專利名稱：改進(jìn)的羅盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種羅盤，特別是指基座設(shè)有羅盤及雷射光組件者。
背景技術(shù)：
按用于風(fēng)水地理的常用羅盤，基本上是由一裝有磁針的磁針盤、一設(shè)有多個方位及文字的轉(zhuǎn)盤、一承載轉(zhuǎn)盤、轉(zhuǎn)盤的基座所組成，該轉(zhuǎn)盤的盤面上印有360度的等份刻度線，并標(biāo)示八卦二十四山等文字以作為看風(fēng)水的依據(jù)。基座成正方形，在其正中央設(shè)一未貫穿圓孔以供裝設(shè)該轉(zhuǎn)盤，轉(zhuǎn)盤的盤面與基座等高；之后，在正方形基座的各兩組中點裝設(shè)紅細(xì)線而橫過盤面，形成十字交叉的直角坐標(biāo)軸。其中心點即為轉(zhuǎn)盤之中心點，以此紅線提供縱坐標(biāo)及橫坐標(biāo)，當(dāng)在使用時，有以下缺點(1)由于必須提供四邊以裝置紅細(xì)線，面積會增大而攜帶不方便(與本案相較)，(2)由于盤面有細(xì)紅線，操作時容易勾到紅線，(3)因為盤面與基座等高而使轉(zhuǎn)盤圓周側(cè)邊未凸出，操作時須雙手姆指接觸轉(zhuǎn)盤面，加上盤面有十字交叉的細(xì)紅線，造成干擾且不容易轉(zhuǎn)動該轉(zhuǎn)盤，尤其對于小型羅盤更嚴(yán)重；且以目視方式對準(zhǔn)目標(biāo)風(fēng)水物，方位就稍有誤差。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的上述不足，提出一種改良的羅盤。
本實用新型的上述目的是通過下述技術(shù)方案實現(xiàn)的
本實用新型的改良的羅盤，主要是由一磁針盤、一基座、一組雷射光組件所組成，該磁針盤包含一磁針盤外殼、方位刻度圓盤所組成，該磁針盤外殼呈中空透明狀以便觀測用，該刻度圓盤裝設(shè)于磁針的心軸上，如同陀螺般利于自由回轉(zhuǎn)；該刻度圓盤的盤面上標(biāo)示八卦二十四山文字及360度等份的方位刻度線，并依南北極黏附于磁針，使該刻度圓盤的南北方向永遠(yuǎn)指向地磁的南北極；其主要特征是該基座系概呈長方體，其后端有中空的內(nèi)空室，前端低于后端而呈半圓形的承窩座；又該后端的表面設(shè)一可延長而通過該承窩座中心的縱坐標(biāo)刻線；該承窩座中心正下方設(shè)一相通于內(nèi)空室的指引孔，該指引孔的方向與縱坐標(biāo)刻線同一方向；該內(nèi)空室可裝設(shè)一電池組，該指引孔可供裝設(shè)一雷射光組件；該磁針盤裝設(shè)黏著于承窩座，指北N刻線對準(zhǔn)基座的縱坐標(biāo)刻線。所以，雷射光組件所發(fā)射雷射光線沿著基座的縱坐標(biāo)刻線，而射向前方的被觀測物；此時，讀取縱坐標(biāo)刻度線對應(yīng)到方位刻度圓盤知刻度，即可知觀測者與被觀測物之間的相關(guān)方位角度。
本實用新型的第一優(yōu)選方案為所述的基座后端的表面設(shè)一可延長而通過所述承窩座中心的縱坐標(biāo)刻線。
本實用新型的第二優(yōu)選方案為所述的磁針盤外殼表面可印上十字坐標(biāo)刻線，以取代縱坐標(biāo)刻線及橫坐標(biāo)刻線。
本實用新型的第三優(yōu)選方案為在所述磁針盤外殼延十字坐標(biāo)刻線的縱軸兩端各加裝準(zhǔn)星。
本實用新型的第四優(yōu)選方案為在所述的磁針盤與所述的承窩座之間加裝一轉(zhuǎn)盤。
和現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型具有以下有益效果由于四邊不用裝置紅線，從而能夠縮小面積而便于攜帶，操作時也不會勾到紅線；并且所用雷射光具有光點集中不散射的優(yōu)點，故其照射距離很遠(yuǎn)，具有長距離精確測量方位的功能。


