專利名稱：形貌測量方法及其測量裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于一種形貌測量方法(Surface Profile Measuring Method)及其測量裝置，尤其是一種透過使用寬頻光源，以非接觸的方式進行的形貌測量方法及其測量裝置。
背景技術(shù)：
利用白光干涉(white light interferometry)的特性，以非接觸方式對物體表面形貌進行測量的形貌測量裝置，是廣泛應(yīng)用于對精密度有高度要求的產(chǎn)品，諸如半導(dǎo)體晶片、液晶顯示器的玻璃面板等。
請參照圖1所示，是一典型非接觸式形貌測量裝置的示意圖。如圖中所示，此形貌測量裝置具有一寬頻光源10、一準直透鏡(collimation lens)20、一45度分光鏡(Splitter)30、一成像目鏡40、一影像感測裝置50、一干涉顯微物鏡組60、一掃描平臺70與一計算機系統(tǒng)80。寬頻光源10所提供的光線，透過準直透鏡20形成平行光，投射至45度分光鏡30。此平行光是受到45度分光鏡30的反射，照射至干涉顯微物鏡組60。
干涉顯微物鏡組60是位于掃描平臺70的上方，并且，對準掃描平臺70所承載的待測物體90的表面。此干涉顯微物鏡組60具有一顯微物鏡62、一反射鏡64與一分光鏡(beam splitter)66。其中，顯微物鏡62是位于反射鏡64的上方，而反射鏡64是位于分光鏡66的上方。來自45度分光鏡30的光線，透過顯微物鏡62，照射至分光鏡66，而被分光鏡66分成兩道光線。其中一道光線是照射至反射鏡64，而另一道光線則是照射至待測物體90表面。
此二道光線分別經(jīng)由反射鏡64與待測物體90表面反射后，投射回分光鏡66再度重合。值得注意的是，由于此二道光線行經(jīng)距離的差異(即此二道光線的光程差(Optical Path Difference，OPD))，將在重合后的光線內(nèi)產(chǎn)生干涉效果。而此光線再向上投射，經(jīng)過顯微物鏡62與45度分光鏡30，最后，透過成像目鏡40聚焦于影像感測裝置50。
前述二道光線的光程差的大小，是受到干涉顯微物鏡組60與掃描平臺70的距離的影響。因此，通過改變干涉顯微物鏡組60或是掃描平臺70的垂直位置，即可改變光程差的大小，而使影像感測裝置50接收到一系列具有不同光程差的干涉影像。透過計算機系統(tǒng)80分析，計算此一系列干涉影像中，各個像素位置在不同的干涉影像中的光強度，即可形成如圖2的干涉圖譜。此干涉圖譜是一理想的干涉圖譜，透過計算此干涉圖譜中的波包的峰值，即可推導(dǎo)出零光程差的位置，以確認此像素位置所對應(yīng)的高度。以同樣的方式，計算其它像素位置所對應(yīng)的高度，即可得到此待測物體90的表面形貌。
基本上，計算干涉圖譜的波形峰值的方法大致可分為兩類一是相移法(phase shifting interferometry，PSI)，一是垂直掃描干涉法(verticalscanning interferometry，VSI)。
相移法是利用干涉圖譜的規(guī)律的頻率相位變化，透過擷取相位信息、解相位與相位重建等步驟，計算干涉圖譜實際上的峰值的位置，以計算出物體的表面形貌。值得注意的是，相移法是適用于表面平滑的待測物體，一旦待測物體表面有較大的高度差(所形成的干涉影像中，相鄰二像素高度差大于光波長的四分之一)，相移法便無法正確求得物體的表面形貌。
垂直掃描干涉法是利用干涉圖譜對稱于零光程差處，以及干涉圖譜在零光程差處的光強度最大的特性，分析干涉圖譜，找出零光程差的位置，并藉以計算物體的表面形貌。值得注意的是，垂直掃描干涉法雖然并不受到待測物體表面的高度差的限制，但是，在測量的精確度上，卻不及相移法。以下系列舉一些用以估算零光程差位置的技術(shù)。
