專利名稱：用以保護對抗寄生離子化輻射來源的放射學(xué)特征裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及保戶對抗寄生離子化輻射來源的放射學(xué)特征裝置。放射學(xué)特征工具與所述裝置可做定量測量，也就是說，劑量率與以光譜測定術(shù)所呈現(xiàn)的放射性元素的質(zhì)量測量。在核子工業(yè)中，在惡劣的環(huán)境中工作是頻繁的，特別是拆除核子裝置的操作。這些操作必定是通過法規(guī)、實務(wù)與優(yōu)化的方法來約束，例如應(yīng)用所述ALARA(如可合理完成的低限，as low as reasonably achievable)原則。被業(yè)界建立所述原則以便降低暴露于離子化輻射，因此考慮至關(guān)于經(jīng)濟上的與社會的因素，其應(yīng)盡可能地低。在實務(wù)上，所述技術(shù)操作是仰賴對于背景與更精確地所述原位放射學(xué)特征的熟練，也就是說，污染的濃度程度、其所在處及于定處的所述放射性元素的品質(zhì)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有放射學(xué)特征裝置，例如于法國專利申請案FR 2789304中所述的裝置，其與伽瑪照相機以及準直伽瑪光譜偵測器一同使用，所述準直儀具有一觀測區(qū)，其包含在伽瑪照相機的觀測區(qū)中。于此裝置中，所述準直儀是固定的且圍繞于所述伽瑪光譜偵測器。所述文件”通過結(jié)合所述EDR單向伽瑪掃描儀與所述VISIPLAN 3D規(guī)劃工具的用途將放射性點特征化與模組化”，F(xiàn). Vermeersch等人，2003年，其展現(xiàn)儲存于一前端面裝設(shè)截頭圓錐形屏幕鋼制框罩的銫鈦結(jié)晶型伽瑪偵測器伴隨光電二極管的伽瑪分析儀的用途，此屏幕是通過鋼制準直儀所延展。很明確的，為呈現(xiàn)不同程度的離子化輻射來源，如拆除的建筑物中，其必須具有不同可交換尺寸的可用的準直儀。稱為Radscan 600的放射學(xué)特征裝置也為已知，如美國專利US 7095030的圖1所說明。所述裝置具有一檢測頭，其包含一影像照相機、一準直伽瑪偵測器以及一雷射遙測裝置。在此裝置中，其準直儀為可置換的。此裝置的缺點是于操作中，低強度的熱點可能被準直儀的觀測區(qū)外部的更高強度的熱點所覆蓋。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提出一種放射學(xué)特征裝置，其不具有前述限制與困難，以及特別地是其在更高強度的離子化輻射來源存在下，可不被寄生雜訊干擾，具有區(qū)別較低強度離子化輻射來源的能力。本發(fā)明的另一目的是提供一種具有一可調(diào)整的準直儀的放射學(xué)特征裝置。本發(fā)明的另一目的是提供一種具有可交換的放射學(xué)測量探針的放射學(xué)特征裝置。為了達到此目的，本發(fā)明是為一種放射學(xué)特征裝置，其包含至少一準直放射學(xué)的測量探針，一感測端部，其置于一具有一觀測區(qū)以及一開口的可置換的準直儀中。所述準直儀是通過準直儀支撐器所支持。所述組件是由準直儀與準直儀支撐器所組成，其是插入一迭屏蔽屏幕的兩個之間。所述提供屏蔽的屏幕為可替換的，以便調(diào)整其厚度，所述組件是由準直儀與準直儀支撐器所組成，以及所述屏蔽屏幕提供所述探針對于來自所述準直儀的觀測區(qū)外部的離子化輻射來源的寄生離子化輻射的保護。具有不同尺寸的開口的準直儀，可被裝設(shè)于所述準直儀支撐器中。