基板彎曲裝置、基板彎曲檢查裝置以及基板彎曲檢查方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供基板彎曲裝置、基板彎曲檢查裝置以及基板彎曲檢查方法，根據(jù)本發(fā)明的基板彎曲裝置，包括：工作臺(tái)，形成有通孔；基板吸盤(pán)，支撐所板的彎曲對(duì)象區(qū)域的鄰接面，且通過(guò)所述通孔從所述工作臺(tái)進(jìn)出；升降部，使所述基板吸盤(pán)相對(duì)于所述工作臺(tái)進(jìn)行上升或下降；以及覆蓋構(gòu)件，以覆蓋所述基板的狀態(tài)緊貼于所述工作臺(tái)，利用所述基板吸盤(pán)和所述工作臺(tái)的高度之差彎曲所述彎曲對(duì)象區(qū)域。
【專(zhuān)利說(shuō)明】基板彎曲裝置、基板彎曲檢查裝置以及基板彎曲檢查方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種基板彎曲裝置、基板彎曲檢查裝置以及利用該基板彎曲檢查裝置的基板彎曲檢查方法。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著電視機(jī)及顯示器等家用顯示裝置，以及筆記本電腦、手機(jī)及PMP等便攜式顯示裝置的輕量化及超薄化，廣泛使用各種平板顯示裝置。現(xiàn)在生產(chǎn)或開(kāi)發(fā)的平板顯示裝置有液晶顯示裝置(liquid crystal display:1XD)、電致發(fā)光顯示裝置(electroluminescent display:LED)、場(chǎng)發(fā)射顯不裝置(field emiss1n display:FED)等離子顯示裝置(plasma display panel:PDP)、有機(jī)發(fā)光顯示裝置(Organic Light EmittingDisplay:0LED)等。
[0003]近年，為了方便攜帶IT設(shè)備，并實(shí)現(xiàn)各種顯示形態(tài)，研究開(kāi)發(fā)能以曲面狀態(tài)彎曲或卷繞成卷筒型進(jìn)行攜帶或保管的柔性平板顯示裝置。
[0004]尤其，柔性平板顯示裝置，不僅在平面狀態(tài)下，在曲面狀態(tài)下也能穩(wěn)定地顯示圖像，并且，需要具備即便反復(fù)彎曲，其形狀也能恢復(fù)原狀態(tài)的能力及圖像顯示能力等。
[0005]因此，在生產(chǎn)產(chǎn)品的過(guò)程中，需要對(duì)柔性基板反復(fù)進(jìn)行彎曲測(cè)試，并進(jìn)行彎曲區(qū)域的光學(xué)特性檢查及外觀檢查。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]因此，本發(fā)明所要解決的課題是，提供一種用于彎曲基板的基板彎曲裝置、在彎曲基板的狀態(tài)下，檢查彎曲區(qū)域的基板彎曲檢查裝置以及利用該基板彎曲檢查裝置的基板彎曲檢查方法。
[0007]本發(fā)明的技術(shù)課題并不局限于以上所述的技術(shù)課題，對(duì)于未提及的其他技術(shù)課題，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可通過(guò)以下記載將會(huì)明確理解。
[0008]為達(dá)成本發(fā)明的技術(shù)課題，根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的基板彎曲裝置，包括:工作臺(tái)，形成有通孔；基板吸盤(pán)，支撐基板的彎曲對(duì)象區(qū)域的鄰接面，且通過(guò)所述通孔從所述工作臺(tái)進(jìn)出；升降部，使所述基板吸盤(pán)相對(duì)于所述工作臺(tái)進(jìn)行上升或下降；以及覆蓋構(gòu)件，以覆蓋所述基板的狀態(tài)緊貼于所述工作臺(tái)，利用所述基板吸盤(pán)和所述工作臺(tái)的高度之差彎曲所述彎曲對(duì)象區(qū)域。
[0009]為達(dá)成所述技術(shù)課題，根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的基板彎曲檢查裝置，包括:工作臺(tái)；基板吸盤(pán)，從所述工作臺(tái)突出，用于支撐基板的彎曲對(duì)象區(qū)域的鄰接面；覆蓋構(gòu)件，以覆蓋所述基板的狀態(tài)緊貼于所述工作臺(tái)，利用所述基板吸盤(pán)和所述工作臺(tái)的高度之差而彎曲所述彎曲對(duì)象區(qū)域；以及攝像部，用于拍攝所述彎曲對(duì)象區(qū)域。
[0010]為達(dá)成所述技術(shù)課題，根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的基板彎曲檢查方法，包括:將基板的彎曲對(duì)象區(qū)域的鄰接面配置在基板吸盤(pán)上的步驟；在容納所述基板吸盤(pán)的工作臺(tái)的上面配置覆蓋所述基板的覆蓋構(gòu)件的步驟；緊貼所述覆蓋構(gòu)件和所述工作臺(tái)的步驟；以及使所述基板吸盤(pán)從所述工作臺(tái)上升，所述覆蓋構(gòu)件朝所述基板吸盤(pán)的邊緣側(cè)加壓所述彎曲對(duì)象區(qū)域，從而彎曲所述彎曲對(duì)象區(qū)域的步驟。
[0011]根據(jù)本發(fā)明至少具有如下效果。
[0012]對(duì)基板的局部可通過(guò)預(yù)定外力反復(fù)進(jìn)行彎曲測(cè)試，通過(guò)細(xì)微地調(diào)整彎曲時(shí)所需的外力，從而，對(duì)彎曲的局部區(qū)域能夠有效地施加最小限度的應(yīng)力變化。
[0013]并且，進(jìn)行基板的彎曲測(cè)試的同時(shí)測(cè)量彎曲區(qū)域的微細(xì)的亮度變化等，同時(shí)還可以檢查彎曲區(qū)域的微細(xì)的破裂等。
[0014]根據(jù)本發(fā)明的效果并不局限于以上所述的內(nèi)容，在本說(shuō)明書(shū)中包括更多樣的效果O

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的基板彎曲裝置的概略俯視圖。
[0016]圖2是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的基板彎曲裝置的概略側(cè)剖面圖。
[0017]圖3是配置在基板吸盤(pán)的基板的示意圖。
[0018]圖4及圖5是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的基板彎曲裝置的概略動(dòng)作圖。
[0019]圖6是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的基板吸盤(pán)的概略側(cè)視圖。