美國專利案第5633715號是使用質(zhì)心法(Centroid Approach)，以干涉圖譜的質(zhì)心位置為零光程差的位置，藉以計算出待測表面的垂直高度。此方法雖然具有速度快的優(yōu)點，但是，若是干涉圖譜在波包處的干涉條紋不對稱，則以質(zhì)心法計算的質(zhì)心位置，必然與零光程差的位置有明顯的誤差產(chǎn)生。此外，不可避免的，在以質(zhì)心法計算質(zhì)心位置的過程中，亦將干涉圖譜內(nèi)的噪聲一并計算進去。因此，在系統(tǒng)噪聲比較大或是干涉圖譜的垂直掃描范圍較大(通常是使用于表面高度的范圍較大的待測物體)的情況下，此方法的量測誤差將更形明顯。
美國專利案第5133601號的方法在形成干涉圖譜的過程中，是以相位差為90度的掃描步幅進行垂直掃描，以獲得干涉圖譜。隨后，再利用干涉圖譜在零光程差處，其干涉條紋的光強度對比最大的特性，以干涉圖譜上，連續(xù)三點或五點的光強度數(shù)據(jù)，求取其光強度對比，以尋找干涉條紋光強度對比最大處(亦即尋找零階干涉條紋(central fringe))。接下來，再以相位補償?shù)姆绞?，在此尋得的零階干涉條紋上，精確求取零光程差的位置。
基本上，此方法具有下列缺點一、條紋對比的計算量龐大，需要耗費相當多的時間；二、此方法對于噪聲的抵抗能力不佳，一旦在零階干涉條紋附近有明顯的噪聲，所求得光強度對比最大的干涉條紋偏離零階干涉條紋，則后續(xù)計算所獲得的零光程差位置，將與實際上的零光程差位置有360度相位差的整數(shù)倍的差異。
美國專利案第5398113號的方法是利用傅利葉轉(zhuǎn)換(Fourier analysis)等頻域轉(zhuǎn)換方式，將垂直掃描所獲得的干涉信息轉(zhuǎn)移至頻率域(frequencydomain)做一系列處理，再搭配最小平方逼近法(least square fitting)推算零光程差位置。值得注意的是，此方法雖然可以精確計算出待測物體的表面形貌，但是，頻域轉(zhuǎn)換與最小平方逼近法所產(chǎn)生的資料量卻非常龐大，而需要耗費相當多的時間。
如前所述，公知方法在估算零光程差的過程，或是無法有效排除噪聲的影響，而容易產(chǎn)生誤差，或是在計算過程中產(chǎn)生龐大的資料量，而耗費大量的時間，而無法同時兼顧量測的精確度與運算的速度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的，是提供一種形貌量測方法，可以有效降低干涉圖譜內(nèi)的噪聲的影響。
本發(fā)明的另一目的，是提供一種形貌量測方法，在顧及量測精確度的前提，同時顧及運算速度的需求。
本發(fā)明所提供的形貌測量方法(surface profile measuring method)，是用以準確且快速地在干涉圖譜中，確認零光程差的位置。首先，掃描此干涉圖譜，找出對應(yīng)于最大光強度的第一干涉條紋。然后，于第一干涉條紋及其附近的干涉條紋中，找出一第二干涉條紋，使干涉圖譜相對于此第二干涉條紋具有最佳對稱性。隨后，在此第二干涉條紋上，利用相位補償法，找出第二干涉條紋的波峰所對應(yīng)的高度值。
依據(jù)前述的形貌量測方法，本發(fā)明一并提供一種形貌測量裝置。此形貌測量裝置具有一寬頻光源、一分光鏡、一位移模塊、一影像感測模塊、一取樣模塊、一圖譜掃描模塊、一對稱性判斷模塊與一計算模塊。其中，寬頻光源是產(chǎn)生一寬頻光。分光鏡是將此寬頻光分束，分別照射至待測物體表面與一參考面。位移模塊是可以一定的步幅，改變待測物體表面與分光鏡之間隔距離。影像感測模塊是用以收集寬頻光經(jīng)待測物體表面與參考面反射而形成的干涉影像。并且，經(jīng)此影像感測模塊所獲取的干涉影像中的各個像素，是分別對應(yīng)于待測物體表面的各個特定位置。取樣模塊是用以獲取前述各個像素的強度值。并且，隨著位移模塊改變待測物體表面與分光鏡之間隔距離，取樣模塊是對待測物體表面的各個特定位置，分別形成一高度值對應(yīng)于影像強度的干涉圖譜。