有利地，所述測量探針是亦可替換的。所述測量探針可為一伽瑪光譜探針或一劑量率探針。所述放射學(xué)特征裝置，較佳地亦包含一放置所述探針的可拆卸的探針支撐器，當所述探針支撐器裝設(shè)于所述準直儀中，使放置所述探針的感測端部于準直儀中為可能的。當所述的探針支撐器設(shè)置復(fù)數(shù)個探針時，這些探針是安排為一束。有利地，每一個屏蔽屏幕包含一或多個屏蔽板；當有復(fù)數(shù)個屏蔽板時，這些是為一迭。因此調(diào)整所述屏蔽屏幕的厚度是可能的。所述準直儀可大體上為具有一開口以及一基座的U型。一相鄰于所述準直儀的屏蔽板，可于所述準直儀開口的鄰近區(qū)域形成斜面，以便增加其觀測區(qū)。這些屏蔽屏幕之一包含一可供所述探針通過的貫洞。其是可能提供鎖固對于所述準直儀支撐器、以及所述準直儀旋轉(zhuǎn)與位移的屏蔽屏
幕的工具。所述放射學(xué)特征裝置，可亦包含一可見光或遠紅外線照相機及/或一遙測裝置， 其固定于所述鎖固工具及/或一聚光燈。這些當復(fù)雜場所的檢測時是非常有用的。其亦較佳地當所述探針放置于所述準直儀中時，提供鎖固所述探針的工具，以便可沒有任何問題地移動所述特征裝置。


本發(fā)明將憑著閱讀所給實施例的范例描述，其純粹作為表明且未以此限制，并參考附加圖解而更加了解，其中圖1A、1B、1C是分別以分解圖、橫剖面以及組合圖顯示，是本發(fā)明的主題的一種放射學(xué)特征裝置的實施例；圖2A為一圖解說明所述流量率(fluence rate)，其是所述測量探針所觀測到的離子化輻射來源的能量的函數(shù)，以及圖2B為一圖解說明信噪比，其是所述準直儀所觀測到的離子化輻射來源的能量的函數(shù)；圖3A、;3B說明，以平面圖，本發(fā)明的放射學(xué)特征裝置的準直儀的準直儀能量，其與一不具有一準直儀的放射學(xué)特征裝置相比較；圖4A至4H說明應(yīng)用于更換本發(fā)明的放射學(xué)特征裝置的準直儀的步驟；圖5A至5C說明如何更改圖4的連結(jié)，用以更換所述測量探針；圖6A、6B、6C以橫切面說明數(shù)種探針支撐器；圖7A、7B、7C是為一放置一容器的框罩的劑量率的圖，其中所述框罩包含或具有分裂產(chǎn)物溶液，此框罩是受到一清潔步驟約束。所述放射性特征裝置所展現(xiàn)的各種配置，必須被了解的是彼此并非唯一的。下述不同圖式的同一的、相似的或相同的部件具有相同數(shù)字符號，以便于從一圖
移至另一圖。為了使圖式更易讀取，圖中所描繪的不同部件不一定以統(tǒng)一的比例來繪制。
具體實施例方式參照圖1，其為一種根據(jù)本發(fā)明的放射學(xué)特征裝置的一實施例的分解圖。圖IB顯示相同的根據(jù)本發(fā)明的放射學(xué)特征裝置的橫剖面圖。其包含一準直儀支撐器1其欲容納一準直儀2。所述準直儀2是大體上為具有一底部，其自兩個支臂突出是有助于界定所述準直儀2的開口 2. 1的U型。所述準直儀1可大體上為U或C型，所述準直儀的U型底部，是裝設(shè)于所述準直儀支撐器1中。因此，所述準直儀2是可替換的，以及所述準直儀的支撐器 1，是可容納具有不同尺寸的開口 2. 1但相同底部的準直儀1。圖IA顯示一組四個的準直儀2，其可分別地依序安裝于所述準直儀支撐器1上。此些四個準直儀2具有不同尺寸的開口 2. 1，相同于實施例中的介于10°與90°之間的角度，此些角度于圖IA中顯示，以便減少與所述準直儀支撐器1的距離。所述組件由所述準直儀2裝置于所述準直儀支撐器1 上形成，其于此后稱為所述準直組件3，其是被夾置于一迭4的兩個屏蔽屏幕5之間。所述屏蔽屏幕5是較佳實質(zhì)上為平的。