[0020]圖7是根據(jù)本發(fā)明的其他實(shí)施例的基板吸盤(pán)的概略側(cè)視圖。
[0021]圖8是根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的基板彎曲裝置的概略剖面圖。
[0022]圖9是根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例的基板彎曲裝置的概略俯視圖。
[0023]圖10是根據(jù)本發(fā)明的第四實(shí)施例的基板彎曲裝置的概略剖面圖。
[0024]圖11是根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的基板彎曲裝置的概略剖面圖。
[0025]圖12是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板彎曲檢查裝置的攝影檢查部的框圖。
[0026]圖13是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板彎曲檢查方法的順序圖。
[0027]圖14至圖16是利用根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板彎曲檢查裝置的基板彎曲檢查過(guò)程的動(dòng)作示意圖。
[0028]符號(hào)說(shuō)明:1、2、3、4:基板彎曲裝置5:基板彎曲檢查裝置
[0029]10:工作臺(tái)11:吸引口
[0030]12:吸引流路13:固定器
[0031]15:通孔16:容納槽
[0032]20、201、202:基板吸盤(pán)30:升降部
[0033]40:覆蓋構(gòu)件50:攝像檢查部
[0034]51:圖像取得部

【具體實(shí)施方式】
[0035]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)、特征以及為達(dá)成這些的方法可通過(guò)附圖及后述的實(shí)施例將會(huì)明確地理解。但是，本發(fā)明并不局限于以下所述的實(shí)施例，可體現(xiàn)為各種不同的形態(tài)。本實(shí)施例是為使本發(fā)明更加完整，并對(duì)本發(fā)明所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員提供發(fā)明范疇而提供的。本發(fā)明僅通過(guò)權(quán)利要求范圍而決定。為了明確說(shuō)明，可擴(kuò)張表示附圖中構(gòu)成元件的大小及相對(duì)大小。
[0036]參考本發(fā)明的理想的概略圖的俯視圖及剖面圖說(shuō)明本說(shuō)明書(shū)中所記載的實(shí)施例。因此，可根據(jù)制造技術(shù)及/或允許誤差等變形示例圖的形態(tài)。并且，本發(fā)明的實(shí)施例并不局限于圖示的特定形態(tài)，還包括因制造工藝而產(chǎn)生的形態(tài)變化。所以，圖中所示的區(qū)域具有概略的屬性，并且，圖中所示的區(qū)域的形態(tài)是舉例說(shuō)明元件的區(qū)域的特定形態(tài)而已，并不用來(lái)限定本發(fā)明的范疇。
[0037]圖1是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的基板彎曲裝置的概略俯視圖，圖2是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的基板彎曲裝置的概略側(cè)剖面圖，圖3是配置在基板吸盤(pán)的基板的示意圖。
[0038]如圖1及圖2所示，根據(jù)本發(fā)明的基板彎曲裝置I包括:工作臺(tái)10、基板吸盤(pán)20、升降部30以及覆蓋構(gòu)件40。
[0039]工作臺(tái)10是用于安裝基板S及覆蓋構(gòu)件40的平板，覆蓋構(gòu)件40用于彎曲基板S，在所述工作臺(tái)的中央形成有供基板吸盤(pán)20上升及下降的通孔15。
[0040]并且，工作臺(tái)10可以具備用于固定覆蓋構(gòu)件40的吸附單元。吸附單元，包括:多個(gè)吸引口 11，以預(yù)定間隔形成在通孔15的兩側(cè)；吸引流路12，形成在工作臺(tái)10的內(nèi)側(cè)，并與多個(gè)吸引口 11連通。吸引流路12與真空泵(省略圖示)連接而可朝吸引口 11側(cè)提供真空壓力。
[0041 ] 如圖3所示，基板吸盤(pán)20形成為其上面幅度比基板S的幅度或長(zhǎng)度窄，可以支撐基板S的局部。以下，為方便說(shuō)明，將基板S分為安裝區(qū)域S1、彎曲對(duì)象區(qū)域S2以及突出區(qū)域S3三個(gè)區(qū)域進(jìn)行說(shuō)明。
[0042]彎曲對(duì)象區(qū)域S2是位于基板吸盤(pán)20的邊緣，而利用基板吸盤(pán)20的邊緣進(jìn)行彎曲的區(qū)域，安裝區(qū)域SI是位于彎曲對(duì)象區(qū)域S2的鄰接面中的一側(cè)的區(qū)域，是位于基板吸盤(pán)20的上面的區(qū)域，突出區(qū)域S3是位于彎曲對(duì)象區(qū)域S2的鄰接面中的另一側(cè)的區(qū)域，是位于基板吸盤(pán)20的外側(cè)的區(qū)域。
[0043]如圖3所示，各基板S的彎曲對(duì)象區(qū)域S2位于基板吸盤(pán)20的兩側(cè)邊緣時(shí)，兩側(cè)彎曲對(duì)象區(qū)域S2之間的區(qū)域可定義為安裝區(qū)域SI，以彎曲對(duì)象區(qū)域S2為中心位于安裝區(qū)域SI的相反側(cè)的區(qū)域可定義為突出區(qū)域S3。
[0044]一方面，基板吸盤(pán)20設(shè)置為可通過(guò)通孔15進(jìn)出工作臺(tái)10的上部，且上升前和下降后的基板吸盤(pán)20成為容納于通孔15的狀態(tài)，使得工作臺(tái)10的上表面和基板吸盤(pán)20的上表面位于相同的平面。
[0045]升降部30形成于基板吸盤(pán)20的下部，可包括用于支撐基板吸盤(pán)20的升降銷(xiāo)32和使升降銷(xiāo)32上升及下降的升降驅(qū)動(dòng)裝置31。
[0046]升降驅(qū)動(dòng)裝置31使升降銷(xiāo)32上升及下降，從而可使基板吸盤(pán)20從工作臺(tái)10進(jìn)出。并且，升降驅(qū)動(dòng)裝置31可控制升降銷(xiāo)32的升降高度及/或升降速度。
[0047]作為升降驅(qū)動(dòng)裝置31可使用利用液壓的變化升降升降銷(xiāo)32的液壓缸。
[0048]利用液壓缸的升降驅(qū)動(dòng)裝置31可微細(xì)地控制升降銷(xiāo)32的升降高度及/或升降速度。由此，可以提供各種各樣的彎曲環(huán)境，通過(guò)微細(xì)調(diào)整液壓量，對(duì)彎曲對(duì)象區(qū)域S2可有效地誘導(dǎo)最小限度的應(yīng)力變化。