圖譜掃描模塊是掃描干涉圖譜，以找出對應(yīng)于最大光強度的干涉條紋的第一資料點。對稱性判斷模塊，是于此第一資料點及其外圍一定范圍內(nèi)的資料點中，找出可以使干涉圖譜具有最佳對稱性的第二資料點。計算模塊是依據(jù)第二數(shù)據(jù)點及其鄰近的資料點，找出第二資料點所座落的干涉條紋的波峰于干涉圖譜上所對應(yīng)的高度值。
關(guān)于本發(fā)明的優(yōu)點與精神可以通過以下的發(fā)明詳述及所附圖式得到進一步的了解。


圖1是一典型形貌測量裝置的示意圖。
圖2是一理想上的干涉圖譜。
圖3是本發(fā)明的形貌測量方法(surface profile measuring method)一較佳實施例的流程圖。
圖3A是顯示圖3的步驟B中，于干涉圖譜中選取第一資料點。
圖3B是顯示圖3的步驟C中，所選取的第一資料點及其鄰近的待測資料點。
圖3C是顯示圖3的步驟C中，估算干涉圖譜的對稱性的方法。
圖3D是顯示圖3的步驟D中，于零階條紋上，估算零光程差位置的示意圖。
圖4是本發(fā)明的形貌測量裝置一較佳實施例的示意圖。
符號說明寬頻光源10準直透鏡2045度分光鏡30成像目鏡40干涉顯微物鏡組60掃描平臺70計算機系統(tǒng)80影像感測模塊50取樣模塊100圖譜掃描模塊120對稱性判斷模塊140
計算模塊160。
位移模塊180具體實施方式
請參照圖3所示，是本發(fā)明的形貌測量方法(surface profile measuringmethod)一較佳實施例的流程圖。于步驟A中，同時請參照圖4所示，寬頻光(例如白光)是透過一分光鏡66的分束，分別照射一待測物體表面與一參考面，同時以一固定步幅，調(diào)整待測物體表面與分光鏡的距離，而產(chǎn)生一高度值對應(yīng)于光強度的干涉圖譜(如圖2所示)。
接下來，于步驟B中，掃描此干涉圖譜，找出對應(yīng)于最大光強度的第一資料點P1。同時請參照圖3A所示，經(jīng)由尋找此最大光強度的第一數(shù)據(jù)P1點的位置，即可大致確認在干涉圖譜中，對應(yīng)于最大光強度的第一干涉條紋。
然后，于步驟C中，同時請參照圖3B所示，在第一資料點P1及其附近預(yù)定數(shù)量的資料點Pn1，Pn2中，找出一第二資料點，使干涉圖譜相對于此第二資料點具有最佳的對稱性。
在選取資料點的過程中，是以第一資料點P1為基準，并以一定間隔t于第一資料點P1周邊一定范圍內(nèi)的資料點中，選取多個待測資料點Pn1，Pn2。值得注意的是，此間隔的大小，是足以使第一資料點P1與各個待測資料點Pn1，Pn2，分別位于不同的干涉條紋上。同時，各個待測資料點Pn1，Pn2最好是其所座落的干涉條紋上，具有最大光強度的資料點。就一較佳實施例而言，此間隔t的大小是相當于干涉圖譜上三百六十度相位差的距離。
隨后，就第一資料點P1與選取的待測資料點Pn1，Pn2，分別設(shè)定為中心Pc，來計算干涉圖譜的對稱性。如圖3C所示，此在計算干涉圖譜的對稱性的步驟，是就干涉圖譜于中心Pc左右兩側(cè)一定范圍d內(nèi)的起伏變化，分別加總。也就是說，就此中心Pc兩側(cè)一定范圍d內(nèi)，所有相鄰資料點的光強度差值的絕對值，分別加總。然后，將左右兩側(cè)加總后的數(shù)值相減，以判斷對稱性。值得注意的是，此范圍d的大小必須足以涵蓋干涉圖譜中的整個波包的寬度。
