專(zhuān)利名稱(chēng)：一種超越離合器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及離合器技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及超越離合器。
背景技術(shù)：
隨著我國(guó)機(jī)械裝備技術(shù)的不斷提高與發(fā)展，離合器被廣泛的運(yùn)用在機(jī)械傳動(dòng)結(jié)構(gòu)中，以實(shí)現(xiàn)動(dòng)力的制動(dòng)、精確定位、步進(jìn)間隙運(yùn)動(dòng)、自鎖和逆止等目的。按照結(jié)構(gòu)形式的不同，離合器大體上可分為摩擦片式、超越式和楔塊式等集中類(lèi)型，其中摩擦片式離合器能夠隨意控制，如電磁控制、壓盤(pán)控制、推拉桿控制等方式，具有接合平穩(wěn)、力矩大等特點(diǎn)，但瞬間離合性能差，不能夠精確定位和逆止；超越式離合器和楔塊式離合器雖然具有瞬間離合、逆止和精確定位的特點(diǎn)，但不能隨意控制和平穩(wěn)接合。因此，如何使離合器同時(shí)具有上述性能，是本領(lǐng)域技術(shù)人員目前需要解決的技術(shù)問(wèn)題。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種超越離合器。該離合器具有隨意控制、接合平穩(wěn)的特點(diǎn)，又具有逆止精確定位和瞬間離合的功能。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供了一種超越離合器，包括外圈及其內(nèi)部的內(nèi)主盤(pán)和楔緊件，所述楔緊件設(shè)于所述內(nèi)主盤(pán)外緣上均勻分布的楔位中，進(jìn)一步包括用于控制所述楔緊件位置的控制盤(pán)，所述控制盤(pán)與所述內(nèi)主盤(pán)同軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接，其上設(shè)有位于所述楔緊件一側(cè)或兩側(cè)的撥臂。優(yōu)選地，所述楔緊件包括滾柱和頂桿，所述頂桿一端由設(shè)于所述楔位側(cè)壁上的頂桿彈簧支撐，另一端支撐于所述滾柱的外圓周面。優(yōu)選地，所述撥臂位于所述滾柱與頂桿相對(duì)的一側(cè)。優(yōu)選地，所述撥臂位于所述滾柱的兩側(cè)，所述頂桿支撐在與其處于同一側(cè)的撥臂上。優(yōu)選地，所述滾柱與外圈之間墊設(shè)有連接于所述控制盤(pán)的摩擦片。 優(yōu)選地，所述楔緊件具體為楔塊，所述撥臂位于所述楔塊的兩側(cè)。優(yōu)選地，所述楔塊與外圈之間墊設(shè)有連接于所述控制盤(pán)的摩擦片。優(yōu)選地，進(jìn)一步包括壓盤(pán)，所述壓盤(pán)能夠軸向移動(dòng)地套裝于所述內(nèi)主盤(pán)的中心套上，并且與所述控制盤(pán)之間設(shè)有復(fù)位彈簧，所述控制盤(pán)的中心套上設(shè)有斜面，所述壓盤(pán)上設(shè)有與所述斜面相配合的撥柱。優(yōu)選地，進(jìn)一步包括電磁盤(pán)，所述電磁盤(pán)能夠軸向移動(dòng)地套裝于所述內(nèi)主盤(pán)的中心套上，并且與所述控制盤(pán)之間設(shè)有復(fù)位彈簧，所述控制盤(pán)的中心套上設(shè)有斜面，所述電磁盤(pán)上設(shè)有與所述斜面相配合的撥柱。優(yōu)選地，進(jìn)一步包括電磁盤(pán)，所述電磁盤(pán)固定于所述內(nèi)主盤(pán)的中心套上，所述控制盤(pán)的中心套上設(shè)有與所述電磁盤(pán)具有相位角的磁鐵。[0016]優(yōu)選地，所述控制盤(pán)的中心套上設(shè)有推拉桿牽弓I部位。本實(shí)用新型提供的超越離合器在現(xiàn)有超越式離合器的基礎(chǔ)上進(jìn)一步增設(shè)了控制盤(pán)，所述控制盤(pán)上設(shè)有撥臂。工作時(shí)，可驅(qū)動(dòng)控制盤(pán)相對(duì)于內(nèi)主盤(pán)旋轉(zhuǎn)一定角度，進(jìn)而通過(guò)撥臂帶動(dòng)楔位中的楔緊件向楔緊方向或分離方向運(yùn)動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)楔緊塊的控制，即具有隨意控制、接合平穩(wěn)的特點(diǎn)，又具有逆止精確定位和瞬間離合的功能，可用于各種控制形式的機(jī)械轉(zhuǎn)動(dòng)的離合制動(dòng)和精確定位。在一種具體實(shí)施方式