圖1是本實用新型的分解圖；圖2是本實用新型的組立圖；圖3是本實用新型的剖面圖；圖4是本實用新型操作觀看圖；圖5是本實用新型加裝準(zhǔn)星的實施例圖；圖6是本實用新型另一實施例圖；圖7是本實用新型再一實施例圖；其中，1為磁針盤；11為磁針；12為磁針盤外殼；13為方位刻度圓盤；2為轉(zhuǎn)盤；20為方位刻度線；21為內(nèi)圓孔；22為中心孔；3為基座；32為承靠軸；31為承窩座；33為指引孔；34為內(nèi)空室；30為縱坐標(biāo)刻線；301為橫坐標(biāo)刻線；4為電池組；41為雷射光組件；5為目視方向；51為準(zhǔn)星。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作進(jìn)一步描述。此實施例并非是對本實用新型任何形式上的限制；所以，凡有相同于本實用新型精神下所作有關(guān)的任何修改，仍應(yīng)屬本實用新型的范疇。
請參考圖1、圖3，本實用新型的改良的羅盤，其主要是由一磁針盤1、一基座3、一組雷射光組件41所組成，該磁針盤1由一磁針盤外殼12、方位刻度圓盤13所組成，該磁針盤外殼12呈中空透明狀以便觀測用，該刻度圓盤13裝設(shè)于磁針11的心軸上，如同陀螺般利于自由回轉(zhuǎn)；刻度圓盤13的盤面上標(biāo)示八卦二十四山之文字及360度等份之方位刻度線20，并依南北極(N-S極)黏附于磁針11，使該刻度圓盤13的南北方向永遠(yuǎn)指向地磁的南北極。該基座3概呈長方體，其后端有中空的內(nèi)空室34，前端低于后端而呈半圓形的承窩座31，可容納磁針盤1。該基座3的后端表面設(shè)一可延長而通過該承窩座31中心的縱坐標(biāo)刻線30；又設(shè)一垂直于縱坐標(biāo)刻線30的橫坐標(biāo)刻線301，縱坐標(biāo)刻線30及橫坐標(biāo)刻線301提供目測方向的基準(zhǔn)(當(dāng)電池沒電或在戶外大太陽之下，雷射光失效時)，同時縱坐標(biāo)刻線30亦提供對準(zhǔn)方位刻度圓盤13的方位刻度線20，以便讀取方位角度的根據(jù)；該承窩座31中心正下方設(shè)一相通于內(nèi)空孔34的指引室33以供裝設(shè)一雷射光組件41，該內(nèi)空室34可裝設(shè)一電池組4；請參考圖2，當(dāng)磁針盤1裝設(shè)黏著于承窩座31，其中心點是對準(zhǔn)承窩座31的中心點，即磁針11與N-S極的方位刻度線20重迭后對準(zhǔn)縱坐標(biāo)刻線30，其方位刻度圓盤13標(biāo)示的南北方位N-S極與磁針11的南北極一致，又方位刻度圓盤13的圓心是設(shè)于磁針11的心軸，該磁針11的心軸使圓盤13如同陀螺般自由回轉(zhuǎn)，所以方位刻度圓盤13隨著磁針11始終指向南北極。雷射光組件41所發(fā)射雷射光線系沿著基座3的指引孔33而射向前方的被觀測物；光點所打到的位置就是所欲觀測的目標(biāo)位置，此時縱坐標(biāo)刻線30對應(yīng)到方位刻度盤13上的刻度線20即為觀測者所處的方位，而被觀測者的方位則位于相隔180度的方位上；由于雷射光的光點集中不散射的優(yōu)點，故其照射距離很遠(yuǎn)，可提供長距離精確測量方位的功能。
請參考圖2，當(dāng)目標(biāo)鎖定之后，由于磁針盤1的方位刻度圓盤13始終指向南北極，此時，只要訪取縱坐標(biāo)刻線30所對到方位刻度圓盤13上的刻度，即知此為觀測者所處的方位角度，而被觀測物的方位角度則為未于相隔180度的方位上。
請參考圖4，操作時，將本實用新型水平置于掌心，以食指、中指及無名指握住基座3，以大拇指打開雷射光組件41開關(guān)。讓雷射光線照射到被觀測物鎖定方向，待方位刻度圓盤13靜止之后，讀取縱坐標(biāo)刻線30所對到方位刻度圓盤13上的刻度，即為觀測者所處的方位角度，而被觀測物的方位角度則為位于相隔180度的方位上。當(dāng)雷射光失效時(如電池沒電或在戶外大太陽之下看不到雷射光點)，縱坐標(biāo)刻線30及橫坐標(biāo)刻線301系提供目測時的基準(zhǔn)，同時縱坐標(biāo)刻線30亦提供對準(zhǔn)方位刻度圓盤13上角度的功能，為讀取方位角度的根據(jù)；同時亦可在磁針盤外殼12表面印上十字坐標(biāo)刻線，以取代縱坐標(biāo)刻線30及橫坐標(biāo)刻線301，如此更便利于直接讀取方位刻度圓盤2上的刻度。本實用新型亦可如第五圖所示，在磁針盤外殼12延縱坐標(biāo)刻線30或十字坐標(biāo)刻線的縱軸兩端各加裝準(zhǔn)星51，便于瞄準(zhǔn)遠(yuǎn)方的目標(biāo)。