透過比較以不同的資料點P1，Pn1，Pn2為中心所計算的相減后的數(shù)值，所得數(shù)值最小者所對應(yīng)的資料點，即是使干涉條紋具有最佳對稱性的第二資料點P2。
由此觀之，前述步驟C也可說是在圖3A的第一干涉條紋及其附近的干涉條紋中，找出一第二干涉條紋(對應(yīng)于前述第二資料點P2)，可以使干涉圖譜相對于此第二干涉條紋具有最佳對稱性，而此第二干涉條紋即是零階的干涉條紋。
值得注意的是，前述步驟C的選取資料點的方式，會受到步驟A中所形成的干涉圖譜，其取樣密度的影響。而此取樣密度是受到固定步幅的大小所決定。就一較佳實施例而言，當固定步幅的大小是相當于干涉圖譜上九十度相位差的距離，步驟C所選取的各個待測資料點是分別與第一資料點間隔四個固定步幅的距離或其整數(shù)倍。
隨后，于步驟D中，并請參照圖3D所示，依據(jù)第二資料點P2及其鄰近的資料點Pm1，Pm2，Pm3，Pm4，以相位補償法，找出零階干涉條紋的波峰于干涉圖譜上所對應(yīng)的高度值，亦即零光程差的位置。
值得注意的是，步驟D的選取資料點的方式，亦會受到步驟A中所形成的干涉圖譜，其取樣密度的影響。就一較佳實施例而言，當固定步幅的大小是相當于干涉圖譜上九十度相位差的距離，在步驟D中，是依據(jù)第二資料點P2及其最近四個資料點Pm1，Pm2，Pm3，Pm4的資料(如圖3D所示)，以下列方程式(1)進行相位補償，以計算第二資料點P2與實際上零光程差位置的相位差Φ。
方程式(1)Φ＝tan-1(2(Ipm2-Ipm3)/(2Ipc-Ipm1-Ipm4)。
其中，Ipm1、Ipm2、Ipm3與Ipm4分別是第二資料點P2周圍最近四個資料點Pm1，Pm2，Pm3，Pm4所對應(yīng)的光強度值；而Ipc則是第二資料點P2所對應(yīng)的光強度值。
然后，將此相位差Φ，換算為高度值的差距Δh＝Φλ/4π...方程式(2)。由此，即可估算出實際上零光程差位置，所對應(yīng)的高度值h0＝hp2+Δh...方程式(3)。其中，hp2是指第二資料點P2所對應(yīng)的高度值。
請參照圖4所示，是本發(fā)明的形貌測量裝置一較佳實施例的示意圖。如圖中所示，此形貌測量裝置具有一寬頻光源10、一準直透鏡(collimationlens)20、一45度分光鏡(Splitter)30、一成像目鏡40、一干涉顯微物鏡組60、一掃描平臺70、一位移模塊180、一影像感測模塊50、一取樣模塊100、一圖譜掃描模塊120、一對稱性判斷模塊140與一計算模塊160。
寬頻光源10所提供的光線是透過準直透鏡20，形成平行光照射至45度分光鏡30。此平行光受到45度分光鏡30的反射，照射至干涉顯微物鏡組60。干涉顯微物鏡組60是位于掃描平臺70上方，并且，對準置放于掃描平臺70上方的待測物體90的表面。此干涉顯微物鏡組60具有一顯微物鏡62、一反射鏡64與一分光鏡(beam splitter)66。來自45度分光鏡30的光線，是透過顯微物鏡62，照射至分光鏡66而被分束成兩道光線。此二道光線分別經(jīng)由反射鏡64與待測物體的表面90反射后，投射回分光鏡66再度重合而產(chǎn)生干涉。干涉后的光線向上投射，依序經(jīng)過顯微物鏡62與45度分光鏡30，并透過成像目鏡40聚焦于影像感測裝置50。
位移模塊180是可以一定的步幅，改變待測物體90表面與分光鏡66的間隔距離，以調(diào)整前述二道光線的光程差的大小，藉此，影像感測裝置50即可攫取一系列具有不同光程差的干涉影像。此影像感測模塊50所攫取的干涉影像中，各個像素是分別對應(yīng)至待測物體90表面的不同位置。
取樣模塊100是用以獲取前述各個像素的強度值。并且，隨著待測物體90表面與反射鏡表面(可視為一參考面)之間隔距離的改變，取樣模塊100是對于待測物體表面的不同位置(即對于干涉影像的各個像素)，分別形成一高度值對應(yīng)于影像強度的干涉圖譜。