中，所述滾柱或楔塊與外圈之間墊設(shè)有連接于所述控制盤(pán)的摩擦片。通過(guò)摩擦片可增大滾柱或楔塊與外圈內(nèi)壁的接觸面積，延長(zhǎng)其在楔緊時(shí)的滑動(dòng)過(guò)程，進(jìn)而起到平穩(wěn)接觸和傳遞動(dòng)力的作用。

圖1是本實(shí)用新型所提供的常接合型超越離合器的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型所提供的常分離型超越離合器的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是圖1所示超越離合器增設(shè)摩擦片后的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是圖2所示超越離合器增設(shè)摩擦片后的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5是本實(shí)用新型所提供的楔塊式超越離合器的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6是圖5所示超越離合器增設(shè)摩擦片后的結(jié)構(gòu)示意圖；圖7是本實(shí)用新型所提供雙控型超越離合器的結(jié)構(gòu)示意圖；圖8是壓盤(pán)與控制盤(pán)相配合的剖視圖；圖9是電磁盤(pán)與控制盤(pán)相配合的剖視圖；圖10是控制盤(pán)的中心套上設(shè)置推拉桿牽引部位的結(jié)構(gòu)示意圖。圖1至圖10中1.外圈2.內(nèi)主盤(pán)2-1.中心套3.滾柱4.頂桿5.頂桿彈簧6.控制盤(pán)6_1.撥臂6-2.牽引部位7.摩擦片8.楔塊9.壓盤(pán)10.復(fù)位彈簧11.電磁盤(pán)
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型的核心在于提供一種既具有隨意控制、接合平穩(wěn)的特點(diǎn)，又具有逆止精確定位和瞬間離合的功能的超越離合器。為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本實(shí)用新型方案，
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明。本文中的“上、下、左、右”等表示方位的用語(yǔ)是基于附圖的位置關(guān)系，是為了便于描述，不應(yīng)將其理解為對(duì)保護(hù)范圍的絕對(duì)限定。請(qǐng)參考圖1，圖1是本實(shí)用新型所提供的常接合型超越離合器的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖所示，在一種具體實(shí)施方式
中，本實(shí)用新型提供的超越離合器主要由外圈1 及其內(nèi)部的內(nèi)主盤(pán)2和楔緊件等部件構(gòu)成。外圈1是離合器的最外部分，呈圈狀，主要通過(guò)內(nèi)表面?zhèn)鬟f動(dòng)力，可用于主動(dòng)部分或被動(dòng)部分，多為副盤(pán)，也可做主盤(pán)。內(nèi)主盤(pán)2是離合器的主要部件，又稱(chēng)為星輪內(nèi)圈，可以呈盤(pán)狀或圈狀，主要通過(guò)中心套2-1與軸相配合，多為被動(dòng)件，也可用作主動(dòng)件，內(nèi)主盤(pán)也可用于外圈。