[0049]并且，當(dāng)對(duì)經(jīng)彎曲的彎曲對(duì)象區(qū)域S2施加很強(qiáng)的復(fù)原力時(shí)，也能通過(guò)調(diào)整液壓量，對(duì)基板吸盤(pán)20提供對(duì)應(yīng)于復(fù)原力的很強(qiáng)的上升力。
[0050]覆蓋構(gòu)件40是隨著基板吸盤(pán)20的上升而上升并彎曲基板S的構(gòu)成元件，其覆蓋安裝于基板吸盤(pán)20的基板S，且可位于工作臺(tái)10上面。
[0051]覆蓋構(gòu)件40優(yōu)選構(gòu)成為覆蓋基板S的部分在基板吸盤(pán)20上升的過(guò)程中進(jìn)行伸長(zhǎng)，而在基板20下降而回到通孔15內(nèi)的過(guò)程中恢復(fù)到原狀態(tài)，為此，覆蓋構(gòu)件40可由伸長(zhǎng)及恢復(fù)穩(wěn)定性出色的材料的薄膜構(gòu)成。
[0052]以下，說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的基板彎曲裝置的動(dòng)作。圖4及圖5是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的基板彎曲裝置的概略動(dòng)作圖。
[0053]如圖4所示，基板吸盤(pán)20可位于通孔15內(nèi)以便基板吸盤(pán)20的上表面與工作臺(tái)10的上表面位于同一平面。以下，將其稱(chēng)為基板吸盤(pán)20的原(home)位置。
[0054]彎曲對(duì)象的基板S配置于基板吸盤(pán)20的上面。如上所述，基板S可配置為彎曲對(duì)象區(qū)域S2位于基板吸盤(pán)20的邊緣，安裝區(qū)域SI位于基板吸盤(pán)20的上面，突出區(qū)域S3位于基板吸盤(pán)20的外側(cè)(參照?qǐng)D3)。
[0055]配置在基板吸盤(pán)20上的基板S上面可配置覆蓋構(gòu)件40。覆蓋構(gòu)件40的面積可對(duì)應(yīng)于工作臺(tái)10的面積，其覆蓋基板S的前面及形成在工作臺(tái)10的吸引口 11，且可安裝于工作臺(tái)10上面。
[0056]基板S及覆蓋構(gòu)件40依次配置在基板吸盤(pán)20及工作臺(tái)10上之后，可通過(guò)形成于工作臺(tái)10的吸引口 11及吸引流路12進(jìn)行真空排氣。由此，在覆蓋構(gòu)件40和工作臺(tái)10之間形成真空壓力，從而，覆蓋構(gòu)件40的兩側(cè)能以基板S為中心緊貼于工作臺(tái)10。
[0057]如圖5所示，覆蓋構(gòu)件40緊貼固定于工作臺(tái)10之后，升降驅(qū)動(dòng)裝置31使升降銷(xiāo)32上升而可以使基板吸盤(pán)20上升。
[0058]通過(guò)基板吸盤(pán)20的上升，在基板吸盤(pán)20的上表面和工作臺(tái)10的上表面之間產(chǎn)生高度差，覆蓋構(gòu)件40的兩側(cè)以緊貼于工作臺(tái)10的狀態(tài)下覆蓋中央的基板S的部分隨著基板吸盤(pán)20的上升而伸長(zhǎng)。
[0059]由覆蓋構(gòu)件40的伸長(zhǎng)而產(chǎn)生的彈性反作用力可以將基板S朝基板吸盤(pán)20側(cè)加壓。
[0060]并且，通過(guò)緊貼于工作臺(tái)10的兩側(cè)和覆蓋基板S的中央部的高度之差，覆蓋構(gòu)件40將基板S的突出區(qū)域S3緊貼在基板吸盤(pán)20的側(cè)面?zhèn)?，并將基板S的彎曲對(duì)象區(qū)域S2朝基板吸盤(pán)20的邊緣側(cè)加壓，從而可沿邊緣彎曲彎曲對(duì)象區(qū)域S2。
[0061]升降驅(qū)動(dòng)裝置31使升降銷(xiāo)32上升到事先輸入的升降高度為止之后，使升降銷(xiāo)32再次下降而將基板吸盤(pán)20恢復(fù)到原(home)位置。
[0062]當(dāng)基板吸盤(pán)20恢復(fù)到原位置時(shí)，如圖4所示，覆蓋構(gòu)件40通過(guò)自身彈性可恢復(fù)到最初安裝在工作臺(tái)10及基板S上面的平平的狀態(tài)。
[0063]隨著覆蓋構(gòu)件40恢復(fù)到初期狀態(tài)，基板S也可通過(guò)自身彈力恢復(fù)到最初安裝在基板吸盤(pán)20上面的平平的狀態(tài)。
[0064]然后，如圖5所示，升降驅(qū)動(dòng)裝置31使基板吸盤(pán)20再次上升而彎曲基板S的彎曲對(duì)象區(qū)域S2之后，如圖4所示，使基板吸盤(pán)20再次恢復(fù)到原位置而恢復(fù)到平平的狀態(tài)，通過(guò)反復(fù)所述過(guò)程，可以進(jìn)行對(duì)基板S的彎曲測(cè)試。
[0065]以下，說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板吸盤(pán)。
[0066]圖6是根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的基板吸盤(pán)的概略側(cè)視圖。
[0067]如圖6所示，根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例的基板吸盤(pán)201可利用多孔吸盤(pán)。
[0068]多孔吸盤(pán)是利用真空壓力吸附固定基板的真空吸盤(pán)，一般，利用以SiC粉末為主原料的多孔性多孔陶瓷而制造。因此，多孔吸盤(pán)，在其表面形成多個(gè)氣孔，并利用通過(guò)氣孔提供的真空壓力，能夠吸附固定安裝在表面的基板等。
[0069]如本實(shí)施例，作為基板吸盤(pán)201使用多孔性多孔吸盤(pán)時(shí)，通過(guò)向基板吸盤(pán)201的上面提供真空壓力而可以穩(wěn)定地支撐基板S。
[0070]通過(guò)形成在基板吸盤(pán)201的側(cè)面的多個(gè)氣孔也能向側(cè)面提供真空壓力，因此，在彎曲過(guò)程中，可通過(guò)覆蓋構(gòu)件40將被折疊到基板吸盤(pán)201的側(cè)面的突出區(qū)域S3緊貼固定于基板吸盤(pán)201的側(cè)面。
[0071]在彎曲過(guò)程中，可同時(shí)將位于基板吸盤(pán)201的上面的基板S的安裝區(qū)域SI和位于基板吸盤(pán)201的側(cè)面的基板S的突出區(qū)域S3緊貼固定于基板吸盤(pán)201，因此，安裝區(qū)域SI和突出區(qū)域S3之間的彎曲對(duì)象區(qū)域S2利用基板吸盤(pán)201的邊緣而可以更加穩(wěn)定地保持被彎曲的狀態(tài)。