所述屏蔽屏幕5是可替換的，使得其可依據(jù)所述的一或多個相鄰的伽瑪離子化輻射來源，以及被認為寄生的伽瑪離子化輻射來源所在處調(diào)整其厚度。所述離子化輻射來源并沒有顯示。所述準直儀2的開口 2. 1是位于所述迭4的一個邊緣。所述放射學(xué)特征裝置是包含至少一放射學(xué)測量探針6，其具有一感測部件裝設(shè)于所述準直儀2的U型底部，所述準直儀2的開口 2. 1為自由的。此測量探針6亦為可替換的，所述測量探針6可為劑量率探針， 例如來自Saphymo公司的SHI探針。此外，其可為以半導(dǎo)體，例如鎘鋅碲(CdSiTe)，為基底的伽瑪光譜探針。其可能同時使用復(fù)數(shù)個伽瑪光譜測定術(shù)探針6，其被安排為一束7，之后將可見到。探針支撐器8較佳地提供用以精準地定位所述探針6 (或這些探針)于準直儀 2中，其提供使用不具有相同橫剖面的測量探針6的可能性。所述探針支撐器8是可拆卸的，且可為套筒形式其中插入所述測量探針6或所述測量探針的束7，所述組件是由探針支撐器8以及裝設(shè)于所述準直儀2的U型底部中的測量探針6所組成。此探針支撐器8可由材料，例如銅，制造，使得其亦可以最低能量過濾離子化輻射。所述探針支撐器8可與一特定測量探針6 —同使用；其具有一外部的橫剖面，其相對于所述準直儀2的底部所界定的空間，以及一內(nèi)部的橫剖面其相對于所述測量探針6或測量探針的束7的橫剖面。所述組件是由探針支撐器8以及測量探針6所組成，其于此后相對應(yīng)為所述測量組件11。所述測量組件11與屏蔽屏幕5，套設(shè)于所述準直組件3的頂部。兩個屏蔽屏幕5以及準直組件3保護所述測量探針6，不受來自位于所述準直儀2 的觀測區(qū)外部的離子化輻射來源的任何寄生離子化輻射。兩個屏蔽屏幕5可通過一或多個板5. 1形成；當具有復(fù)數(shù)個板5. 1時，這些是為一迭。所述屏蔽屏幕5以及所述準直儀支撐器1，是由可對于離子化輻射形成障礙的材料所制造，例如鉛。例如所述準直儀2可由鎢所制造。所述屏蔽屏幕5之一包含一貫洞5. 2，供所述測量探針6通過，其伴隨所述探針支撐器8，如其存在。屏蔽板5. 1的數(shù)目在所述準直組件3的任一邊不需要相同。其是可能的提供至少一最靠近于準直儀2的屏蔽板5. 1，其具有一斜面邊緣5. 3于所述準直儀2的開口 2. 1，以便增加所述準直儀2的觀測區(qū)。
鎖固工具9可亦被提供用以鎖固多種組成的所述迭4，避免其旋轉(zhuǎn)與位移。所述鎖固工具9包含一突出三個中心桿9. 2的較低板9. 1。這些穿過所述屏蔽屏幕5以及所述準直儀支撐器1。這些中心桿9. 2避免所述迭4的構(gòu)件之一相對于其它構(gòu)件旋轉(zhuǎn)。所述迭4 坐落于所述較低板9. 1上。于實施例中，顯示出三個中心桿9. 2。此些鎖固工具9亦包含一較高板9. 3，其可供所述中心桿9. 2通過。其欲套設(shè)于所述迭4的頂部。螺帽9. 4亦存在，以固定于所述中心桿9. 2上，其至少局部地穿過，以便使所述較高板9. 3緊壓于其覆蓋的所述屏蔽屏幕5。鎖固所述測量探針6的工具10是亦提供，可為一橫杠10. 1形式，其一端是提供一貫洞10. 2以將其套設(shè)于中心桿9. 2之一以及其它端是提供一凹部10. 3是欲固定于所述其它中心桿9. 2。所述橫桿10. 1，當其于所述鎖固位置，是通過所述固定于中心桿9. 2上的螺帽9. 4的工具，以緊壓于所述較高板9. 3。其避免所述測量探針6的位移。所述較高板9. 3，其可加上一把手9. 30，用以幫助所述特征裝置的移動，以及所述準直儀2，特別是其開口 2. 1，的角定位。