4[0038]楔緊件包括滾柱3和頂桿4，滾柱3位于內(nèi)主盤(pán)2外緣上均勻分布的四個(gè)楔位中， 頂桿4 一端由設(shè)于楔位側(cè)壁上的頂桿彈簧5支撐，另一端支撐于滾柱3的外圓周面，頂桿4 在彈簧5的作用下給滾柱3以長(zhǎng)期壓力，使?jié)L柱3處于常接合狀態(tài)，滾柱3用于在外圈1和內(nèi)主盤(pán)2之間傳遞轉(zhuǎn)矩。這里需要說(shuō)明的是，為便于說(shuō)明結(jié)構(gòu)，圖中采用了省略畫(huà)法，僅示出了一組楔緊件，下述附圖與之相似?？刂票P(pán)6與內(nèi)主盤(pán)2同軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接，其上設(shè)有位于滾柱一側(cè)的撥臂6-1，用于控制滾柱3的位置。頂桿4將滾柱3與內(nèi)主盤(pán)2、外圈1始終保持?jǐn)D壓接觸，需要分離時(shí)控制盤(pán)6通過(guò)撥臂6-1推動(dòng)滾柱3向間隙大的方向頂去離開(kāi)外圈1。請(qǐng)參考圖2，圖2是本實(shí)用新型所提供的常分離型超越離合器的結(jié)構(gòu)示意圖。該離合器為常分離型可控制摩擦片超越離合器，其頂桿4將滾柱3向間隙較大的方向頂壓，需要接合時(shí)，控制盤(pán)6相對(duì)于內(nèi)主盤(pán)2轉(zhuǎn)動(dòng)一定角度，通過(guò)撥臂6-1將滾柱3向反方向擠壓接觸，其余結(jié)構(gòu)與上述第一種具體實(shí)施方式
基本相同，具體可參考上文的描述， 就不再贅述。請(qǐng)參考圖3，圖3是圖1所示超越離合器增設(shè)摩擦片后的結(jié)構(gòu)示意圖。可以在上述第一種具體實(shí)施方式
的基礎(chǔ)上作進(jìn)一步改進(jìn)，具體方式是在滾柱3與外圈1之間墊設(shè)有摩擦片7，摩擦片7連接于控制盤(pán)6，且撥臂6-1位于滾柱3的兩側(cè)，頂桿 4支撐在與其處于同一側(cè)的撥臂上，通過(guò)摩擦片7可增大滾柱3與外圈1內(nèi)壁的接觸面積， 延長(zhǎng)其在楔緊時(shí)的滑動(dòng)過(guò)程，進(jìn)而起到平穩(wěn)接觸和傳遞動(dòng)力的作用，其余結(jié)構(gòu)與上述第一種具體實(shí)施方式
基本相同。請(qǐng)參考圖4，圖4是圖2所示超越離合器增設(shè)摩擦片后的結(jié)構(gòu)示意圖?？梢栽谏鲜龅诙N具體實(shí)施方式
的基礎(chǔ)上作進(jìn)一步改進(jìn)，具體方式是在滾柱3與外圈1之間墊設(shè)有摩擦片7，摩擦片7連接于控制盤(pán)6，且撥臂6-1位于滾柱3的兩側(cè)，頂桿 4支撐在與其處于同一側(cè)的撥臂6-1上，通過(guò)摩擦片7可增大滾柱3與外圈1內(nèi)壁的接觸面積，延長(zhǎng)其在楔緊時(shí)的滑動(dòng)過(guò)程，進(jìn)而起到平穩(wěn)接觸和傳遞動(dòng)力的作用，其余結(jié)構(gòu)與上述第一種具體實(shí)施方式
基本相同。請(qǐng)參考圖5，圖5是本實(shí)用新型所提供的楔塊式超越離合器的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖所示，該離合器為楔塊式離合器，與上述幾種離合器的不同之處就在于，其楔緊件為楔塊8，撥臂6-1位于楔塊8的兩側(cè)，當(dāng)楔塊8以正常高度的位置處于外圈1和內(nèi)主盤(pán)2之間時(shí)，離合器處于分離狀態(tài)，當(dāng)楔塊8以對(duì)角線高度的位置處于外圈1和內(nèi)主盤(pán)2之間時(shí)，離合器處于接合狀態(tài)。請(qǐng)參考圖6，圖6是圖5所示超越離合器增設(shè)摩擦片后的結(jié)構(gòu)示意圖。同理，可以在上述楔塊式可控制摩擦片超越離合器的基礎(chǔ)上作進(jìn)一步改進(jìn)，具體方式是在楔塊8與外圈1之間墊設(shè)有摩擦片7，同時(shí)，撥臂6-1的形狀也發(fā)生了變化，呈倒 “U”形，罩扣在楔塊8的頂部。請(qǐng)參考圖7，圖7是本實(shí)用新型所提供雙控型超越離合器的結(jié)構(gòu)示意圖。該離合器具有雙向可控功能，省去了上述頂桿和頂桿彈簧，只通過(guò)控制盤(pán)2進(jìn)行雙方向控制，控制盤(pán)2可以任意控制滾柱3處于正、反、空位置。