[0072]根據(jù)本實(shí)施例的基板吸盤(pán)201，為了在上升后恢復(fù)到原位置的過(guò)程中，使得彎曲對(duì)象區(qū)域S2及突出區(qū)域S33恢復(fù)到與安裝區(qū)域SI相同的平面，而可以切斷從表面的氣孔所提供的真空壓力。
[0073]圖7是根據(jù)本發(fā)明的其他實(shí)施例的基板吸盤(pán)的概略側(cè)視圖。
[0074]如圖7所示，根據(jù)本實(shí)施例的基板吸盤(pán)202形成為用于安裝基板S的上面的邊緣具有預(yù)定曲率的曲面。
[0075]因此，在彎曲基板時(shí)，彎曲對(duì)象區(qū)域S2緊貼于具有預(yù)定曲率的基板吸盤(pán)202的邊緣,并可根據(jù)邊緣的曲率進(jìn)行彎曲。
[0076]并且，對(duì)彎曲對(duì)象區(qū)域S2以特定曲率進(jìn)行彎曲測(cè)試時(shí)，可利用根據(jù)本實(shí)施例的基板吸盤(pán)202。
[0077]并且，將根據(jù)本實(shí)施例的基板吸盤(pán)202形成為曲率互不相同的多個(gè)基板吸盤(pán)202，從而可以邊改變邊緣的曲率，邊進(jìn)行彎曲測(cè)試。
[0078]例如，對(duì)相同的基板S進(jìn)行最初彎曲測(cè)試時(shí)，在多個(gè)基板吸盤(pán)202中，將具有曲率最大的邊緣的基板吸盤(pán)202安裝在基板彎曲裝置，然后，依次替換為具有曲率小的邊緣的基板吸盤(pán)202并進(jìn)行彎曲測(cè)試。
[0079]通過(guò)如所述的彎曲測(cè)試，可以累積根據(jù)基板S的彎曲次數(shù)的界限曲率的數(shù)據(jù)。
[0080]根據(jù)本實(shí)施例的基板吸盤(pán)202也可以使用所述多孔吸盤(pán)，此時(shí)，通過(guò)將安裝區(qū)域SI和突出區(qū)域S3分別緊貼固定于基板吸盤(pán)202的上面及側(cè)面，從而，彎曲對(duì)象區(qū)域S2可通過(guò)邊緣的曲率穩(wěn)定地保持彎曲狀態(tài)。
[0081 ] 以下，說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的其他實(shí)施例的基板彎曲裝置。
[0082]為方便說(shuō)明，對(duì)與第一實(shí)施例的相似的部分標(biāo)注相同的符號(hào)，并省略與第一實(shí)施例共同的部分的說(shuō)明。
[0083]圖8是根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的基板彎曲裝置的概略剖面圖。
[0084]如圖8所示，根據(jù)本發(fā)明的基板彎曲裝置2可以具備多個(gè)基板吸盤(pán)20。
[0085]根據(jù)本實(shí)施例的基板彎曲裝置2中，2個(gè)以上的基板吸盤(pán)20以預(yù)定間隔隔開(kāi)排列成一列，或4個(gè)以上的基板吸盤(pán)20以預(yù)定間隔隔開(kāi)排列成NXM行列。
[0086]在工作臺(tái)10上可以以預(yù)定間隔形成多個(gè)通孔15以與多個(gè)基板吸盤(pán)20相對(duì)應(yīng)。
[0087]覆蓋構(gòu)件40可以配置一個(gè)來(lái)覆蓋基板S及工作臺(tái)10的前面，或者，以覆蓋至各基板吸盤(pán)20附近處為止的大小，多個(gè)覆蓋構(gòu)件分別配置在各基板吸盤(pán)20。
[0088]升降銷(xiāo)32為了支撐各基板吸盤(pán)20而可以具備多個(gè)，升降驅(qū)動(dòng)裝置31控制各升降銷(xiāo)32同時(shí)上升或下降，或者，可單獨(dú)控制各升降銷(xiāo)32的上升高度及/或上升速度。
[0089]如圖8所示，根據(jù)本實(shí)施例的基板彎曲裝置2可以使用如下方式，即利用多個(gè)基板吸盤(pán)20可一次彎曲多個(gè)基板S。
[0090]或者，根據(jù)本實(shí)施例的基板彎曲裝置2還可以使用如下方式，即利用多個(gè)基板吸盤(pán)20在多個(gè)地點(diǎn)一次彎曲一個(gè)基板S。
[0091]此時(shí)，升降驅(qū)動(dòng)裝置31統(tǒng)一控制各升降銷(xiāo)32的上升高度及/或上升速度，從而能以相同的形態(tài)進(jìn)行多個(gè)地點(diǎn)的彎曲。
[0092]或者，升降驅(qū)動(dòng)裝置31單獨(dú)控制各升降銷(xiāo)32的上升高度及/或上升速度而能以不同的形態(tài)進(jìn)行多個(gè)地點(diǎn)的彎曲。當(dāng)將基板吸盤(pán)20的上升高度及/上升速度控制為互不相同時(shí)，會(huì)導(dǎo)致基板S扭曲。因此，進(jìn)行對(duì)基板S的彎曲測(cè)試的同時(shí)可以進(jìn)行對(duì)基板S的扭曲測(cè)試。
[0093]圖9是本發(fā)明的第三實(shí)施例的基板彎曲裝置的概略俯視圖。
[0094]如圖9所示，根據(jù)本實(shí)施例的基板彎曲裝置3，在工作臺(tái)10的兩側(cè)可進(jìn)一步包括固定器13。
[0095]在工作臺(tái)10的兩側(cè)可至少具備一對(duì)固定器13，從而，可將覆蓋構(gòu)件40的兩端固定在工作臺(tái)10。
[0096]覆蓋構(gòu)件40通過(guò)從形成在工作臺(tái)10的多個(gè)吸引口 11提供的真空壓力緊貼于工作臺(tái)10，但是，在基板吸盤(pán)20上升的過(guò)程中，對(duì)覆蓋構(gòu)件40的兩側(cè)施加向基板吸盤(pán)20側(cè)拉的張力。因此，覆蓋構(gòu)件40和工作臺(tái)10之間的真空壓力弱于張力時(shí)，基板吸盤(pán)20上升的過(guò)程中，會(huì)發(fā)生覆蓋構(gòu)件40被拉到基板吸盤(pán)20側(cè)的情況。
[0097]根據(jù)本實(shí)施例的基板彎曲裝置3，將覆蓋構(gòu)件40的兩端用固定器13固定在工作臺(tái)10，從而，基板吸盤(pán)20上升而覆蓋構(gòu)件40伸長(zhǎng)的狀態(tài)下，也能將覆蓋構(gòu)件40更加穩(wěn)定地固定在工作臺(tái)10。
[0098]圖10是根據(jù)本發(fā)明的第四實(shí)施例的基板彎曲裝置的概略剖面圖。
[0099]如圖10所示，根據(jù)本實(shí)施例的基板彎曲裝置4，在工作臺(tái)10可以形成容納基板吸盤(pán)20的容納槽16。
[0100]容納槽16的深度對(duì)應(yīng)于基板吸盤(pán)20的高度，若基板吸盤(pán)20被安裝在容納槽16的底面，則基板吸盤(pán)20的上表面可位于與工作臺(tái)10的上表面相同的平面。
