310的一輸出端子,P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管M1"、M2"、與M3"中每一個的源極(Source)都耦接至一操作電壓VCC。另外,P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管Ml"的漏極(Drain)耦接至該第一參考單元,其中本實施例的第一參考單元為二極管D3-0,P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管Ml,,的漏極耦接至二極管D3-0的正端子,且二極管D3-0的負端子耦接至一參考電平(ReferenceLevel),例如圖3所示的接地電平(GroundLevel)。此外,金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管M2"的漏極耦接至電阻Rl"的上方端子,而電阻R1"的下方端子耦接至每一第二參考單元,其中本實施例的第二參考單元為二極管D3-l、D3-2.....與D3-N,每一個二極管D3-l、D3-2.....D3-N的正端子耦接至電阻R1"的下方端子,且每一個二極管D3-1、D3-2.....D3-N的負端子耦接至一參考電平,例如圖3所示的接地電平。依據(jù)本實施例,放大器310包含有一正輸入端子與一負輸入端子,分別耦接至電阻R1"的上方端子以及二極管D3-0的正端子。依據(jù)該第一實施例,能隙參考電路300還包含有三個電阻,彼此耦接于節(jié)點A,其中電阻R2"還耦接至能隙參考電路300右方的輸出端子(即標示能隙電壓VREF"處)。在本實施例中,節(jié)點A左側(cè)電阻的電阻值的大小實質(zhì)上(Substantially)等于節(jié)點A右側(cè)電阻的電阻值的大小,故在此均標示為RA。如圖3所示,能隙參考電路300還包含有一電流/電壓轉(zhuǎn)換器(Current-to-voltageConverter),耦接至能隙參考電路300右方的輸出端子,其中本實施例的電流/電壓轉(zhuǎn)換器為電阻R3",電阻R3"的上方端子耦接至電阻R2"與能隙參考電路300的輸出端子,且電阻R3"的下方端子耦接至一參考電平,例如上述的接地電平。如圖3所示,節(jié)點A左側(cè)電阻耦接于節(jié)點A與二極管D3-0的正端子之間,以將P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管Ml"的漏極所輸出的電流(I1"+IA)中的電流IA傳送(Transmit)至節(jié)點A,其余的電流Il"則被傳送至二極管D3-0的正端子。相似地,節(jié)點A右側(cè)電阻耦接于節(jié)點A與電阻R1"的上方端子之間,以將P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管M2"的漏極所輸出的電流(I1"+IA)中的電流IA傳送至節(jié)點A,其余的電流I1"則通過電阻R1"傳送至二極管D3-1、D3-2.....與D3-N的正端子。此外,電阻R2"則將電流12"從節(jié)點A傳送至電阻R3"的上方端子,其中電流I2"的大小等于分別通過兩電阻RA所傳送的兩電流IA的大小的和,即12"=2*IA。本實施例的電流產(chǎn)生器產(chǎn)生一輸出電流(11"+IA),并通過P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管1^3"的漏極將輸出電流(11"+IA)輸出至電阻R3"的上方端子,其中該電流產(chǎn)生器可依據(jù)該多個參考單元決定輸出電流(I1"+IA)的大小。上述的電流/電壓轉(zhuǎn)換器(在本實施例中即為電阻R3")可依據(jù)輸出電流(I1"+IA)與電流I2"產(chǎn)生能隙電壓VREF"。依據(jù)本實施例,該電流/電壓轉(zhuǎn)換器將輸出電流(I1"+IA)與電流12"的總電流(I1"+IA+12")轉(zhuǎn)換為能隙電壓VREF,,,其中12"=2*1八,故該總電流為(I1"+3"A)。請注意,輸出電流(ir,十ia)中的第一部分(即電流n")為具有負溫度系數(shù)的電流,而輸出電流(ir,+iA)的第二部分(即電流iA)為具有正溫度系數(shù)的電流,且本實施例的輸出電流(11"+IA)的該第一部分與該第二部分為同方向的電流。本實施例通過該總電流(11"+3*IA)中的負溫度系數(shù)的電流11"與正溫度系數(shù)的電流(3*IA)的互補特性,使得能隙參考電路300在預(yù)先設(shè)計妥當(dāng)?shù)牟僮鞣秶鷥?nèi)所產(chǎn)生的總電流(ir,+3*iA)對溫度的變化實質(zhì)上不變,藉此產(chǎn)生對溫度的變化實質(zhì)上不變的能隙電壓VREF"。