[0054]上述控制盤(pán)6與內(nèi)主盤(pán)2的相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)可通過(guò)以下幾種方式實(shí)現(xiàn)請(qǐng)參考圖8，圖8是壓盤(pán)與控制盤(pán)相配合的剖視圖。第一種方式為壓盤(pán)結(jié)構(gòu)，壓盤(pán)9套裝于內(nèi)主盤(pán)2的中心套2-1上，能夠軸向移動(dòng)， 并且與控制盤(pán)6之間設(shè)有復(fù)位彈簧10，控制盤(pán)6的中心套上設(shè)有斜面，壓盤(pán)9上設(shè)有與控制盤(pán)斜面相配合的撥柱。上述斜面和撥柱圖中雖然未予示出，但并不影響再現(xiàn)本實(shí)用新型，本領(lǐng)域技術(shù)人員可根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行靈活設(shè)計(jì)，只要在壓盤(pán)壓向內(nèi)主盤(pán)時(shí)能夠使內(nèi)主盤(pán)旋轉(zhuǎn)即可。請(qǐng)參考圖9，圖9是電磁盤(pán)與控制盤(pán)相配合的剖視圖。第二種方式為電磁盤(pán)結(jié)構(gòu)，電磁盤(pán)11套裝于內(nèi)主盤(pán)2的中心套上，能夠軸向移動(dòng)， 并且與控制盤(pán)之間設(shè)有復(fù)位彈簧，控制盤(pán)的中心套上設(shè)有斜面，電磁盤(pán)上設(shè)有與斜面相配合的撥柱。當(dāng)電磁盤(pán)磁11通電時(shí)，在磁力作用下，電磁盤(pán)11向控制盤(pán)方向移動(dòng)，進(jìn)而通過(guò)撥柱帶動(dòng)控制盤(pán)6轉(zhuǎn)動(dòng)一定角度，當(dāng)電磁盤(pán)11斷電時(shí)，在復(fù)位彈簧的作用下，電磁盤(pán)11向遠(yuǎn)離控制盤(pán)方向移動(dòng)，進(jìn)而帶動(dòng)控制盤(pán)6反方向轉(zhuǎn)動(dòng)一定角度。作為一種改進(jìn)，可將電磁盤(pán)固定于內(nèi)主盤(pán)的中心套上，同時(shí)在控制盤(pán)的中心套上設(shè)置磁鐵，使電磁盤(pán)與磁鐵具有一定相位角。這樣，當(dāng)電磁盤(pán)通電時(shí)，便可以通過(guò)磁力帶動(dòng)控制盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)一定角度。請(qǐng)參考圖10，圖10是控制盤(pán)的中心套上設(shè)置推拉桿牽引部位的結(jié)構(gòu)示意圖。當(dāng)上述離合器用于制動(dòng)功能時(shí)，還可以通過(guò)推拉桿直接進(jìn)行控制，其具體方式是在控制盤(pán)6的中心套上設(shè)置推拉桿牽引部位6-2。以上對(duì)本實(shí)用新型所提供的可控制摩擦片超越離合器進(jìn)行了詳細(xì)介紹。本文中應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本實(shí)用新型的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例的說(shuō)明只是用于幫助理解本實(shí)用新型的核心思想。應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下，還可以對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行若干改進(jìn)和修飾，這些改進(jìn)和修飾也落入本實(shí)用新型權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種超越離合器，包括外圈及其內(nèi)部的內(nèi)主盤(pán)和楔緊件，所述楔緊件設(shè)于所述內(nèi)主盤(pán)外緣上均勻分布的楔位中，其特征在于，進(jìn)一步包括用于控制所述楔緊件位置的控制盤(pán)， 所述控制盤(pán)與所述內(nèi)主盤(pán)同軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接，其上設(shè)有位于所述楔緊件一側(cè)或兩側(cè)的撥臂。