[0101]并且，升降銷(xiāo)32貫穿容納槽16的底面而支撐基板吸盤(pán)20，且可使基板吸盤(pán)20從容納槽16上升及下降。
[0102]根據(jù)本實(shí)施例的基板彎曲裝置4，當(dāng)基板吸盤(pán)20位于原位置時(shí)，容納槽16的底面支撐基板吸盤(pán)20。
[0103]從而，減輕升降銷(xiāo)32及升降驅(qū)動(dòng)裝置31持續(xù)支撐基板吸盤(pán)20的負(fù)擔(dān)，原位置通過(guò)容納槽16的底面而保持為預(yù)定，因此，即便基板吸盤(pán)20反復(fù)升降，也能使從工作臺(tái)10上升的基板吸盤(pán)20保持規(guī)定高度。
[0104]如上所述，根據(jù)本發(fā)明的各種實(shí)施例的基板彎曲裝置，利用基板吸盤(pán)20的邊緣對(duì)彎曲對(duì)象區(qū)域S2的特定區(qū)域以相同的外力反復(fù)集中實(shí)施彎曲測(cè)試。
[0105]并且，控制基板吸盤(pán)20的上升速度、上升高度及上升力等而可以造成各種各樣的彎曲環(huán)境，通過(guò)微細(xì)調(diào)整彎曲所需的外力，可對(duì)彎曲區(qū)域僅有效地施加最小限度的應(yīng)力變化。
[0106]以下，說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板彎曲檢查裝置。
[0107]圖11是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板彎曲檢查裝置的概略剖面圖，圖12是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板彎曲檢查裝置的攝像檢查部的框圖。
[0108]如圖11所示，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板彎曲檢查裝置5包括工作臺(tái)10、基板吸盤(pán)20、升降部30、覆蓋構(gòu)件40及攝像檢查部50。
[0109]根據(jù)本實(shí)施例的基板彎曲檢查裝置5利用所述基板彎曲裝置，由于工作臺(tái)10、基板吸盤(pán)20、升降部30及覆蓋構(gòu)件40的說(shuō)明與所述內(nèi)容重疊，因此，在此省略對(duì)其的詳細(xì)說(shuō)明。
[0110]如圖11所示，根據(jù)本發(fā)明的基板彎曲檢查裝置15的攝像檢查部50可包括圖像取得部51、運(yùn)算部52及顯示部53。
[0111]圖像取得部51是為拍攝基板S的彎曲對(duì)象區(qū)域S2的構(gòu)成元件，可包括CXD(荷耦合器件，Charge Coupled Device)相機(jī)和用于測(cè)定彎曲對(duì)象區(qū)域S2的亮度的亮度計(jì)。
[0112]圖像取得部51設(shè)置為指向彎曲基板S的彎曲對(duì)象區(qū)域S2的位置。例如，如圖11所示，設(shè)置在基板吸盤(pán)20的邊緣部分的上部而指向垂直下方，或者傾斜地設(shè)置在工作臺(tái)11的上部而指向彎曲對(duì)象區(qū)域S2被彎曲的位置。
[0113]圖像取得部51設(shè)置成可向XYZ軸移動(dòng)，從而沿基板吸盤(pán)20的邊緣移動(dòng)的同時(shí)掃描并拍攝彎曲對(duì)象區(qū)域S2，或者拍攝在基板吸盤(pán)20的一側(cè)邊緣被彎曲的一側(cè)彎曲對(duì)象區(qū)域S2之后移動(dòng)而指向基板吸盤(pán)20的另一側(cè)邊緣,然后,可以拍攝在基板吸盤(pán)20的另一側(cè)邊緣被彎曲的另一側(cè)彎曲對(duì)象區(qū)域S2。
[0114]或者，圖像取得部51可包括分別指向基板吸盤(pán)20的兩側(cè)邊緣部分的一對(duì)攝像頭。從而可以同時(shí)取得通過(guò)基板吸盤(pán)20的兩側(cè)邊緣彎曲的彎曲對(duì)象區(qū)域S2的兩側(cè)的圖像。
[0115]如圖12所示，運(yùn)算部52可以包括圖像加工部52a、亮度測(cè)定部52b、外觀檢查部52c以及處理部52d。
[0116]圖像加工部52a接收從圖像取得部51拍攝的圖像，并加工成易檢查的圖像。
[0117]例如，將從圖像取得部51接收的所拍攝的圖像轉(zhuǎn)換為數(shù)字圖像，或者在攝像圖像中僅將彎曲對(duì)象區(qū)域S2的圖像分離到檢查區(qū)域之后進(jìn)行排列，或者進(jìn)行去除因照明等而發(fā)生的噪音等的加工過(guò)程。
[0118]亮度測(cè)定部52b從圖像加工部52a接收經(jīng)加工的圖像而測(cè)定彎曲對(duì)象區(qū)域S2的亮度。
[0119]當(dāng)基板S被彎曲時(shí)，由于形成在基板S的電路圖也一起彎曲，因此，電路的電阻變大等電路特性發(fā)生變化，由此，所顯示的圖像的亮度會(huì)發(fā)生變化。
[0120]亮度測(cè)定部52b可以測(cè)定彎曲對(duì)象區(qū)域S2的彎曲前后的亮度變化及/或彎曲對(duì)象區(qū)域S2的彎曲中的亮度變化。
[0121]為了正確地測(cè)定亮度，圖像取得部51具備亮度計(jì)，所述亮度計(jì)與亮度測(cè)定部52b連接，可以測(cè)定彎曲對(duì)象區(qū)域S2的亮度及亮度變化。
[0122]另外，外觀檢查部52c從圖像加工部52a接收經(jīng)加工的圖像，并檢查彎曲對(duì)象區(qū)域S2是否有缺陷。
[0123]外觀檢查部52c在彎曲對(duì)象區(qū)域S2的圖像中可以檢測(cè)在表面或內(nèi)部存在的破損及/或形成在基板S的電路的短路及斷線等的不良要素。
[0124]外觀檢查部52c存儲(chǔ)作為不良判斷的基準(zhǔn)的參考圖像，比較參考圖像和從圖像加工部52a傳遞而來(lái)的圖像，從而可以檢查彎曲對(duì)象區(qū)域S2所存在的不良要素。
[0125]參考圖像是沒(méi)有不良要素的基板圖像，可以是與在圖像取得部51拍攝的彎曲對(duì)象區(qū)域S2相同地點(diǎn)的圖像。
[0126]另外，處理部52d連接于亮度測(cè)定部52b和外觀檢查部52c，根據(jù)亮度測(cè)定部52b和外觀檢查部52c的測(cè)定/檢查結(jié)果可以判斷基板S是否為不良。
[0127]處理部52d分析從亮度測(cè)定部52b傳送的彎曲對(duì)象區(qū)域S2的彎曲前后及/或彎曲中的亮度及亮度變化量等，并可以判斷對(duì)應(yīng)基板S的亮度及亮度變化量是否保持在正常范圍內(nèi)。并且存儲(chǔ)針對(duì)檢查對(duì)象的基板S的亮度及亮度變化量而蓄積數(shù)據(jù)，從而可以按照彎曲程度運(yùn)算平均亮度變化量。
[0128]并且，處理部52d基于從外觀檢查部52c傳遞而來(lái)的彎曲對(duì)象區(qū)域S2中所存在的不良要素的信息，可以判斷對(duì)應(yīng)基板S是否為不良。