同時請參照圖3A所示，圖譜掃描模塊120是用以掃描此干涉圖譜，找出對應(yīng)于最大光強度的干涉條紋的第一資料點P1。同時請參照第三B與C圖所示，對稱性判斷模塊140是依據(jù)前述圖譜掃描模塊120所獲取的第一數(shù)據(jù)點P1，于此第一資料點P1及其附近的資料點Pn1，Pn2中，找出可以使干涉圖譜具有最佳對稱性的第二資料點P2。同時請參照圖3D所示，計算模塊160是依據(jù)對稱性判斷模塊140所獲取的第二資料點P2，藉以在第二資料點P2及其鄰近的資料點Pm1，Pm2，Pm3，Pm4，找出第二資料點P2所座落的零階干涉條紋的波峰，于干涉圖譜上所對應(yīng)的高度值。
就步驟B而言，本發(fā)明是直接在干涉圖譜中，找出光強度最大的第一資料點P1。此計算過程僅涉及簡單的比對，而不需耗費過大的計算時間。其次，就一般的干涉圖譜而言，除非是涉及暗點，干涉圖譜中光強度最大值都非常接近零階條紋的位置。因此，由步驟B所獲得的第一資料點P1當不致于與零階條紋的位置有太大的偏離。
透過步驟B約略確認零階條紋的位置后，于步驟C中，本發(fā)明利用波包的對稱性，找出一使干涉圖譜具有最佳對稱性的第二資料點P2，以確認確切的零階條紋處。基本上，在干涉圖譜中，白光干涉所形成的波包的寬度通常不會太大。而如圖3C所示，在對稱性的判斷過程中，僅涉及簡單的加減計算，可以維持理想的計算速度。又，本發(fā)明利用對稱性求取確切的零階條紋的位置，亦可以避免噪聲對于計算準確性的影響(噪聲對于零階條紋左右兩側(cè)的干涉圖譜通常有相似的影響，而于此計算過程中是相互抵銷)。
在步驟D中，本發(fā)明是就步驟C所獲致的零階條紋，以相位補償?shù)姆椒ㄇ笕〈_切的零光程差位置。值得注意的是，透過相位補償?shù)姆绞剿@得的零光程差位置，其精確度是可與公知相移算法相比擬。又，由于本發(fā)明于步驟B與C中，即已確認零階條紋的位置，因此，不會面臨公知相移算法無法應(yīng)用于較大高度差的缺點，同時，亦可以節(jié)省公知相移算法于相位重建所需花費的時間。
以上所述是利用較佳實施例詳細說明本發(fā)明，而非限制本發(fā)明的范圍，而且熟知此類技藝人士皆能明了，適當而作些微的改變及調(diào)整，仍將不失本發(fā)明的要義所在，亦不脫離本發(fā)明的精神和范圍。
權(quán)利要求
1.一種形貌測量方法，以一寬頻光源經(jīng)一分光鏡分束后，分別照射一物體表面與一參考面，并以一定步幅，改變該物體表面與該分光鏡的距離，以產(chǎn)生一高度值對應(yīng)于光強度的干涉圖譜，該形貌測量方法至少包括下列步驟掃描該干涉圖譜，找出對應(yīng)于最大光強度的第一資料點；于該第一資料點及其周邊一定范圍內(nèi)的資料點中，找出一第二資料點，使該干涉圖譜相對于該第二資料點具有最佳對稱性；以及依據(jù)該第二資料點及其鄰近的資料點，找出該第二資料點所座落的干涉條紋的波峰，于該干涉圖譜上所對應(yīng)的高度值。
2.如權(quán)利要求1所述的形貌測量方法，其中，在找出使該干涉圖譜具有最佳對稱性的第二資料點的步驟中，包括以該第一資料點為基準，并以一定間隔，于該第一資料點附近選取多個待測資料點，該第一資料點與所述的待測資料點是分別對應(yīng)至不同的干涉條紋以及分別計算以該第一資料點與所述的待測資料點為中心時，該干涉圖譜的對稱性。
3.如權(quán)利要求2所述的形貌測量方法，其中，計算該干涉圖譜的對稱性的步驟，包括將該干涉圖譜對應(yīng)于該中心左右兩側(cè)一定范圍內(nèi)的起伏變化分別加總；以及將該加總后的數(shù)值相減，相減后所得數(shù)值最小者所對應(yīng)的資料點，即具有最佳對稱性。