所述迭4是為旋轉(zhuǎn)圓柱形式顯示，但不限制。所述屏蔽屏幕5于此情形中，是以圓盤形式。以此裝置，可依據(jù)使用本發(fā)明的所述放射學(xué)特征裝置時，所述空間的配置，容易地修改屏蔽板5. 1的數(shù)目。因此，如果一非常強的離子化輻射來源(未顯示)是位于所述裝置之下，其可能于所述較低板9. 1以及所述準直組件3之間添加屏蔽板5. 1。如所述非常強的離子化輻射來源是位于所述裝置之上，其必然可添加它們于所述較高板9. 3與所述準直組件3之間。因此，所述屏蔽屏幕5不必需具有相同厚度，如圖5A至5C中說明。它們不必需具有相同的屏蔽板5.1的數(shù)目。其亦可能地，所述屏蔽板5.1不全具有相同的厚度。于圖5A至5C中，其坐落于所述較低板9. 1上的屏蔽板5. 1是較厚于其它的。此是僅為一實施例。所述中心桿9. 2的長度，可依據(jù)所使用的兩個所述屏蔽屏幕5的厚度，改變?yōu)檫m合的。于圖IC中，本發(fā)明的目的的所述放射學(xué)特征裝置是以3D呈現(xiàn)。其亦包含顯示于所述較高板9. 3的把手9. 30上的一遠紅外線或可見光的照相機21，黑色與白色或彩色的， 及/或一遙測裝置22。所述照相機21使其可能地將所觀察到的景象照一可見光或紅外線的相片。所述遙測裝置22使其可能地測量自一所觀測的離子化輻射來源分散至所述放射學(xué)特征裝置的距離。一聚光燈參考處23照亮了所述景象。一具有九十度開口的準直儀2的一準直組件3的功效，，已經(jīng)由一系列使用 MERCURE進階計算代碼6. 2的計算，而被證實，所述開口就是一孔徑。所述代碼為在具有一定能量的離子化輻射來源時，用以評估在偵測器的伽瑪流量的評估計算代碼?；仡櫫髁繛闉椋诳臻g中的一特定點，在某一段時間里，進入以此點為中心一適當小球內(nèi)粒子的數(shù)目， 被此球的大圓圈面積所除的商數(shù)。流量率是流量的變化被單位時間所除的商數(shù)。此離子化輻射來源有一個大體積，十公尺乘六公尺乘兩公尺。此劑量率測量探針被放在距離離子化輻射來源一公尺處。此離子化輻射來源已被設(shè)定五個不同能量值，分別是100千電子伏特，500千電子伏特，1百萬電子伏特，2百萬電子伏特和10百萬電子伏特。 準直儀在現(xiàn)場或不在的情形下，已使用本發(fā)明的放射學(xué)特征裝置進行這些流量率計算。在圖2A的曲線圖顯示流量率作為離子化輻射來源的能量的函數(shù)，參考曲線(b)對應(yīng)準直儀不在特征裝置的案例，參考曲線(a)對應(yīng)準直儀出現(xiàn)在特征裝置的案例。以準直儀做的計算，
6顯示流量率隨著來源的能量的函數(shù)變化。沒有準直儀，流量率實質(zhì)上是不變的。仍然使用同樣的離子化輻射來源和放射學(xué)特征裝置，此為本發(fā)明的目的物，其嘗試評估由準直組件產(chǎn)生的信噪比。參考已作出在圖2B，對上述提及的每一個不同能量，其流量已計算出，在一個第一組態(tài)，在其中離子化輻射來源是位于準直儀的觀測區(qū)內(nèi)，及在第二組態(tài)，其離子化輻射來源是絕對的位于準直儀的觀測區(qū)的外側(cè)。此信噪比是與第一組態(tài)計算值和第二組態(tài)計算值的比值成正比。此信噪比變化從大約2到大約1，并隨能量增加而降低。此MERCURE計算代碼把來源標準化成lBq/cm3的體積活度。圖3顯示一個由測量探針所獲得的流量模型，在此案例準直儀有出現(xiàn)(圖3A)，而在此案例沒出現(xiàn)(3B)。此放射學(xué)特征裝置是部份顯示于平面圖。當準直儀出現(xiàn)時，由測量探針6所獲得的流量特別小?