[0129]處理部52d綜合彎曲對(duì)象區(qū)域S2內(nèi)存在的破損與否、破損尺寸、電路的短路/斷線與否等不良要素而可以判斷對(duì)應(yīng)基板S是否為不良。
[0130]顯示部53可以連接于圖像取得部51及運(yùn)算部52，并可以顯示彎曲對(duì)象區(qū)域S2的圖像及彎曲對(duì)象區(qū)域S2的亮度、亮度變化量、不良要素等信息。
[0131]具體而言，顯示部53可以顯示彎曲對(duì)象區(qū)域S2的彎曲前后的圖像、彎曲中的圖像等，且可以顯示在各狀態(tài)下亮度測(cè)定部52b所測(cè)定的亮度及亮度變化量，且可將在各狀態(tài)下外觀檢測(cè)部52c檢測(cè)的不良要素顯示在彎曲對(duì)象區(qū)域S2的圖像上。
[0132]并且，顯示部53可以顯示在處理部52d判斷的基板S是否為不良的信息。
[0133]由此，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板彎曲檢查裝置5，對(duì)基板S反復(fù)進(jìn)行彎曲測(cè)試的同時(shí)，可以同時(shí)進(jìn)行彎曲對(duì)象區(qū)域S2的破損及亮度等光學(xué)檢查。
[0134]而且，利用基板吸盤(pán)20的邊緣對(duì)彎曲對(duì)象區(qū)域S2的特定區(qū)域以相同的外力可反復(fù)集中進(jìn)行彎曲測(cè)試，因此，可以確保彎曲測(cè)試及檢查的可靠性。
[0135]以下，說(shuō)明利用根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板彎曲檢查裝置的基板彎曲檢查方法。
[0136]圖13是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板彎曲檢查方法的順序圖，圖14至圖16是利用根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板彎曲檢查裝置的基板彎曲檢查過(guò)程的動(dòng)作圖。
[0137]如圖13所示，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板彎曲檢查方法，包括:基板配置步驟(SlOl);覆蓋構(gòu)件的配置步驟(S102);基板及覆蓋構(gòu)件的吸附步驟(S103);基板吸盤(pán)的上升步驟(S104);彎曲對(duì)象區(qū)域的攝像步驟(S105);彎曲對(duì)象區(qū)域的亮度及外觀檢查步驟(S106);基板吸盤(pán)的下降步驟(S107，S110);判斷反復(fù)彎曲次數(shù)的步驟(S108)以及計(jì)數(shù)步驟(S109)。
[0138]基板配置步驟(SlOl)是將要進(jìn)行彎曲檢查的對(duì)向基板S配置在基板吸盤(pán)20的步驟，如圖14所示，可將基板S的局部配置在基板吸盤(pán)20上。此時(shí)，基板S可以配置成彎曲對(duì)象區(qū)域S2位于基板吸盤(pán)20的邊緣部分，彎曲對(duì)象區(qū)域S2的鄰接面中的一側(cè)被定義為配置于基板吸盤(pán)20上的安裝區(qū)域SI，而在彎曲對(duì)象區(qū)域S2的鄰接面中的另一側(cè)可以定義為朝基板吸盤(pán)20的外側(cè)突出的突出區(qū)域(圖3)。
[0139]基板配置步驟(SlOl)以后進(jìn)行的覆蓋構(gòu)件的配置步驟(S102)是將覆蓋構(gòu)件40配置在覆蓋基板S的前面的步驟，如圖15所示，覆蓋構(gòu)件40可配置成其中央部覆蓋基板S，而從中央部延伸的兩側(cè)覆蓋工作臺(tái)10。
[0140]覆蓋構(gòu)件40可以利用伸長(zhǎng)及恢復(fù)穩(wěn)定性出色的材料的薄膜。
[0141]基板及覆蓋構(gòu)件的吸附步驟(S103)是將基板S固定在基板吸盤(pán)20，并將覆蓋構(gòu)件40固定在工作臺(tái)10的步驟，如圖15所示，基板吸盤(pán)20，在上面提供吸引力而在基板S和基板吸盤(pán)20的上面之間形成真空壓力，從而可以將基板S固定在基板吸盤(pán)20，工作臺(tái)10在上面提供吸引力而在覆蓋構(gòu)件40的兩側(cè)和工作臺(tái)10的上面之間形成真空壓力，從而將覆蓋構(gòu)件40固定在工作臺(tái)10。
[0142]基板吸盤(pán)的上升步驟(S104)是通過(guò)基板吸盤(pán)20的上升而彎曲基板S的步驟，如圖16所示，升降驅(qū)動(dòng)裝置31使支撐基板吸盤(pán)20的升降銷(xiāo)32上升，從而可以在基板吸盤(pán)20的上表面和工作臺(tái)10的上表面之間形成高度差。
[0143]基板S的安裝區(qū)域SI支撐在基板吸盤(pán)20而進(jìn)行上升，在覆蓋構(gòu)件40的兩側(cè)緊貼于工作臺(tái)10的上面的狀態(tài)下，覆蓋基板S的中央部通過(guò)基板吸盤(pán)20進(jìn)行上升。
[0144]通過(guò)緊貼于工作臺(tái)10的兩側(cè)和覆蓋基板S的中央部的高度差，覆蓋構(gòu)件40朝基板吸盤(pán)20的側(cè)面?zhèn)染o貼基板S的突出區(qū)域S3，朝基板吸盤(pán)20的邊緣側(cè)加壓基板S的彎曲對(duì)象區(qū)域S2，從而，可沿邊緣彎曲彎曲對(duì)象區(qū)域S2。
[0145]向基板吸盤(pán)20的側(cè)面也提供吸附力時(shí)，由于知道緊貼于基板吸盤(pán)20的側(cè)面?zhèn)鹊幕錝的突出區(qū)域S3也固定于基板吸盤(pán)20，因此彎曲對(duì)象區(qū)域S2可以穩(wěn)定地保持彎曲狀態(tài)。
[0146]升降驅(qū)動(dòng)裝置31控制升降銷(xiāo)32的上升速度及高度，而可以提供各種各樣的彎曲環(huán)境。
[0147]在彎曲對(duì)象區(qū)域的攝像步驟(S105)中，如圖14至16所示，指向基板吸盤(pán)20的邊緣部分的圖像取得部51可以拍攝彎曲對(duì)象區(qū)域S2。
[0148]圖像取得部51可以包括用于拍攝彎曲對(duì)象區(qū)域S2的CCD相機(jī)以及用于測(cè)定彎曲對(duì)象區(qū)域S2的亮度的亮度計(jì)。
[0149]CCD相機(jī)可以攝像彎曲前后及彎曲中的彎曲對(duì)象區(qū)域S2的圖像，亮度計(jì)也可以測(cè)定彎曲前后及彎曲中的彎曲對(duì)象區(qū)域S2的亮度。
[0150]圖像取得部51設(shè)置成可向XYZ軸移動(dòng)，從而沿基板吸盤(pán)20的邊緣移動(dòng)的同時(shí)掃描并拍攝彎曲對(duì)象區(qū)域S2，或者拍攝在基板吸盤(pán)20的一側(cè)邊緣被彎曲的一側(cè)彎曲對(duì)象區(qū)域S2之后移動(dòng)而指向基板吸盤(pán)20的另一側(cè)邊緣,然后,可以拍攝在基板吸盤(pán)20的另一側(cè)邊緣被彎曲的另一側(cè)彎曲對(duì)象區(qū)域S2。