4.如權(quán)利要求2所述的形貌測量方法，其中，該一定間隔的大小是相當于該干涉圖譜上三百六十度相位差的距離。
5.如權(quán)利要求2所述的形貌測量方法，其中，所述的待測資料點是分別與該第一資料點間隔四個固定步幅的距離或其整數(shù)倍。
6.如權(quán)利要求1所述的形貌測量方法，其中，該固定步幅的大小是相當于該干涉圖譜上九十度相位差的距離。
7.如權(quán)利要求1所述的形貌測量方法，其中，找出該第二資料點座落的干涉條紋的波峰的步驟中，是利用相位補償法，依據(jù)該第二資料點及其最近四個資料點的資料計算該波峰所對應(yīng)的高度值。
8.一種形貌測量裝置，包括一寬頻光源，產(chǎn)生一寬頻光；一分光鏡，將該寬頻光分束，以分別照射至一物體表面與一參考面；一位移裝置，可以一定的步幅，改變該物體表面與該分光鏡之間隔距離；一影像感測裝置，收集該寬頻光經(jīng)由該物體表面與該參考面反射而形成的干涉影像，該干涉影像中各個像素是分別對應(yīng)于該物體表面的各個特定位置；一取樣裝置，用以獲取該干涉影像中各個像素的強度，并且，隨著該物體表面與該分光鏡之間隔距離的改變，對該物體表面的各個特定位置，分別形成一高度位置對應(yīng)于影像強度的干涉圖譜；一圖譜掃描裝置，掃描該干涉圖譜，找出對應(yīng)于最大光強度的干涉條紋的第一資料點；一對稱性判斷裝置，于該第一資料點及其外圍一定范圍內(nèi)的資料點中，找出使該干涉圖譜具有最佳對稱性的第二資料點；以及一計算裝置，依據(jù)該第二資料點及其鄰近的資料點，找出該第二資料點所座落的干涉條紋的波峰，于該干涉圖譜上所對應(yīng)的高度值。
9.如權(quán)利要求8所述的形貌測量裝置，其中，該對稱性判斷裝置是以該第一資料點為基準，并以一定間隔，于該第一資料點附近選取多個與該第一資料點分別對應(yīng)至不同的干涉條紋的待測資料點，并且分別將該干涉圖譜對應(yīng)于該第一資料點或所述的待測資料點左右兩側(cè)一定范圍內(nèi)的起伏變化分別加總，并將該加總后的數(shù)值相減，相減后所得數(shù)值最小者所對應(yīng)的資料點即為該第二資料點。
10.如權(quán)利要求9所述的形貌測量裝置，其中，該一定間隔的大小是使該干涉影像產(chǎn)生三百六十度相位差的距離。
11.如權(quán)利要求9所述的形貌測量裝置，其中，該一定步幅的大小是使該干涉影像產(chǎn)生九十度相位差的距離，而所述的待測資料點是分別與該第一資料點間隔四個一定步幅的距離或其整數(shù)倍。
12.如權(quán)利要求8所述的形貌測量裝置，其中，該計算裝置是依據(jù)該第二資料點及其最近數(shù)個資料點的資料，利用相位補償法，找出該第二資料點所座落的干涉條紋的波峰，于該干涉圖譜上所對應(yīng)的高度值。
全文摘要
一種形貌測量方法(surface profile measuringmethod)，是以一寬頻光源經(jīng)分光鏡分束后，分別照射待測物體表面與一參考面，由兩個表面的反射光產(chǎn)生干涉，以一固定步幅，改變物體表面與分光鏡的距離，產(chǎn)生一高度值對應(yīng)于光強度的干涉圖譜。接下來，掃描此干涉圖譜，找出對應(yīng)于最大光強度的第一干涉條紋。然后，于第一干涉條紋及其附近的干涉條紋中，使用干涉圖譜對稱性原則，找出對稱性最佳的一第二干涉條紋。隨后，在此第二干涉條紋上，利用相位補償法，計算出第二干涉條紋的波峰所對應(yīng)的零光程差處，即為待測物體表面的高度值。
文檔編號G01B9/04GK1952594SQ20051011433
公開日2007年4月25日 申請日期2005年10月20日 優(yōu)先權(quán)日2005年10月20日
發(fā)明者張宏彰, 林耀明 申請人:致茂電子股份有限公司