本實用新型亦可如圖6、圖7所示，在磁針盤1與承窩座31之間加裝一轉(zhuǎn)盤2，其作法為首先該承窩座31中心設(shè)一凸出的短圓柱的承靠軸32以作為裝設(shè)磁針盤1及轉(zhuǎn)盤2的中心孔22的中心承靠用；該轉(zhuǎn)盤2盤面上亦標(biāo)示著八卦二十四山之文字及360度等份刻線，且其中心設(shè)一未貫穿的內(nèi)圓孔21及一貫穿的中心孔22，內(nèi)圓孔21的大小比磁針盤1略大，磁針盤1系置入其內(nèi)，但固定于承靠軸32，并不隨轉(zhuǎn)盤2轉(zhuǎn)動，而轉(zhuǎn)盤2轉(zhuǎn)動時系繞承靠軸32回轉(zhuǎn)；轉(zhuǎn)盤2的圓周可設(shè)直條紋以增加摩擦，使手的拇指及食指易于旋轉(zhuǎn)該轉(zhuǎn)盤2。
操作時，將本實用新型置于掌心，以食指、中指及無名指握住基座3，將縱坐標(biāo)刻線30對準(zhǔn)前方欲觀測的目標(biāo)物，同時打開雷射光組件41，讓雷射光線照射到被觀測物，確定方向之后，接著以拇指及食指推動轉(zhuǎn)盤2的圓周側(cè)邊，由于磁針盤1的該方位刻度圓盤13始終指向地磁南北極，當(dāng)轉(zhuǎn)動轉(zhuǎn)盤2，其盤面的南、北刻線與該方位刻度圓盤13上的南、北刻線趨于一致時，讀取縱坐標(biāo)刻線30對應(yīng)到轉(zhuǎn)盤2上的方位角度即為觀測者所處的方位，而被觀測物的方位則位于相隔180度的方位上，在讀取方位角度的同時，再次觀察雷射光是否正確照射到被觀測物，若無，在修正方向之后，再轉(zhuǎn)動該轉(zhuǎn)盤2對準(zhǔn)刻線直到正確為止。
權(quán)利要求1.一種改進(jìn)的羅盤，其主要是由一磁針盤、一基座、一組雷射光組件所組成，該磁針盤包含一磁針盤外殼、方位刻度圓盤，該磁針盤外殼呈中空透明狀以便觀測用，該刻度圓盤裝設(shè)于磁針的心軸上，自由回轉(zhuǎn)；刻度圓盤的盤面上標(biāo)示八卦二十四山之文字及360度等份之方位刻度線，并依南北極黏附于磁針，使該刻度圓盤的南北方向永遠(yuǎn)指向地磁的南北極；其主要特征是該基座概呈長方體，其后端有中空的內(nèi)空室，前端低于后端而呈半圓形的承窩座；該承窩座中心下方設(shè)一相通于內(nèi)空室的指引孔，該指引孔的方向與縱坐標(biāo)刻線同一方向；該內(nèi)空室可裝設(shè)一電池組，該指引孔可供裝設(shè)一雷射光組件；該磁針盤裝設(shè)黏著于承窩座。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進(jìn)的羅盤，其特征在于該基座后端的表面設(shè)一可延長而通過該承窩座中心的縱坐標(biāo)刻線。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進(jìn)的羅盤，其特征在于該磁針盤外殼表面可印上十字坐標(biāo)刻線，以取代縱坐標(biāo)刻線及橫坐標(biāo)刻線。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進(jìn)的羅盤，其特征在于在該磁針盤外殼延十字坐標(biāo)刻線的縱軸兩端各加裝準(zhǔn)星。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進(jìn)的羅盤，其特征在于在該磁針盤與承窩座之間加裝一轉(zhuǎn)盤。
專利摘要一種改進(jìn)的羅盤，其主要由一磁針盤、一基座、一組雷射光組件所組成，該磁針盤包含一磁針盤外殼、方位刻度圓盤，該磁針盤外殼呈中空透明狀以便觀測，該刻度圓盤裝設(shè)于磁針心軸上，利于自由回轉(zhuǎn)；該刻度圓盤的盤面上標(biāo)示八卦二十四山文字及360度等份方位刻度線，并依南北極黏附于磁針，使該刻度圓盤的南北方向永遠(yuǎn)指向地磁南北極；該基座概呈長方體，其后端有中空的內(nèi)空室，前端系低于后端而呈半圓形的承窩座；又該后端表面設(shè)一可延長而通過該承窩座中心的縱坐標(biāo)刻線；該承窩座中心下方設(shè)一相通于內(nèi)空室的指引孔，該指引孔與縱坐標(biāo)刻線同一方向；該內(nèi)空室可裝設(shè)一電池組，該指引孔可供裝設(shè)一雷射光組件；該磁針盤裝設(shè)黏著于承窩座。
文檔編號G01C17/00GK2694230SQ20032010930
公開日2005年4月20日 申請日期2003年10月28日 優(yōu)先權(quán)日2003年10月28日
發(fā)明者王肇祥 申請人:王肇祥