[0151]或者，圖像取得部51具備分別指向基板吸盤(pán)20的兩側(cè)邊緣部分的一對(duì)攝像頭，從而可以同時(shí)取得通過(guò)基板吸盤(pán)20的兩側(cè)邊緣彎曲的彎曲對(duì)象區(qū)域S2的兩側(cè)圖像。
[0152]在彎曲對(duì)象區(qū)域的亮度及外觀檢查步驟(S106)中，運(yùn)算部52加工圖像取得部51所攝像及測(cè)定的彎曲對(duì)象區(qū)域S2的圖像及亮度信息，并將加工的信息可通過(guò)顯示部53顯/Jn ο
[0153]運(yùn)算部52可以包括圖像加工部52a、亮度測(cè)定部52b、外觀檢查部52c及處理部52d。
[0154]圖像加工部52a將從圖像取得部51接收的攝像圖像轉(zhuǎn)換為數(shù)字圖像，或者在攝像圖像中僅將彎曲對(duì)象區(qū)域S2的圖像分離到檢查區(qū)域之后進(jìn)行排列，或者進(jìn)行去除因照明等而發(fā)生的噪音等的加工過(guò)程，從而接收從圖像取得部51攝像的攝像圖像，并將其加工成容易檢查的圖像。
[0155]亮度測(cè)定部52b接收從圖像加工部52a加工的圖像或圖像取得部51的亮度計(jì)測(cè)定的亮度信息，而可以測(cè)定彎曲對(duì)象區(qū)域S2的彎曲前后的亮度變化及/或彎曲對(duì)象區(qū)域S2的彎曲中的亮度變化。
[0156]外觀檢查部52c從圖像加工裝置52a接收經(jīng)加工的圖像，并在彎曲對(duì)象區(qū)域S2的圖像可以檢測(cè)出表面或內(nèi)部所存在的破損及/或形成在基板S的電路的短路及斷線等的不良要素。
[0157]處理部52d綜合亮度測(cè)定部52b和外觀檢查部52c的測(cè)定/檢查結(jié)果而可以判斷基板S是否為不良。
[0158]S卩，處理部52d分析從亮度測(cè)定部52b接收的彎曲對(duì)象區(qū)域S2的彎曲前后及/或彎曲中的亮度及亮度變化量等，并可以判斷對(duì)應(yīng)基板S的亮度及亮度變化量是否保持在正常范圍內(nèi)，綜合彎曲對(duì)象區(qū)域S2內(nèi)存在的破損與否、破損尺寸、電路的短路/斷線與否等不良要素而可以判斷對(duì)應(yīng)基板S是否為不良。
[0159]顯示部53可以顯示圖像取得部51所攝像的彎曲對(duì)象區(qū)域S2的圖像及亮度，并可以顯示通過(guò)運(yùn)算部52加工的彎曲對(duì)象區(qū)域S2的圖像、彎曲對(duì)象區(qū)域S2的亮度、亮度變化量、不良要素等信息。
[0160]具體而言，顯示部53可以顯示彎曲對(duì)象區(qū)域S2的彎曲前后的圖像、彎曲中的圖像等，且可以顯示在各狀態(tài)下亮度測(cè)定部52b所測(cè)定的亮度及亮度變化量，且可將在各狀態(tài)下外觀檢測(cè)部52c檢測(cè)的不良要素顯示在彎曲對(duì)象區(qū)域S2的圖像上。
[0161]并且，顯示部53可以顯示在處理部52d判斷的基板S是否為不良的信息。
[0162]在基板吸盤(pán)下降步驟(S107，S110)，使上升的基板吸盤(pán)20下降到原位置，從而解除基板S的彎曲狀態(tài)。
[0163]當(dāng)升降驅(qū)動(dòng)裝置31使升降銷(xiāo)32下降而將基板吸盤(pán)20恢復(fù)到原位置時(shí)，覆蓋構(gòu)件40及基板S通過(guò)自身彈性恢復(fù)到最初安裝在工作臺(tái)10或基板S上面的平平的狀態(tài)。
[0164]然后，在判斷反復(fù)彎曲次數(shù)的步驟(S108)，可以比較基板吸盤(pán)20的升降次數(shù)和所設(shè)定的反復(fù)彎曲次數(shù)。
[0165]基板吸盤(pán)20的升降次數(shù)對(duì)應(yīng)于基板S的彎曲次數(shù)，基板吸盤(pán)20的升降次數(shù)未達(dá)到已設(shè)定的反復(fù)彎曲次數(shù)時(shí)，使基板吸盤(pán)20再次上升而反復(fù)進(jìn)行所述基板吸盤(pán)上升步驟(S104)、彎曲對(duì)象區(qū)域攝像步驟(S105)、彎曲對(duì)象區(qū)域的亮度及外觀檢查步驟(S106)以及基板吸盤(pán)下降步驟(S107)。
[0166]計(jì)數(shù)步驟(S109)是計(jì)算基板S的彎曲次數(shù)的步驟，將最初N值設(shè)定為1，在最初彎曲基板S之后的判斷反復(fù)彎曲次數(shù)的步驟(S108)，若判斷為N值未達(dá)到已設(shè)定的反復(fù)彎曲次數(shù)，則將N值各增加I而計(jì)算基板S的彎曲次數(shù)。
[0167]在反復(fù)彎曲基板S后，若N值達(dá)到已設(shè)定的反復(fù)彎曲次數(shù)，則最后基板吸盤(pán)20下降(S110)，而結(jié)束基板彎曲檢查。
[0168]由此，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板彎曲檢查方法，對(duì)基板S反復(fù)進(jìn)行彎曲測(cè)試的同時(shí)，可以同時(shí)進(jìn)行彎曲對(duì)象區(qū)域S2的破損及亮度等的光學(xué)檢查。
[0169]并且，利用基板吸盤(pán)20的邊緣，對(duì)彎曲對(duì)象區(qū)域S2的特定區(qū)域用相同的外力反復(fù)集中進(jìn)行彎曲測(cè)試，從而可以確保彎曲測(cè)試及檢查的可靠性。
[0170]以上，雖參照【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】了本發(fā)明的實(shí)施例，但是，本發(fā)明并不限定于所述實(shí)施例，可以制造為不同的形態(tài)，本發(fā)明所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)理解在不改變本發(fā)明的技術(shù)思想或必要特征的情況下可以實(shí)施為其他的具體形態(tài)。因此，以上所述的實(shí)施例在所有方面用來(lái)舉例說(shuō)明而已，并不限定本發(fā)明。
【權(quán)利要求】