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超越離合器，其特征在于，所述楔緊件包括滾柱和頂桿，所述頂桿一端由設(shè)于所述楔位側(cè)壁上的頂桿彈簧支撐，另一端支撐于所述滾柱的外圓周面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的超越離合器，其特征在于，所述撥臂位于所述滾柱與頂桿相對(duì)的一側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的超越離合器，其特征在于，所述撥臂位于所述滾柱的兩側(cè)，所述頂桿支撐在與其處于同一側(cè)的撥臂上。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的超越離合器，其特征在于，所述滾柱與外圈之間墊設(shè)有連接于所述控制盤(pán)的摩擦片。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可控制摩擦片超越離合器，其特征在于，所述楔緊件具體為楔塊，所述撥臂位于所述楔塊的兩側(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的超越離合器，其特征在于，所述楔塊與外圈之間墊設(shè)有連接于所述控制盤(pán)的摩擦片。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的超越離合器，其特征在于，進(jìn)一步包括壓盤(pán)，所述壓盤(pán)能夠軸向移動(dòng)地套裝于所述內(nèi)主盤(pán)的中心套上，并且與所述控制盤(pán)之間設(shè)有復(fù)位彈簧，所述控制盤(pán)的中心套上設(shè)有斜面，所述壓盤(pán)上設(shè)有與所述斜面相配合的撥柱。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的超越離合器，其特征在于，進(jìn)一步包括電磁盤(pán)，所述電磁盤(pán)能夠軸向移動(dòng)地套裝于所述內(nèi)主盤(pán)的中心套上，并且與所述控制盤(pán)之間設(shè)有復(fù)位彈簧，所述控制盤(pán)的中心套上設(shè)有斜面，所述電磁盤(pán)上設(shè)有與所述斜面相配合的撥柱。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的超越離合器，其特征在于，進(jìn)一步包括電磁盤(pán)，所述電磁盤(pán)固定于所述內(nèi)主盤(pán)的中心套上，所述控制盤(pán)的中心套上設(shè)有與所述電磁盤(pán)具有相位角的磁鐵。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的超越離合器，其特征在于，所述控制盤(pán)的中心套上設(shè)有推拉桿牽引部位。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種超越離合器，包括外圈及其內(nèi)部的內(nèi)主盤(pán)和楔緊件，所述楔緊件設(shè)于所述內(nèi)主盤(pán)外緣上均勻分布的楔位中，進(jìn)一步包括用于控制所述楔緊件位置的控制盤(pán)，所述控制盤(pán)與所述內(nèi)主盤(pán)同軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接，其上設(shè)有位于所述楔緊件一側(cè)或兩側(cè)的撥臂。該離合器具有隨意控制、接合平穩(wěn)的特點(diǎn)，又具有逆止精確定位和瞬間離合的功能。
文檔編號(hào)F16D27/02GK202012587SQ20112011570
公開(kāi)日2011年10月19日 申請(qǐng)日期2011年4月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月19日
發(fā)明者周保民 申請(qǐng)人:周保民