，F(xiàn)在其將被顯示，參考圖4A到4H，其如何可能更換準直儀2。在圖4A，此放射學(xué)特征裝置包括一個具有一個大觀測區(qū)的準直儀2。其亦包括三個探針6排列成一個束7。在圖4B，此測量組件11已被開鎖，經(jīng)由放出中心桿9. 2其中之一的桿10. 1。在圖4C，此測量組件11被舉起而從準直儀2取出。此測量組件11可被留下插入在屏蔽屏幕5具有穿透孔5. 2。在圖4D，準直儀2被從準直儀支撐器1取出，像拉出一個抽屜。在圖4E，一個新的準直儀2被裝在準直儀支撐器1，像推入一個抽屜。在圖4F，此新準直儀2在位置上。其有一個比被移走的較小的觀測區(qū)。在圖4G，此測量組件11已被放回位置，經(jīng)由向下放入屏蔽屏幕5和準直儀2，直到其緊靠其它屏蔽屏幕5，此準直組合器3放置處。所有剩下的事就是把鎖定桿10. 1放回原來的位置，如圖4H所指示。如其希望改變測量探針6，其可能實施以下的作業(yè)。在圖4A到4C所述的作業(yè)被實施。然后此測量組件11 被完全移走如圖5A，被其它一個取代如圖5B，5C。在圖5C，此新測量組件11在位置上。所有剩下的事就是把鎖定桿10. 1放回原來的位置，如圖4H所示。其當然可能，在一連串的步驟后，結(jié)合準直儀的改變和測量組件11的改變。此測量探針6接收由離子化輻射來源所放射的珈瑪光譜(無顯示)。由測量探針所供應(yīng)的信號，其對應(yīng)于收到的珈瑪光譜，使其可能推估出現(xiàn)在光譜上的流量率或放射離子化輻射的每一放射性元素的活度。因此解釋珈瑪光譜使其成為可能，例如在清掃一個房間時，在”線內(nèi)，，監(jiān)視出現(xiàn)在接收光譜上的每一放射性元素。在圖6A，6B，6C顯示幾個探針支撐器8的橫切面。此探針支撐器是旋轉(zhuǎn)式圓柱體， 無論其所接受的探針為何，其外側(cè)直徑均相同。在圖6A的探針支撐器8是計劃接受一捆幾個光譜測量探針，在例子里，三個被提供(例如圖4A所示)，但不限于這個數(shù)目。此三個探針可能相同或有不同體積。例如其可能提供逐漸加大體積的探針，例如1立方毫米，5立方毫米和60立方毫米。此所作測量涵蓋一個大的測量動態(tài)范圍。在另一不同的形式，其可能使用相同體積的探針，并加總每一探針所獲得伽瑪輻射光譜。此后述組態(tài)使其可能保持偵測解像力，與使用一個單一三倍體積探針的案例比較，使用一個低體積偵測器但增加效率。 在圖6B和6C，此探針支撐器8被設(shè)計為接受一個單一探針，被放置在圖6B的探針支撐器的探針體積，大于被放置在圖6C的探針支撐器的探針體積。此放射學(xué)特征裝置即本發(fā)明的目的物，可被用來直接開發(fā)由測量探針或探針所傳送的信號，并以一個簡單的報告或表格，提供處理這些信號”線內(nèi)”。一個絕對的測量方法被使用。此放射學(xué)特征裝置被移動至少一個垂直，在將被特征化的景象前面，懸吊在一個桿上并使其在每一高度，有一個或多個角定位。根據(jù)傳送的信號，其可能改變準直儀，一側(cè)或另一側(cè)或兩側(cè)屏蔽屏幕的厚度，或甚至于此測量探針。在另一不同的形式，其是可能地實施一后驗步驟。一相關(guān)的測量方法是被使用。對于一特定離子化輻射來源以及一特定準直儀，所觀測到的景象的圖可就劑量率制定。以所述方向角所做出的定義，其給予所述特征裝置以及因此至測量探針，于一零角度的任一邊其中所述準直儀的視軸是實質(zhì)地垂直于所觀測到的景象。復(fù)數(shù)個高度亦被定義。例如，對于一特定高度以及某些方向角的數(shù)目，以所述劑量率所做出的一測量。其是因此可能地查考如圖7A說明的第一圖。