能隙參考電路300的工作原理說明如下能隙參考電路300中的電流I1"可通過下列方程式來表示I1"=AVEB,,/Rr,.............................................(5);其中AVEB,,在本實施例中代表二極管跨壓Vd3-0與Vd3.,(Vd3-2、Vdw、...、Vd3.n)的差植;二極管跨壓即二極管兩端子之間的電壓。請注意,電壓VEB"如果依據(jù)廣義的觀點則可代表二極管(例如二極管D3-0)兩端子之間的電壓,若依據(jù)狹義的觀點則可代表采用上述的雙極結(jié)型晶體管來實施二極管(例如二極管D3-0)時,二極管兩端子之間的電壓。另外,能隙參考電路300中的電流IA可通過下列方程式來表示IA=(VEB"-VA)/RA..........................................(6);其中VA代表節(jié)點A的電壓。此外,能隙參考電路300中的電流I2"可通過下列方程式來表示I2"=(VA-VREF")/R2,,=2*IA...........................(7)。由方程式(6)與(7)可得VA=(2*R2"*Veb,,+RA*VREF")/(RA+2*R2").(8)。將方程式(8)代入方程式(6),可得IA=(Veb"-VREF,,)/(RA+2*R2")........................(9)。另外,能隙電壓VREF"可通過下列方程式來表示VREF"=(n,,+3*IA)*R3"..................................(10)。將方程式(5)與方程式(9)代入方程式(10),可得VREF"=C31*(C32*AVEB"+VEB,,)....................(11);其中C31=(3*R3")/(RA+2*R2,,+3*R3,,),且C32=(RA+2*R2")/(3*Rl")。以下依據(jù)某些操作條件,對該第一實施例所提供的能隙參考電路300與已知的能隙參考電路200進行比較,其中操作電壓VCC的范圍為0.9V至1.1V,操作接面溫度(OperatingJunctionTemperature)的范圍為-40。C至125°C,且用來制作芯片的制程為卯納米(nm)制程。因此,能隙參考電路300中的二極管D3-0所占的面積與能隙參考電路200中的二極管D2-0所占的面積一致,均為98微米(jim)*.98微米的大小。相似地,能隙參考電路300中的二極管D3-l、D3-2.....D3-N所占的面積與能隙參考電路200中的二極管D2-1、D2-2.....D2-N所占的面積一致。4妻下來用幾項制程變異條件(尤指所謂的「ProcessCorner」)PTNT、PFNF、與PSNS來進一步說明,其中圖4至圖9當(dāng)中的每一圖繪示了電路仿真程序所產(chǎn)生的三條仿真曲線,由上至下的三條曲線分別對應(yīng)于1.1V、1.0V、與0.9V的操作電壓vcc。請參考圖4與圖5,圖4為圖2所示的能隙參考電路200在PTNT條件下所產(chǎn)生的能隙電壓VREF,的示意圖,而圖5則為圖3所示的能隙參考電路300在PTNT條件下所產(chǎn)生的能隙電壓VREF"的示意圖,其中這兩組曲線相似,代表能隙參考電路300可達到與能隙參考電路200相似的效能。請參考圖6與圖7,圖6為圖2所示的能隙參考電路200在PFNF條件下所產(chǎn)生的能隙電壓VREF,的示意圖,'而圖7則為圖3所示的能隙參考電路300在PFNF條件下所產(chǎn)生的能隙電壓VREF"的示意圖,其中這兩組曲線相似,代表能隙參考電路300可達到與能隙參考電路200相似的效能。請參考圖8與圖9,圖8為圖2所示的能隙參考電路200在PSNS條件下所產(chǎn)生的能隙電壓VREF,的示意圖,而圖9則為圖3所示的能隙參考電路300在PSNS條件下所產(chǎn)生的能隙電壓VREF"的示意圖,其中這兩組曲線相似,代表能隙參考電路300可達到與能隙參考電路200相似的效能。以下依據(jù)該第一實施例的一變化例(其為該第一實施例的一特殊狀況),針對能隙參考電路300中所使用的電阻R1"、RA、R2"、與R3"的總電阻(R1"+2*RA+R2,,+R3,,)以及能隙參考電路200中所使用的電阻R1,、R2'、與R3,的總電阻(R1,+2承R2,+R3,)來進行比較。依據(jù)此變化例,圖3所示的放大器310、P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管Ml"、M2"、與M3"以及二極管D3-0、D3-l、D3-2.....與D3-N分別采用圖2所示的放大器210、P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管Ml'、M2'、與M3,以及二極管D2-0、D2-l、D2-2.....與D2-N來實施。此外,圖3所示的電阻R1"與R3"分別采用圖2所示的電阻R1,與R3,來實施(即R1,,=R1,,且R3,^R3,)。