本公開涉及一種熒光x射線分析方法和熒光x射線分析裝置。

背景技術：

1、熒光x射線分析是通過對試樣照射x射線并測定從試樣發(fā)出的熒光x射線來對試樣的構成元素進行分析的分析法。在熒光x射線的測定中，使用對x射線檢測器的輸出脈沖進行計數(shù)的計數(shù)電路。

2、例如，在日本特開2017-26371號公報(專利文獻1)所公開的熒光x射線分析裝置中，使用可變衰減器來將對x射線檢測器的輸出脈沖進行計數(shù)的計數(shù)電路的死區(qū)時間(deadtime)(死時間)調(diào)整為最佳值。

3、現(xiàn)有技術文獻

4、專利文獻

5、專利文獻1：日本特開2017-26371號公報

技術實現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的問題

2、在上述的日本特開2017-26371號公報所公開的熒光x射線分析裝置中，存在需要與一般的濾光器及準直器不同的特殊的可變衰減器這一問題。

3、本公開的目的在于提供一種能夠不需要特殊的部件地使對x射線進行計數(shù)的計數(shù)電路的死區(qū)時間與目標值一致的熒光x射線分析方法和熒光x射線分析裝置。

4、用于解決問題的方案

5、本公開的第一方式涉及一種對試樣的構成元素進行分析的熒光x射線分析方法。熒光x射線分析方法包括以下步驟：將試樣配置于熒光x射線分析裝置；將期望的死區(qū)時間率應用于麻痹型模型，來計算x射線管的基準管電流；基于基準管電流來決定x射線管的測定用管電流，使測定用管電流流向x射線管來向試樣照射x射線；以及對向試樣照射述x射線而得到的熒光x射線進行分析。

6、本公開的另一個方面涉及一種分析試樣的構成元素的熒光x射線分析裝置。熒光x射線分析裝置具備：試樣臺，其用于配置試樣；x射線管，其構成為朝向試樣臺照射x射線；檢測器，其對從試樣臺上的試樣放出的熒光x射線進行檢測；以及控制裝置，其控制x射線管和檢測器?？刂蒲b置構成為：將期望的死區(qū)時間率應用于麻痹型模型，來計算x射線管的基準管電流，基于基準管電流來決定x射線管的測定用管電流，使測定用管電流流向x射線管來向試樣照射x射線，并對由檢測器檢測到的熒光x射線進行分析。

7、發(fā)明的效果

8、本公開中的熒光x射線分析方法和熒光x射線分析裝置由于在應用麻痹型模型來決定管電流之后進行正式測定，因此能夠高精度地獲得計數(shù)電路的期望的死區(qū)時間。

技術特征：

1.一種熒光x射線分析方法，用于分析試樣的構成元素，所述熒光x射線分析方法包括以下步驟：

2.根據(jù)權利要求1所述的熒光x射線分析方法，其中，

3.根據(jù)權利要求2所述的熒光x射線分析方法，其中，

4.根據(jù)權利要求1所述的熒光x射線分析方法，其中，

5.根據(jù)權利要求1所述的熒光x射線分析方法，其中，

6.一種熒光x射線分析裝置，用于分析試樣的構成元素，所述熒光x射線分析裝置具備：

7.根據(jù)權利要求6所述的熒光x射線分析裝置，其中，

8.根據(jù)權利要求7所述的熒光x射線分析裝置，其中，

9.根據(jù)權利要求6所述的熒光x射線分析裝置，其中，

10.根據(jù)權利要求6所述的熒光x射線分析裝置，其中，

11.根據(jù)權利要求6所述的熒光x射線分析裝置，其中，

技術總結
熒光X射線分析方法包括以下步驟：步驟(S1)，將試樣配置于熒光X射線分析裝置；步驟(S3)，將期望的死區(qū)時間率應用于麻痹型模型，來計算X射線管的基準管電流；步驟(S4)，基于基準管電流來決定X射線管的測定用管電流，使測定用管電流流向X射線管來向試樣照射X射線；以及步驟(S5)，對向試樣照射X射線而得到的熒光X射線進行分析。由此，能夠高精度地獲得計數(shù)電路的期望的死區(qū)時間。

技術研發(fā)人員：鈴木桂次郎,八島志保,克里恩卡莫爾·坦特拉卡恩
受保護的技術使用者：株式會社島津制作所
技術研發(fā)日：
技術公布日：2024/12/10