其界定出點或區(qū)域的污染以及濃度。如所述景象隨后被清除，其是可能地與此清除結(jié)束以及一新系列的測量一同進行，以及一具有相同高度以及相同角度的新圖的形成，以便估算消除污染的功效。其是可能地，通過更換所述測量探針以便使用一伽瑪光譜探針，去測量所觀測到的放射性元素的質(zhì)量。其隨后可能地使所述劑量率圖與所述伽瑪光譜一同，以便估算所觀測到的景象的活度。圖7A、7B以及7C是一含有一用以收集與保存核分裂產(chǎn)物溶液的套管的框罩的劑量率圖。所述測量是于介于-1公尺與-5. 25公尺之間的深度所做。掃描是于-90度至90 度的范圍下進行。所述框罩是位于一位于混凝土平板70下的建筑物的地下室。此些圖相對應(yīng)于所述清除開始前的狀態(tài)(圖7A)，于清除中的狀態(tài)(圖7B)，以及清除的最終狀態(tài)(圖 7C)。于圖7A中，三個高污染程度的區(qū)域可被觀測到。此些是一區(qū)域編號1，靠近天花板，一中間區(qū)域編號2以及一框罩-底部區(qū)域編號3。區(qū)域編號1是屬于一管子例如一取樣罐。區(qū)域編號2是屬于擠出器形式的套管的內(nèi)部部件，或如形成一泥灰土區(qū)域。區(qū)域編號 3是屬于所述套管的底部，其仍含有活性溶液。于圖7B中，其可被觀測到其所述劑量率，至少于區(qū)域2與3中已降低。當清除操作開始以及所述套管被清空時開始監(jiān)測。新的強度污染區(qū)域，稱作區(qū)域4，出現(xiàn)于圖的左手邊部分，于約介于-3. 75與-4. 5公尺之間的高度。其相對應(yīng)于用以清空套管的管子。因所述取樣罐未經(jīng)處理，區(qū)域編號1仍顯示。所述清除操作繼續(xù)，所述套管經(jīng)清洗，以及其清洗功效于圖7C中不能否定。區(qū)域編號4消失，區(qū)域3的強度降低。僅有區(qū)域編號1，其沒有被消除污染，仍保持強度。圖的結(jié)果以及污染功效的報告是可信的且精確的?？闪私舛喾N變化與修飾可用于所述放射學(xué)特征裝置，而不悖離本發(fā)明的范圍。
權(quán)利要求
1.一種放射學(xué)特征裝置，其包含至少一準直放射學(xué)測量探針(6)，其感測端部設(shè)置于一具一觀測區(qū)的可置換準直儀( 中，其特征在于所述準直儀( 是通過一準直儀支撐器 (1)所支持，一由所述準直儀與所述準直儀支撐器C3)所組成的組件(3)，是插入一迭屏蔽屏幕(5)的兩個之間，所述屏蔽屏幕(5)是可置換的，以便調(diào)整其厚度，所述由所述準直儀與所述準直儀支撐器所組成的組件( 、以及所述屏蔽屏幕( 提供所述探針(6)對于來自位于所述準直儀O)的觀測區(qū)外部的離子化輻射來源的寄生離子化輻射的保護，所述準直儀大體上為具一開口(2. 1)的U型、以及一裝設(shè)所述測量探針的感測端部的底部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射學(xué)特征裝置，其特征在于所述準直儀支撐器(1)是欲裝設(shè)具有不同尺寸的開口(2. 1)的準直儀O)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項所述的放射學(xué)特征裝置，其特征在于所述測量探針 (6)是可置換的。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的放射學(xué)特征裝置，其特征在于所述測量探針 (6)是伽瑪光譜探針或劑量率探針。