本技術(shù)涉及面密度檢測，具體為一種面密度全檢檢測機構(gòu)。

背景技術(shù)：

1、在鋰電池極片、薄膜、箔材等面密度檢測中，已從抽檢發(fā)展為全檢，實現(xiàn)全檢的核心思想是線掃，即產(chǎn)生長條形光斑覆蓋整個檢測材料的幅寬，由線陣探測器接收探測，通過標(biāo)定建立信號測量值與面密度之間的關(guān)系，在走帶方向進行連續(xù)檢測，從而實現(xiàn)對寬幅材料的線掃全檢。

2、其中，在x射線面密度檢測方面，產(chǎn)生長條形光斑的方式有以下三種：x射線線源、x射線發(fā)散源和x射線分布源。其缺點如下：

3、（1）x射線線源，搭配線陣探測器前的柵格準(zhǔn)直，是實現(xiàn)全檢的理想方式，但距商業(yè)化的x射線線源還有一定的距離；

4、（2）x射線發(fā)散源，其利用單個的大功率x射線源，通過準(zhǔn)直約束可在寬幅材料上產(chǎn)生長條形光斑，但缺點在于：在幅寬較大時，邊緣位置的射線斜入射角度較大，不利于邊緣面密度輪廓的檢測，且中間與邊緣位置的射線輻射量差距較大，導(dǎo)致邊緣位置的面密度檢測重復(fù)精度與中間位置相差較多；

5、（3）x射線分布源，其焦點分布在一條線上，在同時點亮并在檢測材料上實現(xiàn)射線扇束的拼接，由于檢測材料距離線陣探測器仍有一定距離，故在檢測材料上拼接后，在線陣探測器上會形成射線交叉，這樣的交叉會影響面密度輪廓檢測的準(zhǔn)確性。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的在于提供一種面密度全檢檢測機構(gòu)，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

2、為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：一種面密度全檢檢測機構(gòu)，包括沿檢測材料走帶方向分布的若干組檢測單元，且每組檢測單元沿著檢測材料幅寬方向設(shè)置在同一條直線上，檢測材料幅寬方向上相鄰的兩個檢測單元分別位于不同的直線上，若干所述檢測單元的有效檢測寬度覆蓋檢測材料幅寬。

3、進一步地，若干所述檢測單元的有效檢測寬度在檢測材料的幅寬方向首尾相接，且檢測單元的有效檢測寬度之和大于檢測檢測材料幅寬。

4、進一步地，所述檢測單元結(jié)構(gòu)相同，且檢測單元均包括射線源、安裝在射線源底端的準(zhǔn)直和設(shè)置在準(zhǔn)直正下方的線陣探測器，所述準(zhǔn)直用于將射線源發(fā)射的射線約束成扇形束，扇形束照射至線陣探測器產(chǎn)生長條形光斑，且長條形光斑覆蓋線陣探測器的長度，所述線陣探測器用于接收射線源的射線。

5、進一步地，若干射線源和準(zhǔn)直固定在同一外殼體中，若干線陣探測器固定在同一外殼體中，兩個外殼體之間預(yù)留有容納待檢測材料穿過的間隙，所述射線源和線陣探測器的高度平面與待檢測材料平面相互平行。

6、進一步地，所述射線源和線陣探測器一一對應(yīng)，且任意一個射線源的扇形束，不會照射到其他的線陣探測器上。

7、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型提出的面密度全檢檢測機構(gòu)，產(chǎn)生長條形光斑進行線掃全檢的同時，具備以下有益效果：

8、射線源焦點相鄰交錯分布在兩條直線上，避免射線交叉影響面密度輪廓檢測的準(zhǔn)確性；

9、單個檢測單元在檢測材料上的有效檢測寬度，相鄰檢測單元拼接，應(yīng)對檢測材料幅寬較為靈活，可實現(xiàn)任意寬幅材料的面密度全檢；

10、單個檢測單元的射線扇束角度較小，避免了大角度的斜入射，且長條形光斑上不同位置的輻射量差距較小，整個幅寬面密度檢測的效果較為一致。

技術(shù)特征：

1.一種面密度全檢檢測機構(gòu)，其特征在于：包括沿檢測材料走帶方向分布的若干組檢測單元（1），且每組檢測單元（1）沿著檢測材料幅寬方向設(shè)置在同一條直線上，檢測材料幅寬方向上相鄰的兩個檢測單元（1）分別位于不同的直線上，若干所述檢測單元（1）的有效檢測寬度覆蓋檢測材料幅寬。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的面密度全檢檢測機構(gòu)，其特征在于：若干所述檢測單元（1）的有效檢測寬度在檢測材料的幅寬方向首尾相接，且檢測單元（1）的有效檢測寬度之和大于檢測檢測材料幅寬。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的面密度全檢檢測機構(gòu)，其特征在于：所述檢測單元（1）結(jié)構(gòu)相同，且檢測單元（1）均包括射線源（101）、安裝在射線源（101）底端的準(zhǔn)直（102）和設(shè)置在準(zhǔn)直（102）正下方的線陣探測器（103），所述準(zhǔn)直（102）用于將射線源（101）發(fā)射的射線約束成扇形束，扇形束照射至線陣探測器（103）產(chǎn)生長條形光斑，且長條形光斑覆蓋線陣探測器（103）的長度，所述線陣探測器（103）用于接收射線源（101）的射線。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的面密度全檢檢測機構(gòu)，其特征在于：若干射線源（101）和準(zhǔn)直（102）固定在同一外殼體中，若干線陣探測器（103）固定在同一外殼體中，兩個外殼體之間預(yù)留有容納待檢測材料穿過的間隙，所述射線源（101）和線陣探測器（103）的高度平面與待檢測材料平面相互平行。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的面密度全檢檢測機構(gòu)，其特征在于：所述射線源（101）和線陣探測器（103）一一對應(yīng)，且任意一個射線源（101）的扇形束，不會照射到其他的線陣探測器（103）上。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及面密度檢測技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種面密度全檢檢測機構(gòu)，包括沿檢測材料走帶方向分布的若干組檢測單元，且每組檢測單元沿著檢測材料幅寬方向設(shè)置在同一條直線上，檢測材料幅寬方向上相鄰的兩個檢測單元分別位于不同的直線上，若干所述檢測單元的有效檢測寬度覆蓋檢測材料幅寬，相鄰檢測單元拼接，可實現(xiàn)任意寬幅材料的面密度全檢，同時相鄰兩個檢測單元不在同一條直線上，可以避免射線交叉影響面密度輪廓檢測的準(zhǔn)確性，單個檢測單元的射線扇束角度較小，避免了大角度的斜入射，且長條形光斑上不同位置的輻射量差距較小，整個幅寬面密度檢測的效果較為一致。

技術(shù)研發(fā)人員：朱鵬程,熊根超,曹國平
受保護的技術(shù)使用者：常州銳奇精密測量技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240618
技術(shù)公布日：2025/1/9