若利用能隙參考電路300來產(chǎn)生與能隙電壓VREF,大小相同的能隙電壓VREF"(即VREF"=VREF,),則可將方程式(11)與(4)代入VREF,-VREF,并加以化簡,得RA+2*R2,,=R2,。于是,上述的總電阻(R1,+2*R2,+R3,)與總電阻(R1"+2*RA+R2"+R3")兩者之間差值可計算如下(Rl,+2*R2,+R3,)-(Rl,,+2*RA+R2,,+R3")=(Rl"+2*R2,+R3,,)-(Rl,,+2*RA+R2"+R3")=(2*R2,)-(2*RA+R2")=(2*(RA+2*R2"))-(2*RA+R2")=3*R2,,;也就是說,能隙參考電路300相對于能隙參考電路200可節(jié)省相當(dāng)于三倍電阻R2,,所占的電路面積。因此,相對于已知的能隙參考電路200,本發(fā)明提供了提高產(chǎn)量的具體實施方法。圖10為本發(fā)明的一實施例中針對圖3所示的能隙參考電路300與圖2所示的能隙參考電路200的相對應(yīng)電阻值的比較表,其中能隙參考電路300中所使用的電阻R1"、RA、R2"、與R3"的總電阻(Rl"+2*RA+R2,,+R3")約為能隙參考電路200中所使用的電阻R1'、R2'、與R3,的總電阻(Rl,+2承R2,+R3,)的31.35%,代表能隙參考電路300中所使用的電阻R1"、RA、R2"、與R3"的總面積約為能隙參考電路200中所使用的電阻R1'、R2'、與R3,的總面積的31.35%。依據(jù)該第一實施例的變化例,該多個參考單元也可分別采用動態(tài)閾值(DynamicThreshold)金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管來實施,其中該變化例的動態(tài)閾值金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管尤其為動態(tài)閾值N型金屬氧化物半導(dǎo)體(PTNMOS)晶體管。依據(jù)該第一實施例的另一變化例,該多個參考單元也可分別采用操作于弱反轉(zhuǎn)(WeakInversion)區(qū)的金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管來實施。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例,凡依本發(fā)明權(quán)利要求所做的均等變化與修飾,皆應(yīng)屬本發(fā)明的涵蓋范圍。權(quán)利要求1.一種能隙參考電路,用來產(chǎn)生一能隙電壓,該能隙參考電路包含有一電流產(chǎn)生器,用來產(chǎn)生一輸出電流,該電流產(chǎn)生器包含多個參考單元,該多個參考單元包含一第一參考單元與多個平行的第二參考單元,該電流產(chǎn)生器可依據(jù)該多個參考單元決定該輸出電流的大小,其中該輸出電流的第一部分為具有負溫度系數(shù)的電流,以及該輸出電流的第二部分為具有正溫度系數(shù)的電流;一第一電阻,耦接于該第一參考單元的一第一端子與一節(jié)點之間,用來傳送一第一電流;一第二電阻,耦接至該節(jié)點與每一第二參考單元的一第一端子,用來傳送一第二電流;一第三電阻,耦接于該節(jié)點與該能隙參考電路的一輸出端子之間,用來傳送一第三電流,該第三電流的大小等于該第一電流的大小與該第二電流的大小之和;以及一電流/電壓轉(zhuǎn)換器,耦接至該第三電阻,用來依據(jù)該輸出電流與該第三電流產(chǎn)生該能隙電壓。2.如權(quán)利要求1所述的能隙參考電路,其中該多個參考單元包含有至少一二極管或至少一晶體管。3.如權(quán)利要求2所述的能隙參考電路,其中該多個參考單元包含有該至少一個晶體管,以及該晶體管為雙極結(jié)型晶體管。4.如權(quán)利要求2所述的能隙參考電路,其中該多個參考單元包含該至少一個晶體管,以及該晶體管為動態(tài)域值金屬氧化物半導(dǎo)體)晶體管。5.如權(quán)利要求2所述的能隙參考電路,其中該多個參考單元包含該至少一晶體管,以及該晶體管為操作于弱反轉(zhuǎn)區(qū)的金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管。6.如權(quán)利要求1所述的能隙參考電路,其中該多個參考單元中的每一個參考單元包含一第二端子,耦接至一參考電平。7.如權(quán)利要求6所述的能隙參考電路,其中該參考電平為接地電平。8.