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的放射學(xué)特征裝置，其特征在于亦包含所述探針(6)放置于其中的可拆卸的一探針支撐器(8)，所述探針支撐器( 當其裝設(shè)于所述準直儀O)中，使其能于所述準直儀O)中放置所述探針(6)的感測端部。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的放射學(xué)特征裝置，其特征在于當所述探針支撐器(8)設(shè)置復(fù)數(shù)個所述探針(6)時，這些探針是安排為一束(7)。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的放射學(xué)特征裝置，其特征在于每一個所述屏蔽屏幕(5)包含一個或多個屏蔽板(5. 1)，以及當有復(fù)數(shù)個所述屏蔽板(5. 1)時，這些屏蔽板是為一迭。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的放射學(xué)特征裝置，其特征在于相鄰所述準直儀O)的所述屏蔽板(5. 1)具有一斜面邊緣(5. 3)，其靠近于所述準直儀O)的所述開口(2. 1)，以便增加其觀測區(qū)。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的放射學(xué)特征裝置，其特征在于所述屏蔽屏幕 (5)的其中之一包含供所述探針(6)通過之一貫洞(5.2)。
10.根據(jù)依附于權(quán)利要求5的權(quán)利要求9所述的放射學(xué)特征裝置，其特征在于所述探針支撐器(8)貫穿通過所述貫洞(5. 2)。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的放射學(xué)特征裝置，亦包含鎖固所述相對于所述準直儀支撐器(1)以及所述準直儀(2)旋轉(zhuǎn)與位移的屏蔽屏幕(5)的一工具(9)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的放射學(xué)特征裝置，其特征在于亦包含一可見光或遠紅外線的相機(21)、及/或一遙測裝置0 固定于所述鎖固工具(9)及/或一聚光燈03)。
13.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的放射學(xué)特征裝置，亦包含一鎖固置于所述準直儀O)中的所述探針(6)的工具(10)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種放射學(xué)特征裝置，其包含至少一準直放射學(xué)的測量探針(6)，一感測端部其是置于一可變的準直儀(2)中，其具有一開口以及一觀測區(qū)。所述準直儀(2)是通過一準直儀支撐器(1)所支持。所述組件(3)是由準直儀與準直儀支撐器所組成，其是插入一迭屏蔽屏幕(5)的兩個之間。所述屏蔽屏幕(5)是可替換的以便調(diào)整其厚度。所述組件(11)是由準直儀與準直儀支撐器所組成，以及所述屏蔽屏幕(5)提供所述探針(6)對于來自位于所述準直儀(2)的觀測區(qū)外部的離子化輻射來源的寄生離子化輻射保護。
文檔編號G01T1/169GK102349000SQ201080011659
公開日2012年2月8日 申請日期2010年3月11日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月13日
發(fā)明者克里斯·杜克羅斯, 克里斯托夫·布奈斯, 法布斯·朗姆第, 菲利浦·吉羅內(nèi)斯 申請人:法國原子能與替代能委員會