1.一種基板彎曲裝置，其特征在于，包括: 工作臺(tái)，形成有通孔； 基板吸盤(pán)，支撐基板的彎曲對(duì)象區(qū)域的鄰接面，且通過(guò)所述通孔從所述工作臺(tái)進(jìn)出； 升降部，使所述基板吸盤(pán)相對(duì)于所述工作臺(tái)進(jìn)行上升或下降；以及 覆蓋構(gòu)件，以覆蓋所述基板的狀態(tài)緊貼于所述工作臺(tái)，利用所述基板吸盤(pán)和所述工作臺(tái)的高度之差彎曲所述彎曲對(duì)象區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板彎曲裝置，其特征在于，所述工作臺(tái)包括向所述覆蓋構(gòu)件和所述工作臺(tái)之間提供真空壓力的吸引部，以便所述覆蓋構(gòu)件緊貼于所述工作臺(tái)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板彎曲裝置，其特征在于，所述工作臺(tái)包括用于固定所述覆蓋構(gòu)件的兩側(cè)的至少一對(duì)固定器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板彎曲裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括用于拍攝所述彎曲對(duì)象區(qū)域的攝像部。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板彎曲裝置，其特征在于，所述攝像部包括用于測(cè)定所述彎曲對(duì)象區(qū)域的亮度的亮度測(cè)定部。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板彎曲裝置，其特征在于，所述攝像部包括用于檢查所述彎曲對(duì)象區(qū)域的外觀的外觀檢查部。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板彎曲裝置，其特征在于，所述基板吸盤(pán)是真空吸附所述基板的多孔吸盤(pán)，所述彎曲對(duì)象區(qū)域的一側(cè)鄰接面真空吸附于所述多孔吸盤(pán)的上面，所述彎曲對(duì)象區(qū)域的另一側(cè)鄰接面真空吸附于所述多孔吸盤(pán)的側(cè)面。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板彎曲裝置，其特征在于，所述多孔吸盤(pán)，在所述上面和所述側(cè)面之間具備具有預(yù)定曲率半徑的曲面，以便所述彎曲對(duì)象區(qū)域以保持所述預(yù)定曲率半徑的狀態(tài)彎曲。
9.一種基板彎曲檢查裝置，其特征在于，包括: 工作臺(tái)； 基板吸盤(pán)，從所述工作臺(tái)突出，用于支撐基板的彎曲對(duì)象區(qū)域的鄰接面； 覆蓋構(gòu)件，以覆蓋所述基板的狀態(tài)緊貼于所述工作臺(tái)，利用所述基板吸盤(pán)和所述工作臺(tái)的高度之差而彎曲所述彎曲對(duì)象區(qū)域；以及 攝像檢查部，用于拍攝所述彎曲對(duì)象區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板彎曲檢查裝置，其特征在于，所述攝像檢查部包括用于測(cè)定所述彎曲對(duì)象區(qū)域的亮度的亮度測(cè)定部。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板彎曲檢查裝置，其特征在于，所述攝像檢查部包括用于檢查所述彎曲對(duì)象區(qū)域的外觀的外觀檢查部。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板彎曲檢查裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括用于升降所述基板吸盤(pán)的升降部，以便所述基板吸盤(pán)突出到所述工作臺(tái)的上部。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板彎曲檢查裝置，其特征在于，所述工作臺(tái)包括向所述覆蓋構(gòu)件和所述工作臺(tái)之間提供真空壓力的吸引部，以便所述覆蓋構(gòu)件緊貼于所述工作臺(tái)。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板彎曲檢查裝置，其特征在于，所述工作臺(tái)包括用于固定所述覆蓋構(gòu)件的兩側(cè)的至少一對(duì)固定器。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板彎曲檢查裝置，其特征在于，所述基板吸盤(pán)是真空吸附所述基板的多孔吸盤(pán)，所述彎曲對(duì)象區(qū)域的一側(cè)鄰接面真空吸附于所述多孔吸盤(pán)的上面，所述彎曲對(duì)象區(qū)域的另一側(cè)鄰接面真空吸附于所述多孔吸盤(pán)的側(cè)面。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的基板彎曲檢查裝置，其特征在于，所述多孔吸盤(pán)，在所述上面和所述側(cè)面之間具備具有預(yù)定曲率半徑的曲面，以便所述彎曲對(duì)象區(qū)域以保持所述預(yù)定曲率半徑的狀態(tài)彎曲。
17.一種基板彎曲檢查方法，其特征在于，包括: 將基板的彎曲對(duì)象區(qū)域的鄰接面配置在基板吸盤(pán)上的步驟； 在容納所述基板吸盤(pán)的工作臺(tái)的上面配置覆蓋所述基板的覆蓋構(gòu)件的步驟； 緊貼所述覆蓋構(gòu)件和所述工作臺(tái)的步驟；以及 使所述基板吸盤(pán)從所述工作臺(tái)上升，所述覆蓋構(gòu)件朝所述基板吸盤(pán)的邊緣側(cè)加壓所述彎曲對(duì)象區(qū)域，從而彎曲所述彎曲對(duì)象區(qū)域的步驟。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的基板彎曲檢查方法，其特征在于，進(jìn)一步包括將配置在所述基板吸盤(pán)上的所述鄰接面及朝所述基板吸盤(pán)的邊緣側(cè)被加壓的所述彎曲對(duì)象區(qū)域吸附在所述基板吸盤(pán)的步驟。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的基板彎曲檢查方法，其特征在于，進(jìn)一步包括測(cè)定朝所述基板吸盤(pán)的邊緣側(cè)被加壓的所述彎曲對(duì)象區(qū)域的亮度的步驟。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的基板彎曲檢查方法，其特征在于，進(jìn)一步包括檢查朝所述基板吸盤(pán)的邊緣側(cè)被加壓的所述彎曲對(duì)象區(qū)域的外觀的步驟。
【文檔編號(hào)】G01N3/06GK104181057SQ201310399086
【公開(kāi)日】2014年12月3日 申請(qǐng)日期:2013年9月5日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月28日
【發(fā)明者】蘇正鎬, 樸順龍, 鄭哲宇, 鄭又碩, 金兌垠 申請(qǐng)人:三星顯示有限公司