如權(quán)利要求1所述的能隙參考電路,其中該電流產(chǎn)生器還包含有一第四電阻,其包含有一第一端子與一第二端子,該第二端子耦接至每一個第二參考單元的該第一端子;一放大器,其包含有一正輸入端子,耦接至該第四電阻的該第一端子,以及一負輸入端子,耦接至該第一參考單元的該第一端子;以及多個p型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管,其中每一p型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管的柵極耦接至該放大器的一輸出端子,每一p型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管的源極耦接至一操作電壓,以及該多個P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管包含有一第一P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管,其漏極耦接至該第一參考單元的該第一端子;一第二P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管,其漏極耦接至該第四電阻的該第一端子;以及一第三P型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管,其漏極輸出該輸出電流至該電流/電壓轉(zhuǎn)換器。9.如權(quán)利要求1所述的能隙參考電路,其中該第一電阻的電阻值的大小實質(zhì)上等于該第二電阻的電阻值的大小。10.如權(quán)利要求1所述的能隙參考電路,其中該第一電流與該第二電流均為具有正溫度系數(shù)的電流。11.如權(quán)利要求1所迷的能隙參考電路,其中該輸出電流的第一部分與第二部分為同方向的電流。12.如權(quán)利要求1所述的能隙參考電路,其中該輸出電流的第一部分的大小實質(zhì)上等于從該第一端子輸入至該第一參考單元的電流的大小,以及該輸出電流的第二部分的大小實質(zhì)上等于該第一電流的大小或該第二電流的大小。13.如權(quán)利要求1所述的能隙參考電路,其中該電流/電壓轉(zhuǎn)換器將該輸出電流與該第三電流的總電流轉(zhuǎn)換為該能隙電壓。14.如權(quán)利要求1所述的能隙參考電路,其中該電流/電壓轉(zhuǎn)換器包含有一第一端子,耦接至該第三電阻,以及一第二端子,耦接至一參考電平。15.如權(quán)利要求14所述的能隙參考電路,其中該參考電平為接地電平。16.如權(quán)利要求1所述的能隙參考電路,其中該電流/電壓轉(zhuǎn)換器為一電阻。17.—種用來產(chǎn)生一能隙電壓的方法,該方法包含有提供一電流產(chǎn)生器,該電流產(chǎn)生器包含多個參考單元,用來決定一輸出電流的大小,該多個參考單元包含一第一參考單元與多個平行的第二參考單元;提供一第一電阻、一第二電阻、以及一第三電阻;提供一電流/電壓轉(zhuǎn)換器;將該第一電阻耦接于該第一參考單元的一第一端子與一節(jié)點之間,以傳送一第一電流;將該第二電阻耦接至該節(jié)點與每一第二參考單元的一第一端子,以傳送一第二電流;將該第三電阻耦接于該節(jié)點與該能隙參考電路的一輸出端子之間,以傳送一第三電流,該第三電流的大小等于該第一電流的大小與該第二電流的大小的和;利用該電流產(chǎn)生器產(chǎn)生該輸出電流,其中該輸出電流的第一部分為具有負溫度系數(shù)的電流,以及該輸出電流的第二部分為具有正溫度系數(shù)的電流;以及利用該電流/電壓轉(zhuǎn)換器依據(jù)該輸出電流與該第三電流產(chǎn)生該能隙電壓。18.如權(quán)利要求17所述的方法,其中利用該電流/電壓轉(zhuǎn)換器依據(jù)該輸出電流與該第三電流產(chǎn)生該能隙電壓的步驟還包含有利用該電流/電壓轉(zhuǎn)換器將該輸出電流與該第三電流的總電流轉(zhuǎn)換為該能隙電壓。19.如權(quán)利要求17所述的方法,其中該多個參考單元包含有至少一二極管或至少一晶體管。20.如權(quán)利要求17所述的方法,其中該第一電阻的電阻值的大小實質(zhì)上等于該第二電阻的電阻值的大小。全文摘要本發(fā)明涉及一種能隙參考電路,其包含一電流產(chǎn)生器,用來產(chǎn)生一輸出電流,該電流產(chǎn)生器包含一第一參考單元與多個平行的第二參考單元,該電流產(chǎn)生器可依據(jù)該參考單元決定該輸出電流的大??;一第一電阻,耦接于該第一參考單元的一第一端子與一節(jié)點之間,用來傳送一第一電流;一第二電阻,耦接至該節(jié)點與每一個第二參考單元的一第一端子,用來傳送一第二電流;一第三電阻,耦接于該節(jié)點與該能隙參考電路的輸出端子之間,用來傳送一第三電流;與一電流/電壓轉(zhuǎn)換器,耦接至該第三電阻,用來依據(jù)該輸出電流與該第三電流產(chǎn)生一能隙電壓。文檔編號G05F3/08GK101286076SQ20071009600公開日2008年10月15日申請日期2007年4月10日優(yōu)先權(quán)日2007年4月10日發(fā)明者彭彥華,王為善申請人:智原科技股份有限公司
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